7700nm长波通红外滤光敏感元件的制作方法

文档序号:8281458阅读:198来源:国知局
7700nm长波通红外滤光敏感元件的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及红外滤光敏感元件领域,尤其是一种7700nm长波通红外滤光敏感元件。
【背景技术】
[0002]红外热成像仪(热成像仪或红外热成像仪)是通过非接触探测红外能量(热量),并将其转换为电信号,进而在显示器上生成热图像和温度值,并可以对温度值进行计算的一种检测设备。红外热成像仪(热成像仪或红外热成像仪)能够将探测到的热量精确量化或测量,使您不仅能够观察热图像,还能够对发热的故障区域进行准确识别和严格分析。
[0003]红外热成像仪的探测器是实现红外能量(热能)转换电信号的关键,由于各种生物所发出来的红外能量(热能)是不同的,所以在日常使用中为了观察某种特定生物的热图像,人们往往会在探测器中添加红外滤光敏感元件,通过红外滤光敏感元件可以使探测器只接受特定波段的红外能量(热能),保证红外热成像仪的成像结果。
[0004]但是,目前的红外滤光敏感元件,其信噪比低,精度差,不能满足市场发展的需要。

【发明内容】

[0005]本发明的目的是为了解决上述技术的不足而提供一种测试精度高、能极大提高信噪比的7700nm长波通红外滤光敏感元件。
[0006]为了达到上述目的,本发明所设计的一种7700nm长波通红外滤光敏感元件,包括以Ge为原材料的基板,以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层,且所述基板设于第一镀膜层与第二镀膜层之间,其特征是所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有167nm厚度的Ge层、239nm厚度的ZnS层、225nm厚度的Ge层、415nm厚度的ZnS层、138nm厚度的Ge层、342nm厚度的ZnS层、138nm厚度的Ge层、256nm厚度的ZnS层、173nm厚度的Ge层、266nm厚度的ZnS层、159nm厚度的Ge层、505nm厚度的ZnS层、142nm厚度的Ge层、249nm厚度的ZnS层、126nm厚度的Ge层、276nm厚度的ZnS层、395nm厚度的Ge层、180nm厚度的ZnS层、168nm厚度的Ge层、492nm厚度的ZnS层、133nm厚度的Ge层、629nm厚度的ZnS层、185nm厚度的Ge层、266nm厚度的ZnS层、313nm厚度的Ge层、503nm厚度的ZnS层、141nm厚度的Ge层、589nm厚度的ZnS层、193nm厚度的Ge层、367nm厚度的ZnS层、348nm厚度的Ge层、897nm厚度的ZnS层、70nm厚度的Ge层、294nm厚度的ZnS层、49nm厚度的Ge层、406nm厚度的ZnS层、621nm厚度的Ge层、959nm厚度的ZnS层;所述的第二镀膜层由内向外依次排列包含有180nm厚度的Ge层、375nm厚度的ZnS层、312nm厚度的Ge层、620nm厚度的ZnS层、385nm厚度的Ge层、535nm厚度的ZnS层、266nm厚度的Ge层、577nm厚度的ZnS层、95nm厚度的Ge层、555nm厚度的ZnS层、295nm厚度的Ge层、58 Inm厚度的ZnS层、370nm厚度的Ge层、660nm厚度的ZnS层、350nm厚度的Ge层、810nm厚度的ZnS层、277nm厚度的Ge层、670nm厚度的ZnS层、416nm厚度的Ge层、744nm厚度的ZnS层、279nm厚度的Ge层、582nm厚度的ZnS层、530nm厚度的Ge层、660nm厚度的ZnS层、243nm厚度的Ge层、58 Inm厚度的ZnS层、563nm厚度的Ge层、108 Inm厚度的ZnS层。
[0007]上述各材料对应的厚度,其允许在公差范围内变化,其变化的范围属于本专利保护的范围,为等同关系。通常厚度的公差在1nm左右。
[0008]本发明所得到的一种7700nm长波通红外滤光敏感元件,其在温度测量过程中,可大大的提高信噪比,提高测试精准度,适合于大范围的推广和使用。该滤光敏感元件50%Cut on=7700nm,7800 ?llOOOnm,Tavg ^ 90%,8000 ?llOOOnm,T ^ 88%,1500 ?7400nm,
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【附图说明】
[0009]图1是实施例整体结构示意图。
[0010]图2是实施例提供的红外光谱透过率实测曲线图。
[0011]图中:第一镀膜层1、基板2、第二镀膜层3。
【具体实施方式】
[0012]下面通过实施例结合附图对本发明作进一步的描述。
[0013]实施例1。
[0014]如图1和图2所示,本实施例描述的一种7700nm长波通红外滤光敏感元件,包括以Ge为原材料的基板2,以Ge、ZnS为第一镀膜层I和以Ge、ZnS为第二镀膜层3,且所述基板2设于第一镀膜层I与第二镀膜层3之间,所述第一镀膜层I由内向外依次排列包含有167nm厚度的Ge层、239nm厚度的ZnS层、225nm厚度的Ge层、415nm厚度的ZnS层、138nm厚度的Ge层、342nm厚度的ZnS层、138nm厚度的Ge层、256nm厚度的ZnS层、173nm厚度的Ge层、266nm厚度的ZnS层、159nm厚度的Ge层、505nm厚度的ZnS层、142nm厚度的Ge层、249nm厚度的ZnS层、126nm厚度的Ge层、276nm厚度的ZnS层、395nm厚度的Ge层、180nm厚度的ZnS层、168nm厚度的Ge层、492nm厚度的ZnS层、133nm厚度的Ge层、629nm厚度的ZnS层、185nm厚度的Ge层、266nm厚度的ZnS层、313nm厚度的Ge层、503nm厚度的ZnS层、141nm厚度的Ge层、589nm厚度的ZnS层、193nm厚度的Ge层、367nm厚度的ZnS层、348nm厚度的Ge层、897nm厚度的ZnS层、70nm厚度的Ge层、294nm厚度的ZnS层、49nm厚度的Ge层、406]11]1厚度的2113层、621111]1厚度的66层、959111]1厚度的2113层;所述的第二镀膜层3由内向外依次排列包含有180nm厚度的Ge层、375nm厚度的ZnS层、312nm厚度的Ge层、620nm厚度的ZnS层、385nm厚度的Ge层、535nm厚度的ZnS层、266nm厚度的Ge层、577nm厚度的ZnS层、95nm厚度的Ge层、555nm厚度的ZnS层、295nm厚度的Ge层、58 Inm厚度的ZnS层、370nm厚度的Ge层、660nm厚度的ZnS层、350nm厚度的Ge层、810nm厚度的ZnS层、277nm厚度的Ge层、670nm厚度的ZnS层、416nm厚度的Ge层、744nm厚度的ZnS层、279nm厚度的Ge层、582nm厚度的ZnS层、530nm厚度的Ge层、660nm厚度的ZnS层、243nm厚度的Ge层、58 Inm厚度的ZnS层、563nm厚度的Ge层、108 Inm厚度的ZnS层。
【主权项】
1.一种7700nm长波通红外滤光敏感元件,包括以Ge为原材料的基板(2),以Ge、ZnS为第一镀膜层(I)和以Ge、ZnS为第二镀膜层(3 ),且所述基板(2 )设于第一镀膜层(I)与第二镀膜层(3)之间,其特征是所述第一镀膜层(I)由内向外依次排列包含有167nm厚度的Ge层、239nm厚度的ZnS层、225nm厚度的Ge层、415nm厚度的ZnS层、138nm厚度的Ge层、342nm厚度的ZnS层、138nm厚度的Ge层、256nm厚度的ZnS层、173nm厚度的Ge层、266nm厚度的ZnS层、159nm厚度的Ge层、505nm厚度的ZnS层、142nm厚度的Ge层、249nm厚度的ZnS层、126nm厚度的Ge层、276nm厚度的ZnS层、395nm厚度的Ge层、180nm厚度的ZnS层、168nm厚度的Ge层、492nm厚度的ZnS层、133nm厚度的Ge层、629nm厚度的ZnS层、185nm厚度的Ge层、266nm厚度的ZnS层、313nm厚度的Ge层、503nm厚度的ZnS层、141nm厚度的Ge层、589nm厚度的ZnS层、193nm厚度的Ge层、367nm厚度的ZnS层、348nm厚度的Ge层、897nm厚度的ZnS层、70nm厚度的Ge层、294nm厚度的ZnS层、49nm厚度的Ge层、406nm厚度的ZnS层、621nm厚度的Ge层、959nm厚度的ZnS层;所述的第二镀膜层(3)由内向外依次排列包含有180nm厚度的Ge层、375nm厚度的ZnS层、312nm厚度的Ge层、620nm厚度的ZnS层、385nm厚度的Ge层、535nm厚度的ZnS层、266nm厚度的Ge层、577nm厚度的ZnS层、95nm厚度的Ge层、555nm厚度的ZnS层、295nm厚度的Ge层、581nm厚度的ZnS层、370nm厚度的Ge层、660nm厚度的ZnS层、350nm厚度的Ge层、810nm厚度的ZnS层、277nm厚度的Ge层、670nm厚度的ZnS层、416nm厚度的Ge层、744nm厚度的ZnS层、279nm厚度的Ge层、582nm厚度的ZnS层、530nm厚度的Ge层、660nm厚度的ZnS层、243nm厚度的Ge层、58Inm厚度的ZnS层、563nm厚度的Ge层、108 Inm厚度的ZnS层。
【专利摘要】本发明公开了一种7700nm长波通红外滤光敏感元件,包括以Ge为原材料的基板,以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层,且所述基板设于第一镀膜层与第二镀膜层之间。本发明所得到的一种7700nm长波通红外滤光敏感元件,其在温度测量过程中,可大大的提高信噪比,提高测试精准度,适合于大范围的推广和使用。该滤光敏感元件50%Cut on=7700nm,7800~11000nm,Tavg≥90%,8000~11000nm,T≥88%,1500~7400nm,T≤3%。
【IPC分类】G02B5-20
【公开号】CN104597548
【申请号】CN201410734472
【发明人】王继平, 吕晶, 刘晶
【申请人】杭州麦乐克电子科技有限公司
【公开日】2015年5月6日
【申请日】2014年12月7日
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