一种亚分辨率辅助图形的优化方法、系统及存储介质与流程

【】本发明涉及光刻，特别涉及一种亚分辨率辅助图形的优化方法、系统及存储介质。

背景技术

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背景技术：

1、现阶段的光刻技术随着集成电路制造工艺节点的降低，电路尺寸远小于曝光波长，光的衍射效应不可忽略，导致光学临近效应修正(也即掩模优化)越来越重要，亚分辨率辅助图形(sub-resolution assist features，sraf)/散射条(scattering bar)(sub-resolution bar，sbar)是光学临近效应修正中一种常用的有效手段，由于这些细小的图形只对光线产生散射作用，因此不会产生光刻轮廓(sbar printing)转移到光刻胶上，然而实际应用中产生的这些图形可能无法满足这个条件，此外，这些图形也需要满足掩模制造规则(mrc)，保证掩模可制造性。因此，为了保证使用的亚分辨率辅助图形不会产生光刻轮廓和完全符合掩模制造规则，需要对这些图形进行特殊处理，尽可能在处理后保留这些亚分辨率辅助图形。

2、消除sbar产生的光刻轮廓，也需要兼顾其光学临近效应修正效果，简单粗暴的方法难以保证二者，人工对丢弃的sbar重新设计也需耗费大量时间，同时也需要保证一致性问题。

技术实现思路

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技术实现要素：

1、为兼顾光学临近修正效果对辅助图形进行消除，本发明提供了一种亚分辨率辅助图形的优化方法、系统及存储介质。

2、本发明解决技术问题的方案是提供一种亚分辨率辅助图形的优化方法，包括：输入设计版图，获取设置在该设计版图上的辅助图形；基于所述辅助图形输入修正数据；打断所述辅助图形的每条边，基于该修正数据检测并筛选不满足要求的边；对不满足要求的边依次使用收缩、移动及切分进行持续迭代修正；输出优化辅助图形及优化设计版图。

3、优选地，所述修正数据包括掩模制造规则、最大修正次数、最大移动距离。

4、优选地，打断所述辅助图形的每条边为：将所述辅助图形的每条边均打断为多条小边，每一小边长度可相同或不同。

5、优选地，基于该修正数据检测并筛选不满足要求的边包括：以被打断的辅助图形的各条边为中心，在预设范围内放置评价点；基于评价点检测该预设范围内是否存在曝光轮廓，并筛选出导致曝光轮廓的不满足要求的边。

6、优选地，评价点在预设范围内以预设间距均匀放置。

7、优选地，对不满足要求的边依次使用收缩、移动及切分进行持续修正包括：对不满足要求的边多次缩小线宽，以缩小或消除曝光轮廓；将消除部分曝光轮廓后继续导致曝光的边与相邻的边平滑连接，并对该条边所在的整体辅助图形进行移动，以缩小或消除曝光轮廓；对曝光轮廓未消除的辅助图形进行多次截断及消除的切分，以完全消除曝光轮廓。

8、优选地，对曝光轮廓未消除的辅助图形进行多次截断及消除的切分包括：在曝光轮廓未消除的辅助图形的中心位置截取部分图形并消除；检测被截取及消除后的辅助图形是否产生曝光轮廓；若产生曝光轮廓，对截取与消除部分图形后形成的辅助图形，进行截取中心位置的部分图形并消除的迭代，直至完全消除曝光轮廓。

9、优选地，每次迭代截取并消除的部分图形的尺寸可相同或不同，截取的部分图形均为矩形，且均贯通所述辅助图形的相对两条边。

10、本发明为解决上述技术问题还提供一种亚分辨率辅助图形的优化系统，包括信息获取模块、操作与检测模块及检测模块，其中，信息获取模块用于获取输入的设计版图上的辅助图形，获取基于辅助图形输入的修正数据；操作与检测模块用于打断辅助图形的每条边，基于修正数据检测并筛选不满足要求的边，对不满足要求的边使用收缩、移动及切分的方式进行持续修正。

11、本发明为解决上述技术问题还提供一种存储介质，用于电子数据交换的计算机程序，其中，所述计算机程序使得计算机执行如上所述的亚分辨率辅助图形的优化方法。

12、与现有技术相比，本发明的一种亚分辨率辅助图形的优化方法、系统及存储介质具有以下优点：

13、1、本发明的亚分辨率辅助图形的优化方法，包括：输入设计版图，获取设置在该设计版图上的辅助图形；基于辅助图形输入修正数据；打断辅助图形的每条边，基于该修正数据检测并筛选不满足要求的边；对不满足要求的边依次使用收缩、移动及切分进行持续迭代修正；输出优化辅助图形及优化设计版图。通过此方法，基于输入的修正数据对设计版图的辅助图形进行检测及筛选，将曝光的辅助图形通过对边的调整，到整体辅助图形的微调，由小到大的优化方式逐渐消除存在的曝光轮廓，从而实现曝光轮廓的同时兼顾曝光效果，且不需要对设计版图进行大范围的调整或重新设计，进而也大幅提高了工作效率。

14、2、本发明的亚分辨率辅助图形的优化方法，打断辅助图形的每条边为：将辅助图形的每条边均打断为多条小边，每一小边长度可相同或不同。打断辅助图形的每条边分成多条小边，从而通过调整每一条小边来实现对辅助图形的微调，以此消除辅助图形的曝光现象，且该微调方式能最低程度的降低辅助图形的光学临近修正效果的改变。

15、3、本发明的亚分辨率辅助图形的优化方法，基于该修正数据检测并筛选不满足要求的边包括：以被打断的辅助图形的各条边为中心，在预设范围内放置评价点；基于评价点检测该预设范围内是否存在曝光轮廓，并筛选出导致曝光轮廓的不满足要求的边。对被打断形成的各条小边的曝光情况进行检测，更精准的获取辅助图形曝光的原因及位置，便于后续微调时更有针对性的进行，基于该种方式的调整进一步保证了光学临近修正效果的同时对辅助图形进行消除。

16、4、本发明的亚分辨率辅助图形的优化方法，对不满足要求的边依次使用收缩、移动及切分进行持续修正包括：对不满足要求的边多次缩小线宽，以缩小或消除曝光轮廓；将消除部分曝光轮廓后继续导致曝光的边与相邻的边平滑连接，并对该条边所在的整体辅助图形进行移动，以缩小或消除曝光轮廓；对曝光轮廓未消除的辅助图形进行多次截断及消除的切分，以完全消除曝光轮廓。对筛选出的造成辅助图形曝光的小边进行缩小线宽，然后将通过该方法无法消除的小边的整体辅助图形进行移动及切分的调整，从而逐步优化最终实现完全清除曝光现象，该优化的方式对辅助图形的调整方式从小到大逐渐进行，以求在最小调整范围内达到消除曝光轮廓的效果，进而兼顾光学临近修正效果。

17、5、本发明的亚分辨率辅助图形的优化方法，对曝光轮廓未消除的辅助图形进行多次截断及消除的切分包括：在曝光轮廓未消除的辅助图形的中心位置截取部分图形并消除；检测被截取及消除后的辅助图形是否产生曝光轮廓；若产生曝光轮廓，对截取与消除部分图形后形成的辅助图形，进行截取中心位置的部分图形并消除的迭代，直至完全消除曝光轮廓。对辅助图形进行多次截断及消除的切分是消除辅助图形曝光轮廓的最后一步，因此为达到最佳优化效果需要进行持续迭代，辅助图形的中心位置通常对曝光轮廓的影响最大，因此通过对中心位置的阶段并消除，能将对辅助图形的调整降到最小范围，进一步兼顾光学临近修正效果。

18、6、本发明还提供一种亚分辨率辅助图形的优化系统，包括信息获取模块、操作与检测模块，其中，信息获取模块用于获取输入的设计版图上的辅助图形，获取基于辅助图形输入的修正数据；操作与检测模块用于打断辅助图形的每条边，基于修正数据检测并筛选不满足要求的边，对不满足要求的边使用收缩、移动及切分的方式进行持续修正。亚分辨率辅助图形的优化系统具有与上述亚分辨率辅助图形的优化方法相同的有益效果，在此不做赘述。

19、7、本发明还提供一种存储介质，其上存储有计算机程序，该计算机程序被执行时实现上述亚分辨率辅助图形的优化方法，具有与上述亚分辨率辅助图形的优化方法相同的有益效果，在此不做赘述。