1.一种光刻用真空基片夹具，其特征在于：包括一个与基片贴合的真空载物台；所述载物台内设有n组真空吸附结构，n为自然数且n≧1；真空吸附结构在载物台平面上的投影面积略小于待吸附基片的面积；
每组所述真空吸附结构包括沿真空载物台厚度方向设置的m个真空孔，m为自然数且m≧1；所述真空孔为通孔；相邻的真空孔之间通过设在真空载物台内部的真空槽相连通；
所述载物台底部设有与真空吸附结构配套的n个真空吸盘；真空吸附结构的底部被对应的真空吸盘覆盖；真空吸盘与载物台相接处密封；
每个所述真空吸盘的根部中心设有一根与真空吸附结构连通的真空管，n个真空管与设在真空管末端的一个共同的真空总开关连接。
2.如权利要求1所述的光刻用真空基片夹具，其特征在于：每个所述真空管上设有一个控制该真空管工作状态的真空分开关。
3.如权利要求1所述的光刻用真空基片夹具，其特征在于：n组真空吸附结构在载物台上的投影面积大小不等。
4.如权利要求1所述的光刻用真空基片夹具，其特征在于：m＝3。
5.如权利要求4所述的光刻用真空基片夹具，其特征在于：3个所述真空孔呈等边三角形排列，待吸附基片的中心与该等边三角形的中心重合。