1.一种曝光装置，具有对原版进行照明的照明光学系统以及将所述原版的图案投影到基板的投影光学系统，所述曝光装置在使所述原版或者所述基板相对于所述投影光学系统的像面倾斜的状态下，一边对所述原版以及所述基板进行扫描，一边对所述基板进行曝光，所述曝光装置的特征在于，具有：
调整部，调整所述原版或者所述基板相对于所述像面的倾斜；以及
控制部，控制所述调整部，
所述控制部使所述原版或者所述基板向以使形成于所述基板的拍摄区域上的潜像的错误变小的方式决定的方向倾斜。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述控制部获取第1错误，该第1错误是在使所述原版或者所述基板不倾斜的状态下对所述拍摄区域进行曝光的情况下的、形成于所述拍摄区域上的潜像的错误，
所述控制部求出第2错误，该第2错误是在使所述原版或者所述基板向第1方向倾斜的状态下对所述拍摄区域进行曝光的情况下的、形成于所述拍摄区域上的潜像的该倾斜所引起的错误，
所述控制部求出第3错误，该第3错误是在使所述原版或者所述基板向方向与所述第1方向相反的第2方向倾斜的状态下对所述拍摄区域进行曝光的情况下的、形成于所述拍摄区域上的潜像的该倾斜所引起的错误，
所述控制部根据合成所述第1错误和所述第2错误而得到的第1合成错误与合成所述第1错误和所述第3错误而得到的第2合成错误的比较结果，决定所述原版或者所述基板的倾斜方向。
3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，
所述照明光学系统包括规定所述原版的照明区域的照明视野光圈，
所述控制部求出根据取决于由所述照明视野光圈形成的狭缝的与扫描方向正交的方向上的各位置的宽度的散焦系数、和起因于所述基板的倾斜而形成于所述拍摄区域上的潜像的错误而计算的、与所述狭缝的形状相应的所述潜像的错误，作为所述第2错误或者所述第3错误。
4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，
所述控制部一边以校正所述第2错误或者所述第3错误的方式驱动所述投影光学系统所包含的透镜，一边进行曝光。
5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，
所述控制部根据关于所述基板的多个倾斜量的各个倾斜量的因所述基板的倾斜而产生的错误的数据，求出所述第2错误以及所述第3错误。
6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述控制部针对排列于所述基板的多个拍摄区域的每个拍摄区域，进行由所述调整部进行的所述倾斜的调整。
7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述控制部针对排列于所述基板的多个拍摄区域的、曝光的顺序连续且扫描方向相互相同的每个群组，进行由所述调整部进行的所述倾斜的调整，在各群组内使所述倾斜的调整状态成为固定。
8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述控制部作为曝光控制模式而具有使曝光精度优先的精度优先模式和使产量优先的产量优先模式，在选择所述精度优先模式的情况下，针对排列于所述基板的多个拍摄区域的各个拍摄区域，进行由所述调整部进行的所述倾斜的调整，在选择所述产量优先模式的情况下，针对所述多个拍摄区域的、曝光的顺序连续且扫描方向相互相同的每个群组，进行由所述调整部进行的所述倾斜的调整，在各群组内使所述倾斜的调整状态成为固定。
9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述潜像的错误是潜像的位置偏离、失真度、线宽的误差中的任意错误。
10.一种物品制造方法，其特征在于，包括：
使用权利要求1至9中的任意一项所述的曝光装置对基板进行曝光的工序；以及
使在所述工序中被曝光的所述基板显影的工序，
从显影后的所述基板制造物品。