一种掩膜版用的曝光补偿装置的制作方法

本申请涉及掩膜版技术领域，特别涉及一种掩膜版用的曝光补偿装置。

背景技术：

掩膜版为一种由表面金属薄膜记载图形、文字等信息的介质载板。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版。

在对掩膜版进行曝光时，需要使用光刻机将掩膜版原材料表面的感光胶进行感光处理，从而获得预期掩膜图形。在进行曝光时，光刻机的镜头聚焦到掩膜版上并水平移动，实现对掩膜版原材料的整个表面的曝光。但是，在对异形掩膜版进行曝光时，例如，在对斜面掩膜版进行曝光时，常出现曝光后掩膜版上图形质量不合格的情况。

技术实现要素：

本申请提供一种掩膜版用的曝光补偿装置，用以解决斜面掩膜版曝光后图形质量异常的问题。

本申请所提供的一种掩膜版用的曝光补偿装置，包括承载板，所述承载板的一侧具有接触平面，用于与光刻机平台接触，所述承载板的另一侧具有承载面，所述承载面为斜面，用于承载斜面掩膜版，并垫高斜面掩膜版厚度较薄的一侧，以使斜面掩膜版远离承载板的一侧与光刻机平台平行。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述承载板具有贯通的吸气孔，用于与负压源连通，以通过负压固定承载板上的斜面掩膜版。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述吸气孔设置在承载板的中心。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述承载板用于与斜面掩膜版接触的一侧具有吸气槽，所述吸气槽与吸气孔连通。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述吸气槽设置有两条，所述两条吸气槽交叉设置。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述两条吸气槽的交叉点位于承载板的中心，所述吸气孔位于两条吸气槽的交叉点。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，还包括阻拦板，所述阻拦板沿承载板的周向凸起设置，用于限制斜面掩膜版不在承载板上运动。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述阻拦板的内侧壁具有导向斜面，用于对斜面掩膜版沿垂直于承载板方向的运动起导向作用。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述承载板和阻拦板为一体成型的结构。

作为所述曝光补偿装置的进一步改进，所述承载板为矩形板。

本申请的有益效果：

本申请所提供的一种掩膜版用的曝光补偿装置，包括承载板，承载板的一侧具有接触平面，用于与光刻机平台接触，承载板的另一侧具有承载面，承载面为斜面，用于承载斜面掩膜版，并垫高斜面掩膜版厚度较薄的一侧，以使斜面掩膜版远离承载板的一侧与光刻机平台平行。对掩膜版进行曝光时，光刻机镜头需要与掩膜版保持恒定的距离，以保证曝光后掩膜版的图形质量，曝光斜面掩膜版时，光刻机镜头从斜面掩膜版厚度较大的一侧运动到厚度较小的一侧时，光刻机镜头与掩膜版的距离不断变大，导致曝光后掩膜版的图形质量异常。因此，在曝光斜面掩膜版时，将斜面掩膜版放置到承载板上，使得斜面掩膜版上表面平行于光刻机平台，在曝光过程中，光刻机镜头与掩膜版上表面的距离保持恒定，从而保证了掩模板的曝光效果，使得曝光后掩模板上图形的质量合格。

附图说明

图1为原有方案中光刻机镜头、斜面掩膜版和光刻机平台的结构示意图；

图2为本申请一种实施例中承载板和阻拦板的俯视图；

图3为本申请一种实施例中承载板和阻拦板的剖视图；

图4为本申请一种实施例中光刻机镜头、斜面掩膜版、承载板、阻拦板和光刻机平台的结构示意图。

附图标记：100、承载板；110、接触平面；120、承载面；130、吸气孔；140、吸气槽；200、阻拦板；300、斜面掩膜版；400、光刻机平台；500、光刻机镜头。

具体实施方式

下面通过具体实施方式结合附图对本申请作进一步详细说明，其中不同实施方式中类似元件采用了相关联的类似的元件标号。在以下的实施方式中，很多细节描述是为了使得本申请能被更好的理解。然而，本领域技术人员可以毫不费力的认识到，其中部分特征在不同情况下是可以省略的，或者可以由其他元件、材料、方法所替代。在某些情况下，本申请相关的一些操作并没有在说明书中显示或者描述，这是为了避免本申请的核心部分被过多的描述所淹没，而对于本领域技术人员而言，详细描述这些相关操作并不是必要的，他们根据说明书中的描述以及本领域的一般技术知识即可完整了解相关操作。

另外，说明书中所描述的特点、操作或者特征可以以任意适当的方式结合形成各种实施方式。同时，方法描述中的各步骤或者动作也可以按照本领域技术人员所能显而易见的方式进行顺序调换或调整。因此，说明书和附图中的各种顺序只是为了清楚描述某一个实施例，并不意味着是必须的顺序，除非另有说明其中某个顺序是必须遵循的。

本文中为部件所编序号本身，例如“第一”、“第二”等，仅用于区分所描述的对象，不具有任何顺序或技术含义。而本申请所说“连接”、“联接”，如无特别说明，均包括直接和间接连接(联接)。

通过对斜面掩膜版曝光后图形质量异常这一问题进行分析和实验，发明人发现造成这一问题的原因如下：

请参考图1，在现有技术中，对掩膜版进行曝光时，光刻机镜头500需要与掩膜版保持恒定的距离(约为10～30um之间)，才能保证曝光后掩膜版的图形质量，曝光斜面掩膜版300时，光刻机镜头500从斜面掩膜版300厚度较大的一侧运动到厚度较小的一侧时(图1中箭头a所示方向为光刻机镜头500曝光方向，即左右平移，距离b为光刻机镜头500到斜面掩膜版300的距离)，光刻机镜头500与掩膜版的距离不断变大，导致曝光后掩膜版的图形质量异常。为了解决这个问题，本实施例提供一种掩膜版用的曝光补偿装置。

本实施例提供一种掩膜版用的曝光补偿装置。

请参考图2-4，该曝光补偿装置包括承载板100，承载板100的一侧具有接触平面110，用于与光刻机平台400接触，承载板100的另一侧具有承载面120，承载面120为斜面，用于承载斜面掩膜版300，并垫高斜面掩膜版300厚度较薄的一侧，以使斜面掩膜版300远离承载板100的一侧与光刻机平台400平行。

请继续参考图2-4，在曝光斜面掩膜版300时，将斜面掩膜版300放置到承载板100上，使得斜面掩膜版300上表面平行于光刻机平台400，在曝光过程中，光刻机镜头500与掩膜版上表面的距离保持恒定，从而保证了掩模板的曝光效果，使得曝光后掩模板上图形的质量合格。具体的，图4中箭头c所示的方向为光刻机镜头500曝光方向，即左右平移，距离d为光刻机镜头500到斜面掩膜版300的距离。

请参考图2和3，在一种实施例中，承载板100具有贯通的吸气孔130，用于与负压源连通，以通过负压固定承载板100上的斜面掩膜版300。光刻机平台400通过负压(吸气)固定柱斜面掩膜版300和曝光补偿装置。

请参考图2，在一种实施例中，吸气孔130设置在承载板100的中心。使得吸气孔130的吸力可以作用在斜面掩膜版300的中部，有利于提升对斜面掩膜版300的固定效果。

请参考图2和4，在一种实施例中，承载板100用于与斜面掩膜版300接触的一侧具有吸气槽140，吸气槽140与吸气孔130连通。通过吸气槽140增大了吸力的在斜面掩膜版300上的作用范围，有利于提升对斜面掩膜版300的固定效果。

请参考图2和4，在一种实施例中，吸气槽140设置有两条，两条吸气槽140交叉设置。通过两条吸气槽140进一步增大了吸力在斜面掩膜版300上的作用范围。

请参考图2，在一种实施例中，两条吸气槽140的交叉点位于承载板100的中心，吸气孔130位于两条吸气槽140的交叉点。

在其他实施例中，吸气槽140也可以设置一条、三条或其他合适的数量，吸气槽140也可以排布成v形、u形或其他合适的形状。

请参考图2-4，在一条实施例中，曝光补偿装置还包括阻拦板200，阻拦板200沿承载板100的周向凸起设置，用于限制斜面掩膜版300不在承载板100上运动。通过阻拦板200限制斜面掩膜版300不在承载板100上运动，使得斜面掩膜版300在承载板100上的放置更加稳定可靠。

请参考图3和4，在一种实施例中，阻拦板200的内侧壁具有导向斜面，用于对斜面掩膜版300沿垂直于承载板100方向的运动起导向作用。在取放承载板100上的斜面掩膜版300时，导向斜面能够起到导向作用。

请参考图2和3，在一种实施例中，承载板100和阻拦板200为一体成型的结构。使得曝光补偿装置的结构强度和稳定性更强。

在其他实施例中，承载板100和阻拦板200也可以是两个独立的构件，承载板100和阻拦板200间可以是固定连接或可拆卸式连接。

请参考图2和3，在一种实施例中，承载板100为矩形板。承载板100采用矩形板时与斜面掩膜版300的形状相适应。

在其他实施例中，承载板100也可以根据斜面掩膜版300的形状设置成其他不同的形状。

以上内容是结合具体的实施方式对本申请所作的进一步详细说明，不能认定本申请的具体实施只局限于这些说明。对于本申请所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换。