1.一种与光源通信的预测装置，所述光源被配置为产生供光刻曝光设备使用的脉冲光束，所述预测装置包括：
2.根据权利要求1所述的预测装置，其中所述光源模块被配置为在将所述预测发射图案提供给所述光源之前确定与所接收的所述标识符相关联的所述预测发射图案。
3.根据权利要求1所述的预测装置，还包括预测模块，所述预测模块被配置为创建与所接收的所述标识符相关联的所述预测发射图案。
4.根据权利要求3所述的预测装置，其中所述预测模块被配置为创建所述预测图案包括：在接收到所述标识符之后的多个实例中观察所述光源的所述实际发射图案。
5.根据权利要求1所述的预测装置，其中所述预测发射图案在根据由所述光刻曝光设备限定的一组稳定的性能规格产生所述脉冲光束的同时根据减小的操作空间改进所述光源的稳定性。
6.根据权利要求5所述的预测装置，其中所述减小的操作空间对应于如下操作空间，所述操作空间小于所述光源的完全允许的操作空间，用于控制全部范围的干扰以提供所述稳定的性能规格。
7.根据权利要求5所述的预测装置，其中由所述光刻曝光设备限定的所述稳定的性能规格包括所述脉冲光束的能量和所述脉冲光束的一个或多个光谱特征。
8.根据权利要求1所述的预测装置，其中所述光源模块与所述光源内的一个或多个控制模块通信，所述一个或多个控制模块被配置为使得能够根据所述减小的操作空间来操作所述光源。
9.根据权利要求8所述的预测装置，其中所述光源内的所述一个或多个控制模块被配置为控制所述光源的一个或多个光学振荡器和光学放大器的操作。
10.根据权利要求9所述的预测装置，其中所述光源内的所述一个或多个控制模块被配置为基于由所述预测发射图案确定的减小的操作空间来控制所述光源的所述一个或多个光学振荡器和所述光学放大器的操作。
11.根据权利要求10的预测装置，其中所述一个或多个控制模块包括：
12.根据权利要求1所述的预测装置，其中所接收的所述标识符对应于施加到被定位在所述光刻曝光设备中的单批次的一个或多个衬底的所述实际发射图案，所述一个或多个衬底被配置为接收所述脉冲光束。
13.根据权利要求1的预测装置，其中针对相关联的所接收的所述标识符预测所述实际发射图案的特性的所述预测发射图案指示以下中的一项或多项：每个突发的脉冲光束的脉冲数、突发内的脉冲的重复率以及突发间的时间间隔。
14.根据权利要求1所述的预测装置，其中所述光刻模块被配置为在所述光源根据所述实际发射图案产生所述脉冲光束之前接收所述标识符。
15.根据权利要求1所述的预测装置，其中，在任一时刻，所述光刻模块被配置为接收单个标识符并向所述光源提供与所接收的所述单个标识符相关联的预测发射图案。
16.根据权利要求15所述的预测装置，其中，随着时间的推移，所述光刻模块被配置为接收多个不同的标识符，并且向所述光源提供与每个接收到的标识符相关联的预测发射图案。
17.根据权利要求1所述的预测装置，其中所述光源模块被配置为向所述光源提供所述预测发射图案以使所述光源能够根据所述实际发射图案产生所述脉冲光束包括：在所述光源接收基于所述实际发射图案操作的请求之前向所述光源提供预测发射图案。
18.根据权利要求1所述的预测装置，其中所接收的所述标识符是不适于输入到所述光源的字母数字字符串。
19.根据权利要求1所述的预测装置，其中提供给所述光源的所述预测发射图案改善了由所述光源根据所述实际发射图案产生的所述脉冲光束的稳定性。
20.根据权利要求1所述的预测装置，其中所述光刻模块被配置为从所述光刻曝光设备接收所述标识符。
21.根据权利要求1所述的预测装置，其中所述标识符由所述光刻曝光设备生成。
22.根据权利要求1所述的预测装置，其中所述特性包括所述实际发射图案。
23.根据权利要求1所述的预测装置，其中所述特性包括所述实际发射图案的重复率。
24.根据权利要求1所述的预测装置，其中所述特性包括所述光源内的控制模块的减小的操作空间。
25.一种紫外uv光源，包括：
26.根据权利要求25所述的uv光源，其中所述脉冲光束具有在深紫外范围内的波长。
27.根据权利要求25所述的uv光源，其中所述脉冲光束具有在极紫外范围内的波长。
28.根据权利要求25所述的uv光源，其中提供给所述光源的所述预测发射图案改善了由所述光源根据所述实际发射图案产生的所述脉冲光束的稳定性。
29.根据权利要求25所述的uv光源，其中所述预测装置位于所述光源中。
30.根据权利要求25所述的uv光源，其中所述预测装置在所述光源的外部。
31.一种与光源通信的预测装置，所述光源被配置为产生供光刻曝光设备使用的脉冲光束，所述预测装置包括：
32.根据权利要求31所述的预测装置，其中所述预测模块被配置为创建所述预测发射图案，包括：分析观察到的所述光源的所述实际发射图案以确定所述实际发射图案的跨所有观察到的实际发射图案相似的组成部分，以及根据所确定的所述组成部分创建所述预测发射图案。
33.根据权利要求32所述的预测装置，其中如果不存在由于所述组成部分中的任何差异而导致的在所述衬底处的明显差异，则所述实际发射图案的组成部分跨所有观察到的实际发射图案是相似的。
34.一种用于根据相对于完全允许的操作空间减小的操作空间来操作光源的方法，所述操作空间用于控制全部范围的干扰以向光刻曝光设备提供稳定的性能规格，所述方法包括：
35.根据权利要求34所述的方法，还包括：在向所述光源提供所述预测发射图案之前，确定是否已经创建了预测发射图案。
36.根据权利要求35所述的方法，其中向所述光源提供所述预测发射图案包括：仅在所述预测发射图案已被创建之后向所述光源提供所述预测发射图案。
37.根据权利要求35所述的方法，还包括：如果确定所述预测发射图案尚未被创建则创建所述预测发射图案。
38.根据权利要求37所述的方法，其中创建所述预测发射图案包括：
39.根据权利要求38所述的方法，其中如果不存在由于所述组成部分中的任何差异而导致的在衬底上的明显差异，则所述实际发射图案的组成部分跨所有观察到的实际发射图案是相似的。
40.根据权利要求34所述的方法，其中接收所述标识符包括：在所述光源根据所述实际发射图案产生所述脉冲光束之前从所述光刻曝光设备接收所述标识符。
41.根据权利要求34所述的方法，其中所述预测发射图案与所接收的所述标识符唯一地关联。