技术总结
本发明公开了一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅。本发明的宽光谱抗反射增透结构中包括:衬底,还包括设置于所述衬底至少一侧表面的若干锥状抗反射结构,锥状抗反射结构的底部横向尺寸为20~150nm,分布密度为3~20根/um2,若干锥状抗反射结构在不同高度范围内的数量百分比分布为:100nm以下:0%~5%,100nm~150nm:50%~60%,150nm~200nm:25%~35%,200nm~260nm:10%~20%。本发明产品在更宽的波长范围内具有更优异的抗反射性能。
技术研发人员:毛海央;杨宇东;杨帅;陈大鹏
受保护的技术使用者:无锡物联网创新中心有限公司
技术研发日:2019.12.09
技术公布日:2020.03.27