专利名称：一种具有可见光反射层的等离子体显示屏的制作方法
技术领域：
本发明属于显示技术领域，特别涉及一种具有可见光反射层的等离子体显示屏及制备方法。
背景技术：
等离子体显示屏是大屏幕平板显示的主要器件之一，具有主动发光和显示质量高等特 点。在国际上等离子体显示屏占据着大屏幕平板显示的重要市场，但面临着液晶的挑战，其 国内市场远不及液晶。造成这种现象的主要原因是等离子体显示屏的功耗较大，而且使用寿 命也不太理想。在显示性能方面，与液晶显示器相比，等离子体显示具有响应速度快和暗画 面的表现能力好等特点，如果能够解决功耗和寿命问题，等离子体显示屏可能成为下一代平 板显示的主体。
等离子体显示屏出现在半个多世纪之前，性能不断改善，特别是发光效率不断提高，市 售产品己达到1.8流明/瓦，总体发光效率与液晶显示器基本相当。事实上，这两种平板显示 器的功耗还是非常大。以55英寸的电视为例，要达到高清晰度所需要的高亮度，无论是液晶 电视还是等离子体电视，功耗都超过500瓦。在能源日益紧张的今天，这么大的功耗造成的 电能消耗是不可忍受的。对于当前广泛采用的等离子体显示屏，要提高发光效率是非常困难 的，近5年来几乎没有什么改善。要想大幅度提高等离子体显示屏的发光效率，器件结构和 材料必须要进行重大改进。
等离子体显示屏的发光效率分配如下气体放电效率大约20%，紫外线接收效率大约 40%，光子转换的能量效率30%，辐射到玻璃前板的可见光比例40%，玻璃前板透过率80 %，总体效率为0.77%。三基色白光的等效光谱效能为240流明/瓦，因此发光效率最大可 以达到1.85流明/瓦，而实际达到的也基本如此。由于紫外接收效率、光子转换能量效率基 本上没有提高的余地，以往人们最关注的是放电效率的提高。改善放电效率的有效手段包括 增大气压，提高氙气比例和改变障壁结构。增大气压和提高氙气比例会导致工作电压提高， 造成驱动困难，而改变障壁结构往往会增大工艺难度，两种手段都会导致器件成本的提高， 而且改善的余量都很小。
为了提高等离子显示屏的发光效率，同时和提高对比度， 一个简单而且非常容易想到的 方法是在荧光粉下设置一层可见光反射层。己经在生产中得到推广的方法是采用对可见光有 反射功能的后板介质层，即所谓的白介质层。将氧化钛等具有高折射率的金属氧化物混入低 熔点玻璃中制作后板介质层，就可以提高可见光反射率。将白介质涂覆在障壁的表面，可以 使反射率进一步提高(见中国专利文件200510092470.6、 200580000313.6)。实际上，白介 质的反射率并不太高，达到的效果也不够理想。为了进一步提高反射性能，有人提出采用金属反射薄膜，设置在荧光粉下面(00128492.4、 20071019280.2、 200610075590. x)。由于银 对可见光的反射率高达98%，铝的平均反射率也超过90%，所以反射层无例外地采用这两种 金属薄膜。上述三个专利中，提出保护的权利要求中的金属反射层基本可以分为4种结构， 分别是l.反射层设置在全部荧光粉层下；2.设置在全部荧光粉层下，但寻址电极上面的部 分去除；3.只设置在像素底部的荧光粉层下；4.只设置在障壁侧面的荧光粉层下。专利文件 00128492. 4只涉及第1种结构，CN20071019280. 2要求保护的内容包括第1、第3、第4种结 构，CN200610075590. x要求保护的内容包括第1、第2、第3、第4结构。等离子体显示屏设 计必须遵循一个根本原则，即必须对列方向相邻像素进行严格的隔离，包括气体隔离和电隔 离。气体隔离可以通过障壁比较理想的实现，而实现有效的电隔离只能通过减小寻址电极宽 度来加大电极间的距离。上述这些文件中，恰恰背离了这一原则，导电的反射层的引入，极 大地縮减了寻址电极之间的距离。通过有限元法计算各电极之间的电容，再利用电容网络就 可以分析计算这种结构显示屏的工作特性。详细分析计算结果如下对第1种结构，完全不 能进行正常寻址，需要点火的像素和不点火的像素之间的电压差别只有10伏左右，而通常结 构的显示屏的电压差为100伏左右。这种结构的显示屏上无论施加什么样的电视信号，都完 全不能正常显示。第2种结构中，如果寻址电极上面去除的反射层的面积比较小，则接近第 一种结构，完全不能工作，如果去除的面积大，接近第3种结构。第3种结构能进行正常寻 址，但寻址功耗非常高(对42英寸高清显示屏，仅寻址功耗就高达200瓦)，使电视整机效 率不升反降，同时误寻址的几率较高，显示屏工作不稳定。第4种结构中，由于反射层刚好 位于两列像素的中间，远离了寻址电极，因此可以正常工作，而且总体亮度有所提高。然而， 由于反射面设置在障壁的侧面，只能增加侧壁上的荧光粉发出的光强，对于位于电视机正面 的人，看到的亮度基本没有提高，只是增加了位于斜侧方向的人看到的亮度，这种情况只有 在多人共用一台电视时才出现，因此实际意义不大。事实上，第4中结构也只是理论上行得 通，工艺上极难实现，或者说通过当前已掌握的技术手段基本不能实现，即使未来能实现， 毕竟也因为成本太高而得不偿失。
专利00128492. 4虽然已经提出多年，并没有也不可能在产品中得以应用，专利 CN20071019280. 2和CN200610075590. x基本上是重复了 00128492. 4的构思，并补充了一些 修改后的结构。然而，所有这些结构都不能带来实质性技术进步。为了降低等离子体显示屏 的功耗，必须在保证寻址电极之间有效电隔离的前提下，制备出高效可见光反射层，而这正 是本发明所解决的问题。
发明内容
本发明针对当前流行的等离子体显示屏发光效率低的问题，提供一种具有可见光反射层 的等离子体显示屏，使其不仅具有显示器结构简单、材料普通、加工工艺简单等特点，而且 发光效率大幅度提高，使得该器件可以用于大屏幕、高清晰、高亮度显示，有可能成为下一代大屏幕平板显示的主流器件。
本发明的另一 目的是提供上述显示屏的制备方法。 本发明的技术方案如下 一种具有可见光反射层的等离子体显示屏，如图1所示，由前板和后板封接并排气而成; 前板包括前板玻璃ll、设置在前板玻璃上的前板电极、覆盖在电极上的前板透明介质层12 和氧化镁介质保护层13;前板电极统称为行电极，包括被称为X电极的透明导电的维持电极 14、被称为Y电极的透明导电的扫描一维持电极16、 X电极的汇流电极15、 Y电极的汇流电 极17;后板包括后板玻璃111、设置在后板玻璃上的被称为A电极的寻址电极113、设置在A 电极之上并且覆盖后板玻璃表面的后板介质层112、位于后板介质层上的障壁114、涂覆在障 壁间沟槽表面上的三基色荧光粉层115、 116、和117。本发明的技术其特征为，在所述的三 基色荧光粉与障壁间沟槽表面之间设置一层可见光反射层，该可见光反射层为不导电的非连 续岛状结构的单层金属薄膜或双层复合薄膜，单层金属薄膜的材料为银、铝或铑，双层复合 薄膜中与荧光粉相邻的膜层采用对可见光具有高反射率的金属，包括银、铝、铑，双层复合 薄膜的下层采用低熔点金属的氧化物，包括氧化铋、氧化锡、氧化铟、氧化镓。
银和铝为优先采用的反射可见光的金属，铑虽然具有较高的反射率和稳定性，但价格 太高，除非特殊情况， 一般不采用。在后续的高温处理工艺中，金属银或铝有可能与荧光粉 发生反应，降低反射率，为此在可见光反射层和荧光粉之间增加一层透明介质薄膜。理想的 透明介质薄膜材料是硅的氮化硅或氧化物，也可采用其它绝缘性的金属氧化物或氮化物。
与可见光反射层相配合，后板介质层不需要白介质，而釆用黑介质，用以吸收透过可见 光反射层的残余光，提高显示屏的暗室对比度。
本发明的核心技术是采用具有高反射率的金属制备可见光反射层，而且可见光反射层几 乎将整个障壁之间的沟槽表面覆盖，如附图1和2所示。这样一来，荧光粉产生的可见光除 了很小一部分被荧光粉自身、金属电极和前板玻璃等吸收外，大部分都能发射出去，从而提 高了发光效率。由于这层具有高反射率的金属薄膜是不导电的，对寻址电极和前板电极之间 的电容没有影响，对寻址电极之间的电容的影响也很小，只增加2%左右，可以忽略不计。
理论计算和实验结果都表明，当金属膜的反射率达到80%时，50%的可见光可以透射出 去。如图4所示的，采用后板白介质层的等离子体显示屏中，只有大约20%的光能够透射出 去。相比之下，本发明的发光效率为当前广泛采用结构的2倍以上。在障壁侧面和底部都涂 覆白介质的等离子体显示屏，大约34%的光能透射出去。本发明与之相比，发光效率也提高 了50%。在障壁的侧面上涂覆白介质很容易影响像素的结构，导致放电空间的縮小，工艺难 度很大。与之相比，沉积不导电的金属薄膜容易得多。
采用本发明的结构后，由于可见光反射层布满整个荧光粉层下面，因此各种角度的光都
得到加强，不存在只在障壁侧面设置反射层时，正面透光基本不增加的缺陷。由于这层反射膜本身是绝缘的，因此对显示屏的电特性基本不构成影响，驱动电路结构和驱动方式无须任 何改变就可以收到明显的效果。采用简单的薄膜沉积工艺，所制备的可见光反射薄膜会存在 于后板的整个表面，位于障壁顶部的容易受到剐蹭，出现局部导电，因此这部分反射薄膜最 好去除。
本发明适合各种障壁结构的等离子体显示屏，包括条形障壁、矩形障壁、菱形障壁、五 边形障壁、六边形障壁等。
本发明还提供了几种具有可见光反射层的等离子体显示屏的后板的制备方法。 一种具有可见光反射层的等离子体显示屏的后板的制备方法，采用如下主要步骤
1) 在后板玻璃上用常规方法制作A电极、后板介质层和障壁；
2) 沉积用于可见光反射层的单层或双层复合薄膜；
3) 涂覆光刻胶；
4) 对光刻胶进行掩膜曝光，使得障壁顶部的光刻胶和位于障壁侧面上靠近顶部的光刻 胶暴露于紫外线之下而感光，或采用非掩膜曝光，由于障壁顶部的光刻胶和障壁侧 面上靠近顶部的光刻胶厚度薄而彻底感光，其余部位非彻底感光；
5) 进行显影，暴露出障壁顶部和障壁侧面上靠近顶部的可见光反射层薄膜；
6) 刻蚀暴露出的可见光反射层薄膜，然后清洗掉剩余光刻胶，得到位于障壁间沟槽表 面上的可见光反射层；
7) 沉积透明介质薄膜；
8) 在障壁间的沟槽内涂覆三基色荧光粉，可采用丝网印刷或喷墨法进行； 上述步骤3、 4、 5、 6可以同时被取消，得到不同结构的等离子体显示屏。 另一种具有可见光反射层的等离子体显示屏的玻璃后板的制备方法，采用如下歩骤
1) 在后板玻璃上用常规方法制作A电极、后板介质层和障壁；
2) 沉积用于可见光反射层的单层薄膜或双层复合薄膜；
3) 涂覆能够固化的有机薄膜；
4) 对有机薄膜进行灰化处理，即在氧气放电等离子中对有机薄膜进行刻蚀，由于障壁 顶部的有机薄膜和障壁侧面上靠近顶部的有机薄膜厚度薄而被彻底刻蚀，其余部位 的有机薄膜被保留，暴露出障壁顶部和障壁侧面上靠近顶部的可见光反射层薄膜；
5) 刻蚀暴露出的可见光反射层薄膜，然后清洗掉剩余有机薄膜，得到位于障壁间沟槽 表面上的可见光反射层；
6) 沉积透明介质薄膜；
7) 在障壁间的沟槽内涂覆三基色荧光粉，可采用丝网印刷或喷墨法进行； 用于可见光反射层的单层薄膜的制备可按如下步骤进行
1)在已制备了障壁的后板上，沉积银或铝薄膜，沉积时后板加温到200。C以上；2)将得到的岛状结构的金属薄膜在相应的金属腐蚀液中浸泡，或进行等离子体刻蚀，
就可以得到不导电的非连续岛状结构的金属反射层。 用于可见光反射层的单层薄膜的制备还可按如下步骤进行
1) 在己经制备了障壁的后板玻璃上，沉积银、铝或铑薄膜；
2) 在己经沉积了金属薄膜的后板上，沉积有机物薄膜，沉积时后板加温，使得到的有 机薄膜呈非连续岛状结构；
3) 在金属腐蚀液中浸泡，或进行等离子体刻蚀，刻蚀掉非连续岛状有机薄膜没有覆盖 的金属；
4) 在有机溶液中清洗掉有机薄膜，得到不导电的非连续岛状结构的金属反射层。 用于可见光反射层的双层薄膜的制备可按如下步骤进行
1)在已经制备了障壁的后板上，沉积铋或锡薄膜，沉积时后板加温到13(TC以上；也可 沉积铟或镓薄膜，沉积时后板加温到8(TC以上；这些薄膜为非连续岛状结构，厚度 大于100纳米；
3) 将得到的具有非连续岛状结构的金属铋、锡、铟或镓的薄膜在空气中进行氧化，得
到相应的金属氧化物；
4) 沉积金属铝、铑或银，厚度小于70纳米。
本发明与现有技术相比，具有以下优点及突出性效果本发明不仅具有发光效率高，而 且器件结构和制备工艺简单，适合大规模生产。本发明发光效率远远超过已有技术达到的水 平，发光效率的提高使得器件工作时驱动脉冲数目减少，寿命可以大大延长，成功地解决了困 扰等离子体显示屏应用方面的两大难题，从而使得该器件用于大屏幕、高清晰、高亮度显示。
图1为本发明提供的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏的结构示意图。
图2为本发明提供的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏的断面图，为了明了起见， 前后板的相对位置旋转了 90度。
图3为本发明提供的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏的后板的制备流程图。 图4为广泛采用的等离子体显示屏的结构示意图。
图1和图2中ll-前板玻璃；12-前板透明介质层；13 —氧化镁介质保护层；14-X电极; 15 — X电极的汇流电极；16-Y电极；17- Y电极的汇流电极；111-后板玻璃；113—A电极；
112-后板介质层；114-障壁；115、 116、 117-三基色荧光粉层；118-可见光反射层。图3中 1)己经制备了A电极、后板介质层和障壁的后板；2)沉积可见光反射层；3)涂覆光刻胶； 4)曝光并显影后暴露出障壁顶部和障壁侧面靠近顶部的可见光反射层；5)刻蚀掉暴露的可 见光反射层；6)去掉光刻胶；7)涂覆三基色荧光粉层。
具体实施方式
下面对本发明提出的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏及制备方法，结合实施例及附图详细说明
图1为本发明提供的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏的结构示意图。
图2为本发明提供的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏的断面图，为了明了起见，前后板的相对位置旋转了 90度。
图3为本发明提供的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏的后板的制备流程图。
图1和图2中ll-前板玻璃；12-前板透明介质层；13 —氧化镁介质保护层；14_X电极；15 — X电极的汇流电极；16-Y电极；17-Y电极的汇流电极；111-后板玻璃；113 — A电极；112-后板介质层；114-障壁；115、 116、 117-三基色荧光粉层；118-可见光反射层。图3中1)已经制备了A电极、后板介质层和障壁的后板；2)沉积可见光反射层；3)涂覆光刻胶；4)曝光并显影后暴露出障壁顶部和障壁侧面靠近顶部的可见光反射层；5)刻蚀掉暴露的可见光反射层；6)去掉光刻胶；7)涂覆三基色荧光粉层。
实施例1
在玻璃后板上用常规的丝网印刷制备A电极、后板介质层，用喷砂和烧结工艺制备障壁；再用直流溅射方法沉积用于可见光反射层的银薄膜，厚度100纳米，沉积时衬底加温30(TC。涂覆光刻胶，由于重力和表面张力作用，光刻胶在沟槽底部厚，而在障壁顶部薄；不用掩膜对光刻胶进行曝光，再进行显影，障壁顶部和靠近顶部的侧面上的较薄的光刻胶被去掉。用酸腐蚀掉暴露出的银薄膜，在丙酮溶液中去掉光刻胶。用中频反应溅射方法沉积二氧化硅薄膜，厚度为200纳米。用丝网印刷方法印刷三基色荧光粉，分三次印刷。用加工好的后板与用传统技术制备的前板封装成完整器件。
实施例2
在玻璃后板上用常规的丝网印刷制备A电极、后板介质层，用喷砂和烧结工艺制备障壁；再用直流溅射方法沉积用于可见光反射层的银薄膜,厚度为150纳米，沉积时衬底加温30CTC 。涂覆光刻胶，并对光刻胶进行掩膜曝光，再进行显影，去掉障壁顶部和靠近顶部的侧面上感光的光刻胶；用酸腐蚀掉暴露出的银薄膜；在丙酮溶液中去掉光刻胶；用中频反应溅射方法沉积二氧化硅薄膜，厚度为200纳米。用丝网印刷方法印刷三基色荧光粉，分三次印刷。用加工好的后板与用传统技术制备的前板封装成完整器件。
实施例3
在玻璃后板上用常规的丝网印刷制备A电极、后板介质层，用喷砂和烧结工艺制备障壁;
再用直流溅射方法沉积用于可见光反射层的银薄膜，厚度为150纳米，沉积时衬底加温为
300°C。涂喷清漆，由于重力和表面张力作用，清漆在沟槽底部厚，而在障壁顶部薄，在氧气
放电等离子体中刻蚀掉障壁顶部和靠近顶部的侧面上的较薄的清漆。用酸腐蚀掉暴露出的银
薄膜；在丙酮等有机溶剂中去掉清漆；用等离子体增强化学气相沉积方法制备氮化硅薄膜，厚度为200纳米。用丝网印刷方法分别印刷三基色荧光粉，分三次印刷。用加工好的后玻璃基板与用传统技术制备的前玻璃基板封装成完整器件。实施例4
在玻璃后板上用常规的丝网印刷制备A电极、后板介质层，用喷砂和烧结工艺制备障壁;再用直流溅射方法沉积金属铋薄膜，厚度200纳米，沉积时衬底温度为15(TC，使其成为岛状结构。在空气中加温30(TC，将铋氧化成氧化铋，在其上沉积厚50纳米的铝膜，构成不导电的氧化铋一铝复合可见光反射膜。用等离子体增强化学气相沉积方法制备氮化硅薄膜，厚度为200纳米。用丝网印刷方法印刷三基色荧光粉，分三次印刷。用加工好的后板与用传统技术制备的前板封装成完整器件。
实施例5
在玻璃后板上用常规的丝网印刷制备A电极、后板介质层，用喷砂和烧结工艺制备障壁;再用直流溅射方法沉积用于可见光反射层的铝薄膜，厚度为150纳米，沉积时衬底加温30(TC。在稀盐酸中进行腐蚀，得到不导电的非连续岛状结构；用中频反应溅射方法沉积二氧化硅薄膜，厚度为200纳米。用丝网印刷方法印刷三基色荧光粉，分三次印刷。用加工好的后板与用传统技术制备的前板封装成完整器件。
实施例6
在玻璃后板上用常规的丝网印刷制备A电极、后板介质层，用喷砂和烧结工艺制备障壁;再用直流溅射方法沉积用于可见光反射层的银薄膜，厚度为150纳米，沉积时衬底加温IO(TC。蒸发一层小分子有机薄膜，沉积时后板加温到12(TC，在稀硝酸中腐蚀，用有机溶剂清洗掉有机薄膜。用中频反应溅射方法沉积二氧化硅薄膜，厚度为200纳米。用丝网印刷方法印刷三基色荧光粉，分三次印刷。用加工好的后板与用传统技术制备的甜板封装成完整器件。
权利要求
1.一种具有可见光反射层的等离子体显示屏，由前板和后板封接并排气而成；前板包括前板玻璃11、设置在前板玻璃上的前板电极、覆盖在电极上的前板透明介质层12和氧化镁介质保护层13；前板电极统称为行电极，包括被称为X电极的透明导电的维持电极14、被称为Y电极的透明导电的扫描-维持电极16、X电极的汇流电极15、Y电极的汇流电极17；后板包括后板玻璃111、设置在后板玻璃上的被称为A电极的寻址电极113、设置在A电极之上并且覆盖后板玻璃表面的后板介质层112、位于后板介质层上的障壁114、涂覆在障壁间沟槽表面上的三基色荧光粉层115、116、和117；其特征在于，在所述的三基色荧光粉与障壁间沟槽表面之间设置一层可见光反射层118，该可见光反射层采用不导电的非连续岛状结构的单层金属薄膜或双层复合薄膜，单层金属薄膜的材料为银、铝或铑，双层复合薄膜中与荧光粉相邻的膜层采用对可见光具有高反射率的金属，包括银、铝、铑，双层复合薄膜的下层采用低熔点金属的氧化物，包括氧化铋、氧化锡、氧化铟、氧化镓。
2. 根据权利要求l所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏，其特征在于与可见光 反射层相配合，所述的后板介质层采用黑介质，用以吸收透过可见光反射层的残余光，提 高显示屏的暗室对比度。
3. 根据权利要求l所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏，其特征在于，所述的可 见光反射层和荧光粉之间增加一层透明介质薄膜，其功能是防止可见光反射层的金属表面 与荧光粉发生化学作用，降低可见光反射层的反射率。
4. 根据权利要求l所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏，其特征在于， 一种具有 可见光反射层的等离子体显示屏的后板的制备方法，包括如下步骤1) 在后板玻璃上用常规方法制作A电极、后板介质层和障壁；2) 沉积用于可见光反射层的单层薄膜或双层复合薄膜；3) 涂覆光刻胶；4) 对光刻胶进行掩膜曝光，使得障壁顶部的光刻胶和位于障壁侧面上靠近顶部的光刻 胶暴露于紫外线之下而感光，或采用非掩膜曝光，由于障壁顶部的光刻胶和障壁侧 面上靠近顶部的光刻胶厚度薄而彻底感光，其余部位非彻底感光；5) 进行显影，暴露出障壁顶部和障壁侧面上靠近顶部的可见光反射层薄膜；6) 刻蚀暴露出的可见光反射层薄膜，然后清洗掉剩余光刻胶，得到位于障壁间沟槽表 面上的可见光反射层；7) 沉积透明介质薄膜；8) 在障壁间的沟槽内涂覆三基色荧光粉，可采用丝网印刷或喷墨法进行； 上述步骤3、 4、 5、 6可以同时被取消。
5. 根据权利要求4所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏后板制备方法，其特征在 于，所述的用于可见光反射层的单层薄膜的制备可按如下步骤进行1)在已经制备了障壁的后板上，沉积银或铝薄膜，沉积时后板加温到20(TC以上；2)将得到的岛状结构的金属薄膜在相应的金属腐蚀液中浸泡，或进行等离子体刻蚀，就可以得到不导电的非连续岛状结构的金属反射层； 如果第1步后得到的薄膜已经是不导电的非连续岛状结构，则第2步取消。
6. 根据权利要求4所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏后板制备方法，其特征在 于，所述的用于可见光反射层的单层薄膜的制备可按如下歩骤进行1) 在已经制备了障壁的后板上，沉积银、铝或铑薄膜；2) 在已经沉积了金属薄膜的后板上，沉积有机物薄膜，沉积时后板加温，使得到的有机 薄膜呈非连续岛状结构；3) 在金属腐蚀液中浸泡，或进行等离子体刻蚀，刻蚀掉岛状有机薄膜没有覆盖的金属；4) 在有机溶液中清洗掉有机薄膜，得到不导电的非连续岛状结构的金属反射层。
7. 根据权利要求4所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏后板制备方法，其特征在 于，所述的用于可见光反射层的双层薄膜的制备可按如下步骤进行1) 在已经制备了障壁的后板上，沉积铋、锡、铟或镓薄膜，沉积时后板加温使得这些薄 膜为非连续岛状结构，厚度大于100纳米；2) 将得到的具有非连续岛状结构的金属铋、锡、铟或镓的薄膜在空气中进行氧化，得到 相应的金属氧化物；3) 沉积金属铝、铑或银，厚度小于70纳米。
8. 根据权利要求l所述的一种具有可见光反射层的等离子体显示屏，其特征在于， 一种具有 可见光反射层的等离子体显示屏的后板的制备方法，包括如下步骤1) 在后板玻璃上用常规方法制作A电极、后板介质层和障壁；2) 沉积用于可见光反射层的单层薄膜或双层复合薄膜；3) 涂覆能够固化的有机薄膜；4) 对有机薄膜进行灰化处理，即在氧气放电等离子中对有机薄膜进行刻蚀，由于障壁 顶部的有机薄膜和障壁侧面上靠近顶部的有机薄膜厚度薄而被彻底刻蚀，其余部位 的有机薄膜被保留，暴露出障壁顶部和障壁侧面上靠近顶部的可见光反射层薄膜；5) 刻蚀暴露出的可见光反射层薄膜，然后清洗掉剩余的有机薄膜，得到位于障壁间沟 槽表面上的可见光反射层；6) 沉积透明介质薄膜；7) 在障壁间的沟槽内涂覆三基色荧光粉，可采用丝网印刷或喷墨法进行。
全文摘要
具有可见光反射层的等离子体显示屏及其制备方法，属于显示技术领域。本发明的技术特征是在三基色荧光粉与障壁间沟道的外表面之间设置一层可见光反射层；该可见光反射层由不导电的非连续岛状结构的单层薄膜或双层复合薄膜构成，单层薄膜或双层复合薄膜中与荧光粉相邻的膜层采用对可见光具有高反射率的金属制备。与广泛采用的等离子体显示屏相比，本发明的发光效率高，对降低等离子体显示屏的功耗，提高使用寿命有非常重要的意义。
文档编号H01J17/49GK101645382SQ20081013536
公开日2010年2月10日 申请日期2008年8月4日 优先权日2008年8月4日
发明者李德杰 申请人:李德杰