专利名称：一种等离子体放电表面处理设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种等离子体放电设备，尤其是一种适用于在大气中进行等离子体放电的表面处理设备。
背景技术：
等离子放电表面处理方法，由于其清洁高效越来越受到表面处理领域的重视。现有技术中，放电等离子体源从总体上说有两类一是真空放电，低压辉光放电是其典型的代表；二是大气压放电类，电晕放电是其典型代表。其中，低压辉光放电由于其处理后的表面均勻一致以及其放电气氛、输入电压、频率等参数的可控性而被广泛应用。然而，低压辉光放电通常要在10托以下的低压条件下进行，在进行表面处理时往往需要大型的真空装置予以配合，导致处理成本居高不下。同时， 由于被处理物大都含有水分，在低压氛围中，水分气化从处理物表面逸出而影响等离子体处理表面性能的获得。此外，由于等离子体处理过程中很容易发热，该方法也不适用于低熔点的被处理物。而与低压辉光放电不同，电晕放电是在大气压条件下，在大气或氮气等氛围中进行，其廉价简便等优点使其受到广泛关注。然而，电晕放电由于是电子的束状放电，在被处理物的表面经常产生不均勻的现象。并且电晕放电的气体温度与低温等离子体的气体温度相比较高，除了亲水化表面处理外，在其他领域的应用受到很大限制。为了解决上述两种处理方法的不足，又出现了大气压辉光放电的表面处理方法。 其能够在近大气压条件下进行表面处理从而不需要大型的真空装置，同时在处理的过程中发热很少，从而适于处理含水分亦或低熔点的被处理物。并且由于等离子体放电区域在处理过程不扩大，使得表面的局部处理更为有效准确。然而，上述大气压辉光放电的处理方法必须要在处理室中通入氦、氖、氩、氮等不活性气体以维持稳定的放电，因此无法在大气中放置被处理物以进行表面处理。也正因此，尽管其适用于表面的局部处理，但并不能像激光表面处理那样处理很狭小的局部。
发明内容为了克服上述各处理方法的不足，本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能在大气中进行辉光等离子体放电表面处理的设备，以适用于各种材料的涂层、蚀刻等表面处理，同时对材料表面进行更好的局部处理。本实用新型解决其技术问题所采用的具体技术方案是一种在大气中进行等离子体放电的表面处理设备，其包括一个绝缘体容器，所述绝缘体容器具有气体导入口以及与所述气体导入口相对的尖端开口作为气体导出口，绝缘体容器内部配置有电极，所述电极与所述绝缘体容器外部的交流电源相连，当所述电极通电后在尖端开口处产生等离子体， 所述等离子体从尖端开口处射出，在所述等离子体射出的位置配置承载被处理物的载物台。[0008]本实用新型的有益效果是，在大气中即能以极简单的方式实施辉光等离子体放电表面处理，适用于各种材料的各种表面处理，尤其适用于特别局部的，如点状表面处理。
图1是本实用新型中在大气中进行等离子体放电的表面处理设备的示意图。1.绝缘体容器；2.气体到入口 ；3.尖端开口 ；4.电极；5.交流电源；6.等离子体； 7.被处理物；8.载物台。
具体实施方式
如图1所示，一种在大气中进行等离子体放电的表面处理设备，其包括一个绝缘体容器1，所述绝缘体容器具有气体导入口 2以及与所述气体导入口相对的尖端开口 3作为气体导出口，绝缘体容器内部配置有电极4，所述电极与所述绝缘体容器外部的交流电源 5相连，当所述电极通电后在尖端开口处产生等离子体6，所述等离子体从尖端开口 3处射出，在所述等离子体射出的位置配置承载被处理物7的载物台8。
权利要求1. 一种在大气中进行等离子体放电的表面处理设备，其包括一个绝缘体容器，所述绝缘体容器具有气体导入口以及与所述气体导入口相对的尖端开口作为气体导出口，绝缘体容器内部配置有电极，所述电极与所述绝缘体容器外部的交流电源相连，当所述电极通电后在尖端开口处产生等离子体，所述等离子体从尖端开口处射出，在所述等离子体射出的位置配置承载被处理物的载物台。
专利摘要一种适用于在大气中进行等离子体放电的表面处理设备，其包括一个绝缘体容器，所述绝缘体容器具有气体导入口以及与所述气体导入口相对的尖端开口作为气体导出口，绝缘体容器内部配置有电极，所述电极与所述绝缘体容器外部的交流电源相连，当所述电极通电后在尖端开口处产生等离子体，该设备能够在大气中以极简单的方式实施辉光等离子体放电表面处理，适用于各种材料的各种表面处理，尤其适用于特别局部的，如点状表面处理。
文档编号H01J37/36GK202035209SQ20112006254
公开日2011年11月9日 申请日期2011年3月11日 优先权日2011年3月11日
发明者倪杨, 郑顺奇, 齐伟光 申请人:宁波表面工程研究中心