技术特征：
技术总结
本发明公开了一种使用激光干涉反馈的超长金属带式光栅尺刻划系统，主要包括：为金属带覆膜的覆膜单元，使用激光在覆膜金属带预设位置刻划掉覆膜的激光蚀刻单元以及通过化学/电化学手段腐蚀掉覆膜金属带中被激光刻划掉覆膜位置的金属，最终形成光栅尺的金属蚀刻单元，以及保证金属带依次经过上述机构的传输机构。激光蚀刻单元中设有夹持金属带沿工作方向运动的夹持模块，该模块作为金属带主要的前进动力源。同时为了保证能够高精度的测量夹持模块的运动距离，以使得运动距离和光栅刻划位置精确对应，激光蚀刻单元中还设有激光干涉测量模块和输出激光的激光模块。
技术研发人员：张赞秋;孟祥瑞;高岩;叶东国;张宁
受保护的技术使用者：大连榕树光学有限公司
技术研发日：2017.08.02
技术公布日：2017.11.07