1.曲线掩模模型优化方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的曲线掩模模型优化方法，其特征在于，基于目标光刻图形采用二次b样条曲线构造与所述目标光刻图形相匹配的曲线掩模模型，包括：
3.如权利要求2所述的曲线掩模模型优化方法，其特征在于，由初始控制点集合生成曲线轮廓图形，包括：
4.如权利要求1所述的曲线掩模模型优化方法，其特征在于，对所述曲线掩模模型进行正向计算仿真，获取光刻胶图形包括：
5.如权利要求4所述的曲线掩模模型优化方法，其特征在于，获取曲线掩模模型的控制点对于曲线掩模模型的影响以获得影响关系式，包括：
6.如权利要求5所述的曲线掩模模型优化方法，其特征在于，获取曲线掩模模型的变化对图形偏差值的影响，包括：
7.如权利要求1所述的曲线掩模模型优化方法，其特征在于，所述影响关系式如下所示：
8.曲线掩模模型优化装置，其特征在于，包括：
9.存储介质，其特征在于，其上存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令被执行时实现如权利要求1-7任一项所述的曲线掩模模型优化方法。
10.计算机设备，其特征在于，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行上述计算机程序以实现如权利要求1～7任一项所述的曲线掩模模型优化方法。