专利名称：制造阴极射线管基质的方法
技术领域：
本发明涉及一种彩色阴极射线管(CRT)，具体涉及包括荧光屏组件的彩色CRT。
背景技术：
彩色阴极射线管(CRT)通常包括电子枪、多孔障板和屏幕。所述多孔障板被插在电子枪和屏幕之间。所述屏幕位于CRT管的面板的内表面上。所述多孔障板用于将在电子枪中产生的电子束向在CRT管的屏幕上的适当彩色发光荧光体引导。
所述屏幕可以是荧光屏。荧光屏通常包括三种不同彩色发光荧光体(例如绿色、蓝色和红色)的阵列。通过基质线(matrix line)来彼此分离每个彩色发光荧光体。所述基质线由光吸收黑惰性材料形成。
诸如在美国专利第3,558,310号中所描述的那样，可以使用多孔障板光刻处理来将所述基质线沉积在屏幕上。在多孔障板光刻处理中，通过在光化紫外线(UV)光中曝光和以适当的显影剂显影，在屏幕上涂敷的光阻材料层中形成多孔障板的图像，于是在屏幕表面上提供了覆盖区域和未覆盖区域。在屏幕表面上的覆盖区域在较大剂量的光化UV光中曝光，而在屏幕表面上的未覆盖区域在较少剂量的光化UV光中曝光。
对于多孔障板平板印刷处理，多孔障板被布置在与屏幕固定距离的位置，以便在UV光中曝光期间被投射到光阻涂敷屏幕上的其阴影揭露在具有期望大小并位于屏幕上的适当位置的光阻中的基质线开口。被覆盖的区域限定了基质线开口，它们将被填充荧光材料。未被覆盖的区域限定了黑色光吸收基质线。
通过在屏幕表面的覆盖区域和未覆盖区域上沉积基质材料而形成所述基质线。在通常包括胶态石墨的基质材料干燥后，施加蚀刻剂来溶解已经在较大剂量的光化UV光中曝光的剩余光阻材料。通过以高压水显影以使剩余的光阻材料和涂敷它的基质材料被释放来完成基质线结构，因此在屏幕的表面上仅仅留下已经涂敷了其未覆盖区域的基质材料。
传统的多孔障板通常具有大约18％至大约22％的透射率。近来，为了增大在CRT管中的亮度而不增大基质开口的相应尺寸，具有大约20％至大约80％的透射率的多孔障板已经被并入彩色CRT管中。但是，利用诸如在美国专利第3,558,310号中所述的那些传统的基质处理，不能实现使用具有大约30％至大约80％的透射率的多孔障板来形成基质线，因为从其投射的光图像彼此重叠，使得这样的基质线的位置在屏幕表面上不对齐以及具有不同的大小。
因此，需要一种在荧光屏上制造基质的新方法。
发明内容
本发明涉及在阴极射线管(CRT)的面板的内表面上制造荧光屏组件的方法，所述荧光屏组件具有光吸收基质，该光吸收基质中具有多个大致相同尺寸的开口。所述管具有与面板的内表面相分隔的彩色选择电极或多孔障板，其中彩色选择电极具有多个缝隙。
所述方法包括步骤将第一光阻层曝光在来自于相对中央光源位置而定位光源以及相对于中央光源位置对称的两个光源位置的光中。所述曝光选择性地改变第一光阻层的照亮区域的溶解性，以在其中产生具有较大溶解性的区域和较小溶解性的区域。较大溶解性的区域随后被去除，以便暴露面板的内表面的区域，同时保留较小溶解性的区域。面板的内表面和保留的区域随后被涂敷了光吸收材料。其后，去除第一光阻层的保留区域和其上的光吸收材料，暴露面板的多个部分和在面板的内表面上限定第一光吸收材料保护带。对于第二光阻层和第三光阻层重复这个光刻处理，以便分别定义第二光吸收材料保护带和第三光吸收材料保护带。但是，第二光阻层和第三光阻层的光源位置位于相对于中央光源位置不对称的位置。
施加到面板的内表面的光吸收材料优选的包括重量大于大约5％的固体。另外，可以向光吸收材料施加涂敷层以密封这样的层并且降低其孔隙度。
现在参照附图更详细地说明本发明，其中图1是按照本发明制造的彩色阴极射线管(CRT)的轴向切面的平面图；
图2是示出屏幕组件的、图1的CRT的障板和面板的切面；图3是在图1的CRT中使用的障板和框架的平面图；图4a-4c是包括关于图2的屏幕组件的RB、GR和GB保护带制造处理的流程图的方框图；图5a-5e描述了在RB保护带形成期间面板的内表面的视图；图6描述了用于形成RB保护带的光源位置；图7a-7e描述了在GR保护带形成期间面板的内表面的视图；图8描述了用于形成GR保护带的光源位置；图9a-9e描述了在GB保护带形成期间面板的内表面的视图；图10描述了用于形成GB保护带的光源位置；图11a-11c图解了在开始沉积光阻和/或光吸收材料时面板的不同方向。
具体实施例方式
图1示出了具有玻璃封套11的彩色阴极射线管(CRT)10，其中所述玻璃封套包括通过漏斗15连接的面板12和管颈14。漏斗15具有内部导电涂层(未示出)，它与阳极按钮16接触并且从阳极按钮16向管颈14延伸。
面板12包括观看面板18和外围凸缘或侧壁20，所述外围凸缘或侧壁20通过玻璃粉21密封到漏斗15。在观看面板18的内表面上承载有三色荧光屏22。如图2中的横截面中所示的屏幕22是线条网屏，它包括多个屏幕元件，其中分别包括以三元组排列的发红光、发绿光和发蓝光的荧光条R、G和B，每个三元组包括三种颜色的每个的荧光线。所述R、G和B荧光条通常以垂直的方向被印刷。
如图2所示的光吸收基质23分离荧光线。最好是铝的一个薄的导电层(未示出)覆盖在屏幕22上，并且提供用于向屏幕22施加均匀的第一阳极电势以及用于通过面板18反射从荧光元件发射的光的手段。屏幕22和覆盖的铝层构成屏幕组件。
通过传统的手段，将多孔彩色选择电极或障板25可拆卸地安装在面板12以内、相对于屏幕22具有预定间隔的位置处。障板25与面板12的这种间隔关系或距离被称为“Q”间隔。
图1中由虚线示意性地示出的电子枪26被安装在管颈14的中央，以便产生三个成行的电子束28，即一个中央电子束和两个侧面或外侧电子束，并沿着通过障板25到屏幕22的会聚路径引导所述三个成行的电子束28。中央光束28的成行方向与纸张的平面大致正交。
图1的CRT被设计用来与外部磁偏转线圈30一起使用，所述外部磁偏转线圈位于漏斗到管颈的连接处的相邻之处。当被启动时，偏转线圈30使三个电子束28受到磁场的影响，所述磁场使得电子束28在屏幕22上扫描一个水平和垂直的矩形光栅。
如图3所示，优选的是，从大约0.05毫米(2毫英寸)厚的低碳钢的薄矩形片来形成障板25，所述薄矩形片包括两个水平边和两个垂直边。障板25的两个水平边与障板的中央长轴X平行，两个垂直边与障板的中央短轴Y平行。参照图2和3，障板25包括带孔的部分，该带孔的部分包括多个拉伸的绞合线32，它们通过与障板的短轴Y平行的缝隙33而被分离。
在一种配置中，被定义为绞合线32和相邻缝隙33的横向尺寸的障板间距Dm是0.87毫米(37毫英寸)。如图2所示，每个绞合线32可以具有大约0.38毫米(15毫英寸)的横向尺寸或宽度w，并且每个缝隙33可以具有大约0.53毫米(21毫英寸)的宽度a’。缝隙33从障板的一个水平边延伸到其另一个水平边。障板25的间距Dm可以改变。例如，在第二种配置中，在大约0.68毫米(27毫英寸)的障板间距和大约0.3毫米(12毫英寸)的绞合线宽度的情况下，每个基质开口具有大约0.13毫米(5毫英寸)的宽度c。再次参见图2，在观看面板18上形成的屏幕22包括具有矩形开口的光吸收基质23，在其中布置了彩色发光荧光线。对应的基质开口具有大约0.20毫米(8毫英寸)的宽度c。每个基质线的宽度d是大约0.10毫米(4毫英寸)，每个荧光三元组具有大约0.96毫米(38毫英寸)的宽度或屏幕间距T。对于这个实施例，障板25与面板12的内表面的中心相隔大约15.24毫米(600毫英寸)的距离Q(以下称作Q-间距)。
按照本优选实施例来制造光吸收基质的处理从使用诸如氢氟酸(HF)的酸来清洁面板18的内表面而开始。在图4a中被指示为面板清洁步骤50的所述清洁处理是通过以大量的水漂洗面板18而完成的。
如图4a中的步骤52所示，可以向面板18的内表面施加聚合物预敷层(未示出)。所述聚合物预敷层是这样的薄膜，它增强光吸收材料的附着力并且促进基质线的更大的不透明性。所述聚合物预敷层可以包括诸如聚乙烯醇(PVA)的材料。所述聚合物预敷层通过在其上旋涂0.1-0.3％的含水PVA溶液而沉积。所述聚合物预敷层通常具有不大于大约0.25微米的厚度。
参见图5a以及图4a的步骤58，通过旋涂而在观看面板18的内表面上施加第一光阻层56。第一光阻层56可以包括聚烯吡酮(PVP)-二叠氮基均二苯代己烯系统、聚乙烯醇(PVA)-重铬酸盐系统或其他适合的负光阻系统。
如图5b所示，障板25被紧固在位于曝光台(未示出)上的面板12和面板障板组件的附近。如图6所示，障板25位于面板12和可移动光源51之间。如图4a中的步骤78所示，第一光阻层56在来自RB光源位置(绿色光源位置)、通过障板25的缝隙33的光中曝光。第一彩色光源位置+G位于相对于中央光源位置或标准绿色位置0的距离为ΔX之处。第二彩色光源位置-G位于相对于中央光源位置0的距离为-ΔX之处。对于68厘米的障板，ΔX可以是大约1.78毫米(70毫英寸)。第三光源位置优选的是中央光源位置0。但是，这个第三光源位置可以来自-ΔX和ΔX之间的至少一个位置。所述第三光源位置保证第一光阻层56的区域53被整体曝光，因此其中产生所期望的较小的溶解性级别。
障板25和面板12的内表面之间的Q间隔是大约449毫英寸，其中在所述面板12的内表面上布置了第一光阻层56。从三个光源位置发出的光选择性地改变第一光阻层56的被照亮区域的溶解性，因此产生较小溶解性的区域53。第一光阻层56的区域54和54a被障板绞合线所遮蔽。区域54和54a未被改变，并且构成较大溶解性的区域。区域54限定了基质RB保护带，其中+G限定保护带RB的红色边缘，-G限定保护带RB的蓝色边缘。区域54a限定荧光屏幕的终止位置。
如图5c所示和图4a中的步骤84所示，通过以诸如水的适当溶剂漂洗面板12来显影第一光阻层56。这个显影步骤去除了具有较大溶解性的区域54和54a，因此暴露了面板12的表面的区域57，同时使得具有较小溶解性的层56的照亮的区域53保持不变。
如图5d所示和图4a的步骤88中所示，通过使用第一光吸收材料层59涂敷具有较小溶解性的、面板12的表面的曝光区域57以及层56的保留区域53来形成基质。第一光吸收材料层59附着在未覆盖区域57和57a中的面板12的内表面。第一光吸收材料层59优选的由诸如可以从Michigan的PortHuron的Acheson Colloids公司商业获得的适当的石墨合成物构成。
第一光吸收材料层59优选的包括亚微细粒的石墨胶体的悬浮体。另外，所述第一光吸收材料层也可以包括表面活性剂。人们相信在光吸收材料层中的表面活性剂促进了为了在其上形成膜而改善了的面板12的浸湿。
在悬浮体中的石墨胶体任意地被涂敷氧化物屏障(oxidation barrier)。适当的氧化物屏障可以包括诸如二氧化硅(SiO2)和氧化铝(Al2O3)的氧化物。人们相信所述氧化物屏障在后续的阴极射线管处理期间减少了石墨的氧化。
包括光吸收材料的合成物被施加到未覆盖区域57和57a以及具有较小溶解性的保留区域53，其中所述光吸收材料具有在大约5.5％和大约8.0％之间的固体浓度。如图4a的步骤90所示，以大约40℃到大约70℃的范围内的温度在大约3-5分钟的时间中干燥第一光吸收材料层。第一光吸收材料层的厚度大约为1微米。
参见图5e和图4a的步骤92，通过向基质沉积诸如含水高碘酸的适当溶剂或等价物以软化和膨胀具有较小溶解性的层56的下层保留区域53来显影光吸收基质。所述基质随后被冲水以去除层56的松散的、不易溶解的保留区域53，因此在其中形成开口，但是剩余RB保护带和附着在面板12的内表面的曝光部分的光吸收材料的边界62。
对于GR光源位置(蓝色光源位置)和GB光源位置(红色光源位置)再重复两次上述处理。同样，如图7a所示和图4b的步骤95所示，在面板12的内表面上施加第二光阻层94。参见图7b和8以及图4b的步骤96，第二光阻层94在曝光台(未示出)内部曝光在来自GR光源位置51、穿过障板25的光中。对于以68厘米障板形成的GR光源位置，彩色第一光源位置+B相对于中央光源位置0以距离2X+ΔX、大约8.99毫米(354毫英寸)不对称地定位。位置-X和2X被分别称为蓝色的主和辅光源位置。彩色第二光源位置-B相对于中央光源位置0以距离-X+ΔX、大约-3.61毫米(-142毫英寸)不对称地定位。第三位置是蓝色的主光源位置，-X，-212毫英寸(或称为标准蓝色位置，用于在屏幕处理中印刷蓝色荧光线和在传统的基质处理中印刷蓝色基质开口)。但是，这个第三光源位置可以来自于-X-ΔX和-X+ΔX之间的至少一个位置。
如图7b所示，在障板25和面板12的内表面之间的Q间隔是大约449毫英寸。从GR光源位置发出的光选择性地改变第二光阻层94的照亮区域的溶解性，因此产生较小溶解性的区域150。被障板绞合线32遮蔽的第二光阻层94的区域未改变，并且构成较大溶解性的区域152和152a。(从此处开始)
参见图7c和图4b的步骤98，以水来显影光阻，去除较大溶解性的区域152并暴露面板12的内表面的区域154。具有较小溶解性的第二光阻层94的区域150被保留。
如图7d所示和图4b的步骤100中所示，通过用第二光吸收材料层156涂敷在面板12的内表面上的、较小溶解性的未覆盖区域154和保留区域150来形成基质。第二光吸收材料层156优选的与第一光吸收材料层59具有类似的组成、厚度等，并且可以利用相似的处理来施加该第二光吸收材料层。
如图4b的步骤102中所示，干燥第二光吸收材料层156，并且去除第二光阻层94的保留区域150以及其上的第二光吸收材料层156。如图7e所示和图4b的步骤104所示，通过使用诸如含水高碘酸的适当溶剂或等价物漂洗面板12来去除第二光阻层94的保留区域150。在去除第二光阻层94的保留区域150后，在面板12的内表面上保留了GR保护带、先前形成的RB保护带和边界62。
如图9a所示和图4c的步骤200所示，当在面板12的内表面上提供第三光阻材料层210时，第三次重复上述处理。参见图9b和10以及图4c的步骤202，第三光阻层210在曝光台(未示出)内部曝光在来自GB光源位置、穿过障板25的光中。对于使用68厘米障板形成的GB光源位置，第一彩色光源位置+R相对于中央光源位置0以距离X-ΔX、大约3.61毫米(142毫英寸)不对称地定位。第二彩色光源位置-R相对于中央光源位置0以距离-2X+ΔX、大约-8.99毫米(-354毫英寸)不对称地定位。位置X和-2X也分别被称为红色的主和辅光源位置。第三光源位置是红色的主光源位置，X，212毫英寸(或称为标准红色位置，用于在屏幕处理中印刷蓝色荧光线和在传统的基质处理中印刷蓝色基质开口)。但是，这个第三光源位置可以来自于X-ΔX和X+ΔX之间的至少一个位置。
如图9b所示，在障板25和面板12的内表面之间的Q间隔保持为大约449毫英寸，其中在面板12的内表面上布置了第三光阻层210。从GB光源位置发出的光选择性地改变第三光阻层210的照亮区域的溶解性，因此产生较小溶解性的区域506。被障板绞合线32遮蔽的第三光阻层210的区域未改变，并且构成较大溶解性的区域508和508a。
参见图9c和图4c的步骤204，以水来显影第三光阻层210，从而去除较大溶解性的区域508和508a，以此暴露面板12的内表面的区域510。具有较小溶解性的第三光阻层210的区域506被保留。
如图9d所示和图4c的步骤206中所示，通过使用第三光吸收材料层215涂敷未覆盖区域510和在面板12上的第三光阻层210的保留区域506来形成基质。第三光吸收材料层215优选的与第一光吸收材料层59和第二光吸收材料层156具有类似的组成、厚度等。
如图4c的步骤207中所示，干燥第三光吸收材料层，并且去除第三光阻层210的保留区域506以及其上的光吸收材料206。如图9e所示和图4c的步骤208所示，通过使用诸如含水高碘酸的适当溶剂或等价物漂洗面板12来去除第三光阻层210的保留区域506。在去除第三光阻层210的保留区域506后，在面板12的内表面上保留了GB保护带、先前形成的GR和RB保护带以及边界62。
在形成三个保护带的系列后，可以在基质的上面布置硅酸钾敷层(未示出)。在施加硅酸盐之前，消电离的水被施加到第一保护带RB、第二保护带GB和第三保护带GR以及在保护带之间的区域。这些区域另外被称为基质开口。消电离的水优选的保持在大约40℃的温度。过度消电离的水随后被甩出，并且施加也处于大约40℃的硅酸钾。优选的是，硅酸钾溶液按消电离的水的重量计算具有大约3.5％的浓度。在大约30秒的时间中，以大约130rpm的速率将过量的硅酸钾甩出。然后在大约5分钟的时间段中，以大约40℃到大约60℃的温度使硅酸钾膜被干燥。适当的硅酸钾合成物是可以商业获得的，诸如从PA的Valley Forge的PQ公司获得的KASIL品牌。硅酸钾敷层优选的具有大约0.5微米到大约1.0微米的厚度。在保护带和基质开口上存在硅酸钾敷层防止了在后续处理期间保护带的变差。
在美国专利第6,013,400号中所描述的对于基质处理的进一步的改进是通过有意地改变用于施加三个光阻层的技术来实现的。具体上，可以使用相对于彼此的不同方向∠A、∠B和∠C来施加第一光阻层56、第二光阻层94和第三光阻层210。例如，图11a-11c图解了在开始形成光阻层时面板12的不同方向，其中面板12的长轴13相对于旋转涂敷机器的固定X轴而定向。
或者，也可以使用相对于彼此的不同方向∠D、∠E和∠F来施加第一光吸收材料层59、第二光吸收材料层156和第三光吸收材料层215。例如，图11a-11c也图解在开始施加光吸收材料时面板的不同方向，其中面板12的长轴13相对于旋转涂敷机器的固定X轴而定向。
另外，也可以使用不同的旋转速率A’、B’和C’在面板12上施加第一光阻层56、第二光阻层94和第三光阻层210。可以对A’、B’和C’分别使用诸如90rpm、110rpm和130rpm的旋转速率。类似地，可以使用不同的旋转速率D’、E’和F’在面板12上施加第一光吸收材料59、第二光吸收材料156和第三光吸收材料215。同样，可以对D’、E’和F’分别使用诸如90rpm、110rpm和130rpm的旋转速率。
调制光阻层和/或光吸收材料的方向和/或旋转速率产生了彼此不匹配的光吸收材料中的多个条纹图案。结果是人眼难于分辩在完成的CRT面板中的任何纯条纹图案。使用上述的技术产生的这个“光混淆”降低或消除了在显示屏幕上的不吸引人的图案的感知。
本发明的曝光序列也代表了对于美国专利第6,013,400号的改进，即在每个保护带的沉积序列中的第三曝光(即中央光源位置、保护带RB的0、保护带GR中的B和保护带GB中的R)是新颖的。第三曝光的新颖性在于这个曝光防止印刷不规则的或额外的保护带，尤其是在较低的障板透射率的情况下。
例如，在大约45％或更少的障板透射率值的情况下，会印刷不规则的保护带。参见图5b、7b和9c，在较低的障板透射率下，对于任何给定的保护带印刷序列，有可能在第一曝光(即-G、-B和-R)和第二曝光(即+G、+B和+R)之间没有足够的重叠以硬化在保护带之间的中央区域(即区域53、区域150和区域506)中的光阻。结果是会在这些中央区域中形成不规则的保护带，使得显示屏幕功能不好。但是，参见图6、8和10，第三曝光的并入(即0，B和R)提供了足够的曝光，以硬化在除了分别在图5e、7e和9e中所示的预定的保护带RG、GR和GB的位置中之外的所有区域中的光阻。
权利要求
1.一种在CRT(10)的面板(12)的内表面上制造光吸收基质(23)的方法，所述光吸收基质(23)中具有多个大致相等尺寸的开口，所述CRT(10)具有与面板的内表面相分隔的彩色选择电极(25)，并且彩色选择电极(25)具有多个缝隙(33)，其特征在于步骤(a)将在面板的内表面上形成的第一光阻层(56)曝光在穿过彩色选择电极的缝隙的光中，其中从包括两个外部位置和一个内部位置的三个光源位置产生紫外光，其中两个外部光源位置关于所述内部光源位置对称地定位，并且其中内部光源位置是中央光源位置；(b)去除第一光阻层的未曝光部分；(c)以光吸收材料来涂敷面板的内表面；(d)去除所述第一光阻层的保留部分，以在面板的内表面上形成第一光吸收材料保护带；(e)分别使用第二和第三光阻层(156，215)再重复两次步骤(a)-(d)，以形成第二和第三光吸收材料保护带，其中关于第二和第三曝光步骤的每一个的三个光源位置相对于中央光源位置不对称地定位。
2.按照权利要求1的方法，其特征还在于步骤在面板的表面上形成第三保护带后，在光吸收基质上施加保护敷层。
3.按照权利要求2的方法，其特征在于，所述保护敷层包括硅酸钾。
4.按照权利要求1的方法，其特征在于，所述光吸收基质材料包括石墨。
5.按照权利要求4的方法，其特征在于，所述石墨包括氧化物屏障。
6.按照权利要求5的方法，其特征在于，从由二氧化硅(SiO2)和氧化铝(Al2O3)构成的组中选择所述氧化物屏障。
7.按照权利要求1的方法，其特征在于，所述步骤(c)还包括将涂敷在面板表面上的光吸收材料加热至在大约40℃到大约60℃的范围内的温度。
8.按照权利要求1的方法，其特征在于，涂敷在面板表面上的光吸收材料具有按重量计算大约5％到按重量计算大约8％的范围内的固体含量。
9.按照权利要求1的方法，其特征在于，以彼此不同以及与第一光阻层(56)不同的旋转速度施加第二和第三光阻层(94，210)。
10.按照权利要求1的方法，其特征在于，以彼此不同以及与第一光吸收材料(59)不同的旋转速度施加第二和第三光吸收材料层。
11.按照权利要求1的方法，其特征在于，使用相对于固定轴不同方向的面板向面板上施加第一、第二和第三光阻层(56，94，210)。
12.按照权利要求1的方法，其特征在于，使用相对于固定轴不同方向的面板向面板上施加第一、第二和第三光吸收材料层。
13.一种在CRT(10)的面板(12)的内表面上制造光吸收基质(23)的方法，所述光吸收基质(23)中具有多个大致相等尺寸的开口，所述CRT(10)具有与面板(12)的内表面相分隔的彩色选择电极(25)，并且彩色选择电极(25)具有多个缝隙(33)，其特征在于步骤a)在面板的内表面上施加第一光阻层(56)，所述光阻层的溶解性在曝光时被改变；b)将第一光阻层曝光在来自至少三个光源位置、穿过彩色选择电极的缝隙的光中，所述三个光源位置包括与一个彩色光源对齐的中央主光源位置和相对于该中央主光源位置对称移位的位置-ΔX和+ΔX；c)去除第一光阻层的未曝光部分；d)用光吸收材料来涂敷面板的内表面；e)去除第一光阻层的保留部分，以在面板的内表面上形成第一光吸收材料保护带；f)分别使用第二和第三光阻层(94，210)再重复两次步骤(a)-(e)，以形成第二和第三光吸收材料保护带，其中；i)用于打印第二保护带的三个光源位置包括来自下列光源位置的曝光从主光源位置向中央主光源位置位移ΔX的位置，从辅光源位置向中央主光源位置位移ΔX的位置，以及主光源位置；和ii)用于打印第三保护带的三个光源位置包括来自下列光源位置的曝光从另一个主光源位置向中央主光源位置位移ΔX的位置，从另一个辅光源位置向中央主光源位置位移ΔX的位置，以及另一个主光源位置。
14.按照权利要求13的方法，其特征在于，在第一保护带之前印刷第二保护带。
15.按照权利要求13的方法，其特征在于，在第一保护带之前印刷第三保护带。
16.按照权利要求13的方法，其特征在于，来自中央主光源位置的曝光被替换为来自在中央主光源位置的ΔX/2内的至少一个光源位置的曝光。
17.按照权利要求13的方法，其特征在于，来自主光源位置的曝光被替换为来自在主光源位置的ΔX/2内的至少一个光源位置的曝光。
18.按照权利要求13的方法，其特征在于，来自另一个主光源位置的曝光被替换为来自在另一个主光源位置的ΔX/2内的至少一个光源位置的曝光。
19.一种形成光吸收基质(23)的方法，包括曝光和选择性地硬化在CRT(10)的面板(12)的内表面上的光阻材料层以形成所述基质，其中所述选择性曝光的特征在于步骤a)通过位于光源和面板的内表面之间的障板(25)的缝隙(33)向光阻材料层投射用于第一曝光的至少三个光源，其中光源之一沿着中央光源位置0与第一彩色光源位置G对齐，并且剩余的光源被定位在中央彩色光源位置两侧的至少两个对称的位移位置-ΔX和ΔX；b)通过障板的缝隙向第二光阻材料层上投射用于第二曝光的光源，其中至少一个光源与距离中央光源位置-X的、替代的彩色光源位置B对齐，两个光源位于自中央光源位置-X+ΔX和2X-ΔX的两个位置；c)通过障板的缝隙向第三光阻材料层上投射用于第三曝光的光源，其中至少一个光源与距离中央光源位置X的、替代的彩色光源位置R对齐，并且两个光源位于自中央光源位置X-ΔX和-2X+ΔX的两个位置。
全文摘要
本发明提供了一种在阴极射线管(CRT)的面板(12)的内表面上制造荧光屏组件的方法，所述荧光屏组件具有光吸收基质(23)，该光吸收基质具有多个大致相同尺寸的开口。所述管具有与面板的内表面相分隔的彩色选择电极(25)，其中彩色选择电极具有多个与缝隙(33)交错的绞合线。所述方法包括步骤提供当曝光时其溶解性被改变的第一光阻层(56)，从而较大剂量的光降低其溶解性。将第一光阻层施加到面板的内表面。第一光阻层曝光在来自光源的光中，所述光源相对于中央光源位置和关于中央光源位置的两个对称位置定位。所述曝光选择性地改变第一光阻层的照亮的区域的溶解性，以在其中产生具有较大溶解性的区域和较小溶解性的区域。较大溶解性的区域随后被去除以便暴露面板的内表面的区域，同时保留较小溶解性的区域。随后用光吸收材料涂敷面板的内表面和保留的区域。其后，去除第一光阻层的保留区域和其上的光吸收材料，暴露面板的多个部分和在面板的内表面上限定第一光吸收材料保护带。对于第二光阻层和第三光阻层重复这个光刻处理，以便分别定义第二光吸收材料保护带和第三光吸收材料保护带。但是，第二光阻层和第三光阻层的光源位置位于相对于中央光源位置的不对称位置处。
文档编号H01J9/227GK1559076SQ02818791
公开日2004年12月29日 申请日期2002年9月16日 优先权日2001年9月25日
发明者塞缪尔·珀尔曼, 罗伯特·E·克雷德, 小理查德·莱普拉塔, E 克雷德, 塞缪尔 珀尔曼, 德 莱普拉塔 申请人:汤姆森特许公司