阵列基板、显示面板及显示装置的制作方法

本发明涉及显示设备领域，特别是一种阵列基板、显示面板及显示装置。

背景技术：

随着薄膜晶体管(thinfilmtransistor，简称tft)液晶显示技术的不断发展，越来越多的新技术不断地被提出和应用，例如高分辨率、高开口率、阵列基板行驱动(gateonarray，简称goa)技术等。其中，为了降低成本得到窄边框的tft显示面板，goa结构变得尤为重要。

然而，goa结构的引入同时也带来了阵列基板结构设计的复杂性，增加了制作阵列基板的构图工艺数量及难度。对于采用goa工艺驱动的tft-lcd产品，因goa区域线路设计复杂，不可避免地会需要使用交接走线的设计。但是，在走线的交接处容易积累电荷，造成上下两层走线尖端放电而发生esd(electrostaticdischarge，静电释放)。

技术实现要素：

本发明的目的是提供一种阵列基板、显示面板及显示装置，以解决现有技术中走线交接处容易发生静电释放的问题。

为实现上述目的，本发明提供一种阵列基板，所述阵列基板中具有一goa区，在所述goa区内包括一基板、一第一金属层、一绝缘层、一第二金属层以及一保护层。

其中，所述第一金属层设于所述基板上。所述绝缘层设于所述基板上覆盖所述第一金属层。所述第二金属层设于所述第二金属层上。所述保护层设于所述绝缘层与第二金属层之间。

进一步地，所述第一金属层中具有至少两条第一走线，相邻的两条第一走线之间并列设置。所述第二金属层中具有至少两条第二走线，相邻的两条第二走线之间并列设置。

进一步地，所述阵列基板具有跨线区，在所述跨线区内，所述第二走线在所述第一金属层上的正投影与所述第一走线重叠。

进一步地，所述保护层覆盖所述跨线区。

进一步地，所述第一走线的线宽小于所述保护层的宽度。

进一步地，所述保护层的厚度小于所述绝缘层的厚度。

进一步地，所述保护层中包含非晶硅。

进一步地，所述绝缘层中包含硅氮化物。

本发明中还提供一种显示面板，所述显示面板中包括如上所述的阵列基板。

本发明中还提供一种显示装置，所述显示装置中包括如上所述的显示面板。

本发明的优点是：

本发明中的一种阵列基板，其通过在第二金属层和绝缘层之间增设含有非晶硅的保护层，通过保护层释放积累的电荷，避免发生静电释放(esd)，从而提高显示面板和显示装置的稳定性以及可靠度，提升产品良率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中阵列基板的层状结构示意图；

图2为本发明实施例中阵列基板的走线分布示意图。

图中部件表示如下：

阵列基板100；跨线区101；

基板110；第一金属层120；

第一走线121；绝缘层130；

保护层140；第二金属层150；

第二走线151。

具体实施方式

以下参考说明书附图介绍本发明的优选实施例，证明本发明可以实施，所述发明实施例可以向本领域中的技术人员完整介绍本发明，使其技术内容更加清楚和便于理解。本发明可以通过许多不同形式的发明实施例来得以体现，本发明的保护范围并非仅限于文中提到的实施例。

在附图中，结构相同的部件以相同数字标号表示，各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。附图所示的每一部件的尺寸和厚度是任意示出的，本发明并没有限定每个组件的尺寸和厚度。为了使图示更清晰，附图中有些地方适当夸大了部件的厚度。

此外，以下各发明实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定发明实施例。本发明中所提到的方向用语，例如，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本发明，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

当某些部件被描述为“在”另一部件“上”时，所述部件可以直接置于所述另一部件上；也可以存在一中间部件，所述部件置于所述中间部件上，且所述中间部件置于另一部件上。当一个部件被描述为“安装至”或“连接至”另一部件时，二者可以理解为直接“安装”或“连接”，或者一个部件通过一中间部件间接“安装至”、或“连接至”另一个部件。

本发明实施例中提供了一种显示装置，所述显示装置采用lcd(liquidcrystaldisplay，液晶显示器)显示技术，其可以为笔记本电脑、手机、平板电脑、电视机等具有画面显示功能的装置。

所述显示装置中具有一显示面板，所述显示面板为所述显示装置提供显示画面。所述显示面板中具有一阵列基板100，所述阵列基板100用于控制所述显示面板的显示画面。

所述阵列基板100中具有一goa区，如图1所示，在所述goa区内具有一基板110，在所述基板110上具有一第一金属层120、一绝缘层130、一第二金属层150以及一保护层140。

所述第一金属层120设于所述基板110上。如图2所示，所述第一金属层120中具有至少5条第一走线121，相邻的两条第一走线121之间并列设置。所述第一金属层120的材料中包含导电性能优异的金属材料，例如银、铜、钼等金属材料中的一种或多种。

所述绝缘层130设于所述基板110上，并且覆盖所述第一金属层120。所述绝缘层130用于绝缘保护所述第一金属层120，防止水氧入侵造成的第一金属层120氧化，提高器件的稳定性。所述绝缘层130为无机绝缘材料，例如硅氮化物、硅氧化物等。

所述第二金属层150设于所述绝缘层130远离所述基板110的一表面上。如图2所示，所述第二金属层150中具有至少6条第二走线151，相邻的第二走线151之间并列设置，且具有一空隙，所述第二走线151之间的空隙宽度相同。所述第二金属层150的材料中也包含导电性能优异的金属材料，例如银、铜、钼等金属材料中的一种或多种。

如图2所示，在所述阵列基板100的goa区内还具有跨线区101。在所述跨线区101内，所述第二金属层150中的第二走线151在所述第一金属层120上的正投影与所述第一走线121重叠，即所述第二走线151在所述跨线区101内与所述第一走线121交叠。

如图1所示，由于在所述跨线区101内具有所述第一金属层120，所以所述跨线区101内的第二金属层150与所述跨线区101外的第二金属层150之间具有阶差，所述跨线区101内的第二金属层150高于所述跨线区101外的第二金属层150。所述绝缘层130也与所述第二金属层150一样，其在所述跨线区101内的高度高于其在跨线区101外的高度。

所述保护层140设于所述第二金属层150与所述绝缘层130之间，并且覆盖所述跨线区101。所述第一金属层120中第一走线121的线宽小于所述保护层140的宽度，并且所述保护层140的厚度小于所述绝缘层130的厚度。所述保护层140中具有非晶硅(a-si),能够形成电子传输通道。由于所述跨线区101的存在，所述第二金属层150在跨线区101和跨线区101外的交接处容易积累电荷，所述保护层140中的非晶硅就可以通过其电子传输通道将交接处的电荷释放，防止电荷积累而产生的静电释放(esd)，提高所述阵列基板100的可靠度。

本发明实施例中的一种阵列基板100，其通过在第二金属层150和绝缘层130之间增设含有非晶硅的保护层140，通过保护层140释放积累的电荷，避免发生静电释放(esd)，从而提高显示面板的稳定性以及可靠度，提升产品良率。

虽然在本文中参照了特定的实施方式来描述本发明，但是应该理解的是，这些实施例仅仅是本发明的原理和应用的示例。因此应该理解的是，可以对示例性的实施例进行许多修改，并且可以设计出其他的布置，只要不偏离所附权利要求所限定的本发明的精神和范围。应该理解的是，可以通过不同于原始权利要求所描述的方式来结合不同的从属权利要求和本文中所述的特征。还可以理解的是，结合单独实施例所描述的特征可以使用在其他所述实施例中。