一种应用大理石平台的光刻机的制作方法

1.本实用新型涉及光刻机技术领域，特别涉及一种应用大理石平台的光刻机。


背景技术：

2.光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩模板上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。
3.现有的光刻机包括机台、上模板、下模板、相机模组以及光源模组等，上模板、下模板、相机模组以及光源模组等均设置在机台上。其中，机台为钢板结构，稳定性较差，容易受环境的影响发生振动。由于光刻机对精度要求较高，即使是微小的振动都会对光刻的精度造成较大的影响，故急需针对这种情况进行解决。


技术实现要素：

4.有鉴于此，本实用新型提供一种应用大理石平台的光刻机，主要所要解决的技术问题是：如何降低机台的振动，提高光刻机的加工精度。
5.为达到上述目的，本实用新型主要提供如下技术方案：
6.本实用新型的实施例提供一种应用大理石平台的光刻机，其包括机台、支撑框、用于安装掩模板的上模板、用于装载晶圆的下模板、用于采集晶圆上靶标信息的相机模组、用于提供曝光光线的光源模组以及电器件；所述机台为大理石平台，所述大理石平台上设有供线缆穿过的过孔；所述支撑框用于对机台提供支撑；所述上模板、下模板、相机模组以及光源模组均安装在机台的上侧；所述电器件用于设置在支撑框内、且通过线缆与相机模组和/或光源模组的控制系统连接，以对相应模组进行控制。
7.可选的，所述支撑框设置在机台的下侧，且与机台固定连接。
8.可选的，所述机台通过螺栓与支撑框固定连接；其中，所述支撑框与机台之间设有垫块，所述垫块上设有供螺栓穿过的第一通孔。
9.可选的，所述支撑框上设有第一外壳，所述第一外壳用于将电器件容纳在内部，所述第一外壳具有可开合的第一门体。
10.可选的，所述上模板可相对下模板升降。
11.可选的，所述上模板上设有导向柱，所述导向柱用于依次穿过下模板和机台；所述支撑框内设有驱动机构，所述驱动机构用于通过导向柱驱动所述上模板升降。
12.可选的，所述机台的上侧设有第一支撑柱，所述机台通过所述第一支撑柱与下模板固定连接，所述第一支撑柱上还设有供导向柱穿过的第二通孔。
13.可选的，所述第一支撑柱的数量为四个、且一一对应地设置在下模板的四个角。
14.可选的，所述机台的上侧设有第二支撑柱，所述机台通过所述第二支撑柱与光源模组固定连接。
15.可选的，所述机台的上侧还设有第二外壳，所述第二外壳用于将上模板、下模板、
相机模组以及光源模组容纳在内部，所述第二外壳具有可开合的第二门体。
16.借由上述技术方案，本实用新型应用大理石平台的光刻机至少具有以下有益效果：
17.1、由于采用大理石平台作为机台，大理石平台的稳定性较好，不易受到环境的影响而发生振动，有利于提高光刻机的加工精度；
18.2、由于将电器件单独设置在机台下侧的支撑框内，从而使机台上侧的光刻结构看起来更加简洁。
19.上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
20.图1是本实用新型的一实施例提供的一种应用大理石平台的光刻机的结构示意图；
21.图2是本实用新型的一实施例提供的一种应用大理石平台的光刻机隐藏部分第一外壳和第二外壳的结构示意图；
22.图3是图2中a处的放大结构示意图。
23.附图标记：1、机台；2、第一外壳；3、第二外壳；4、上模板；5、下模板；6、第一支撑柱；7、导向柱；8、驱动机构；9、支脚；10、电器件；11、相机模组；12、光源模组；13、第二支撑柱；14、支撑框；15、螺栓；16、垫块；17、限位套。
具体实施方式
24.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
25.需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
26.另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。
27.如图1和图2所示，本实用新型的一个实施例提出的一种应用大理石平台的光刻机，其包括机台1、支撑框14、用于安装掩模板的上模板4、用于装载晶圆的下模板5、用于采集晶圆上靶标信息的相机模组11、用于提供曝光光线的光源模组12以及电器件10。其中，机台1可以为大理石平台，大理石平台上设有供线缆穿过的过孔。
28.支撑框14用于对机台1提供支撑。支撑框14可以设置在机台1的下侧，且与机台1固定连接，支撑框14可以将机台1稳定地支撑在地面上。在一个具体的应用示例中，如图3所示，机台1可以通过螺栓15与支撑框14固定连接，支撑框14与机台1之间还设有垫块16，垫块16上设有供螺栓15穿过的第一通孔。其中，支撑框14具有上框架，上框架上设有供螺栓15穿过的另一过孔，螺栓15的螺杆用于依次穿过机台1、垫块16上的第一通孔以及上框架上的另一过孔。机台1上可以设有沉头孔，螺栓15的螺帽用于容置在沉头孔内。上述垫块16和螺栓15的数量相等、且均为两个以上，垫块16和螺栓15两者一一对应设置，每个螺栓15均穿过相对应的一个垫块16。其中，垫块16在机台1的周向上依次间隔设置。通过设置的垫块16，可以减少对支撑框14的磨损；并且由于垫块16的体积较小，在磨损后更换也较方便，更换成本较低。
29.前述的上模板4、下模板5、相机模组11以及光源模组12均安装在机台1的上侧。电器件10用于设置在支撑框14内、且通过线缆与相机模组11和/或光源模组12的控制系统连接，以对相应模组进行控制。其中，电器件10可以包括控制器等，其可以通过线缆向相机模组11和/或光源模组12的控制系统发生指令，以对相应模组进行控制，比如可以对相机模组11的拍照以及运动进行控制，或对光源模组12的光线照射时间、光线强度等进行控制。其中，由于将电器件10单独设置在机台1下侧的支撑框14内，从而使机台1上侧的光刻结构看起来更加简洁。
30.在上述示例中，由于采用大理石平台作为机台1，大理石平台的稳定性较好，不易受到环境的影响而发生振动，有利于提高光刻机的加工精度。
31.如图1所示，前述的支撑框14上可以设有第一外壳2，该第一外壳2用于将电器件10容纳在内部，以对电器件10提供壳体保护。第一外壳2具有可开合的第一门体，以方便作业人员对内部的电器件10进行维修或更换等。其中，第一门体可以为转动门。
32.如图1所示，上述支撑框14的底部还可以设有支脚9，支脚9的数量可以为四个，且一一对应地设置在支撑框14的四个角。
33.前述的上模板4还可相对下模板5升降，当上模板4相对下模板5上升时，上模板4与下模板5之间的间距增大，如此有利于作业人员对晶圆进行上下料操作。
34.如图2所示，为了提高上模板4的升降精度，上模板4上可以设有导向柱7，导向柱7固定在上模板4上。导向柱7用于依次穿过下模板5和机台1。前述的支撑框14内设有驱动机构8，驱动机构8用于通过导向柱7驱动上模板4升降。其中，驱动机构8可以包括丝杆电机，以通过丝杆电机驱动导向柱7，使导向柱7带动上模板4升降。在本示例中，由于将驱动机构8设置在支撑框14内，可以简化机台1上侧光刻结构的结构。
35.如图2所示，上述的导向柱7上可以固定地套设有限位套17，限位套17位于上模板4与下模板5之间。其中，导向柱7可以卡固在限位套17上，限位套17通过螺丝与上模板4固定。在本示例中，通过设置的限位套17，可以防止上模板4与下模板5两者过度靠近而损伤晶圆。
36.如图2所示，前述机台1的上侧可以设有第一支撑柱6，机台1通过第一支撑柱6与下模板5固定连接。第一支撑柱6的一端与机台1固定连接，比如通过螺丝固定等；另一端与上模板4固定连接，比如通过螺丝固定等。其中，第一支撑柱6上还可以设有供导向柱7穿过的第二通孔，如此，导向柱7可以依次穿过下模板5、第一支撑柱6和机台1。导向柱7从第一支撑柱6内部穿过，有利于充分利用空间，节省体积。
37.前述第一支撑柱6的数量可以为四个、且一一对应地设置在下模板5的四个角，四个第一支撑柱6相互配合，可以对下模板5提供稳定地支撑。
38.如图2所示，前述机台1的上侧设有第二支撑柱13，机台1通过第二支撑柱13与光源模组12固定连接。第二支撑柱13的一端与光源模组12固定连接，比如通过螺丝固定等；第二支撑柱13的另一端与机台1固定连接，比如通过螺丝固定等。在本示例中，通过设置的第二支撑柱13，可以将光源模组12稳定地支撑在机台1上。
39.如图1所示，前述机台1的上侧还可以设有第二外壳3，该第二外壳3用于将上模板4、下模板5、相机模组11以及光源模组12容纳在内部，以防止外部环境对光刻的精度造成影响，并且也可以对内部的部件提供壳体保护。其中，第二外壳3具有可开合的第二门体，以方便作业人员对内部的部件进行维修或更换等。该第二门体优选的为转动门体。
40.下面介绍一下本实用新型的工作原理和优选实施例。
41.本实用新型在于设计一种应用大理石平台的光刻机，其采用大理石平台作为机台1，大理石平台的稳定性较好，不易受到环境的影响而发生振动，有利于提高光刻机的加工精度。
42.其中，大理石平台上可以设有供线缆穿过的过孔，上模板4、下模板5、相机模组11以及光源模组12均安装在机台1的上侧，电器件10安装在大理石平台下侧的支撑框14内，电器件10通过线缆与各模组的控制系统连接。由于将电器件10单独设置在机台1下侧的支撑框14内，从而使机台1上侧的光刻结构看起来更加简洁。
43.这里需要说明的是：在不冲突的情况下，本领域的技术人员可以根据实际情况将上述各示例中相关的技术特征相互组合，以达到相应的技术效果，具体对于各种组合情况在此不一一赘述。
44.以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。