技术特征：
1.一种加工系统，对物体照射能量射束来加工所述物体，所述加工系统包括：载置装置，载置所述物体；照射装置，对所述物体照射所述能量射束；以及受光装置，具有射束通过构件及受光部，所述射束通过构件具有使所述能量射束衰减的衰减区域与使所述能量射束通过的多个通过区域，所述受光部接收通过了所述多个通过区域的所述能量射束。2.根据权利要求1所述的加工系统，其中对所述射束通过构件照射的所述能量射束的、相对于所述射束通过构件的相对位置沿着所述多个通过区域所排列的方向而变化。3.根据权利要求1或2所述的加工系统，其中在所述多个通过区域所排列的方向上，由所述照射装置在所述射束通过构件上照射所述能量射束的区域的大小大于所述通过区域的间距。4.根据权利要求1或2所述的加工系统，其中在所述多个通过区域所排列的方向上，由所述照射装置在所述射束通过构件上照射所述能量射束的区域的大小为所述通过区域的间距以下。5.根据权利要求1至4中任一项所述的加工系统，其中在经由了所述多个通过区域中的一个通过区域的所述能量射束到达所述受光部的期间内的至少一部分期间，经由了所述多个通过区域中的与所述一个通过区域不同的一个通过区域的所述能量射束到达所述受光部。6.根据权利要求1至5中任一项所述的加工系统，其中所述多个通过区域具有：沿与所述多个通过区域所排列的方向交叉的第一方向延伸的第一线状的第一通过区域、以及沿与所述第一方向倾斜地交叉的第二方向延伸的第二线状的第二通过区域。7.根据权利要求6所述的加工系统，其中所述多个通过区域具有沿所述第一方向延伸的第三线状的第三通过区域。8.根据权利要求1至7中任一项所述的加工系统，其中所述多个通过区域包含沿着第一方向排列且沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的线状的通过区域。9.根据权利要求8所述的加工系统，其中所述多个通过区域包含沿着与所述第一方向交叉的第三方向排列且沿与所述第三方向交叉的第四方向延伸的线状的通过区域。10.一种测量构件，包括对物体照射来自射束源的能量射束的照射装置、以及利用测量射束来测量所述物体的测量装置，且被用于对所述物体进行加工的加工系统，所述测量构件包括：通过区域，使朝向接收所述能量射束的受光部的所述能量射束通过；以及标记，由所述测量装置来进行测量，与所述通过区域具有规定的位置关系。11.根据权利要求10所述的测量构件，其中具有使所述能量射束衰减且与所述通过区域邻接地配置的衰减区域。12.根据权利要求11所述的测量构件，其中
所述通过区域被设在所述衰减区域中。13.一种所述加工系统，包括如权利要求10至12中任一项所述的测量构件。14.根据权利要求13所述的加工系统，包括：载置装置，能够移动地载置所述物体；以及获取装置，获取与所述载置装置的位置相关的信息，所述获取装置获取与所述受光部接收到所述能量射束时的所述载置装置的位置相关的信息、以及与测量出所述标记时的所述载置装置的位置相关的信息。15.一种加工系统，对物体照射能量射束来加工所述物体，所述加工系统包括：载置装置，载置所述物体；照射装置，对所述物体照射所述能量射束；受光装置，具有射束通过构件及受光部，所述射束通过构件具有使所述能量射束衰减的衰减区域与使所述能量射束通过的通过区域，所述受光部接收通过了所述通过区域的所述能量射束；以及罩构件，覆盖所述通过区域。16.根据权利要求15所述的加工系统，其中所述罩构件在覆盖所述通过区域的第一位置与不覆盖所述通过区域的第二位置之间移动。17.根据权利要求16所述的加工系统，其中在对所述物体照射所述能量射束时，所述罩构件位于所述第一位置，在通过所述受光部来接收所述能量射束时，所述罩构件位于所述第二位置。18.根据权利要求16或17所述的加工系统，其中所述射束通过构件被配置在设于所述载置装置的凹坑的内部，当所述罩构件位于所述第一位置时，所述罩构件与所述射束通过构件在所述凹坑的内部形成空间。19.根据权利要求18所述的加工系统，包括：气体供给装置，对所述凹坑的内部的所述空间供给气体。20.根据权利要求19所述的加工系统，其中使用来自所述气体供给装置的气体来移动所述罩构件。21.根据权利要求16至20中任一项所述的加工系统，其中当所述罩构件位于所述第一位置时，所述射束通过构件与所述能量射束所通过的空间隔开。22.根据权利要求15至21中任一项所述的加工系统，包括：气体供给装置，对所述射束通过构件的所述照射装置侧的空间供给气体。23.根据权利要求22所述的加工系统，其中所述气体供给装置通过供给所述气体，从而防止物质对所述通过区域的至少一部分的附着。24.根据权利要求22或23所述的加工系统，其中所述气体供给装置通过供给所述气体，从而去除附着于所述通过区域的至少一部分的物质。
25.根据权利要求15至24中任一项所述的加工系统，包括：测量装置，利用测量射束来测量所述物体，所述射束通过构件包括通过所述测量装置来测量的标记，所述罩构件覆盖所述标记。26.一种加工系统，对物体照射能量射束来加工所述物体，所述加工系统包括：载置装置，载置所述物体；照射装置，对所述物体照射所述能量射束；受光装置，具有接收所述能量射束的受光部，且至少一部分被设于所述载置装置；测量装置，测量所述物体以及所述受光装置的至少一部分中的至少一者；移动装置，使所述载置装置移动；获取装置，获取与所述载置装置的位置相关的信息；以及控制装置，控制所述移动装置，所述控制装置使所述载置装置移动至所述测量装置能够测量所述受光装置的至少一部分的可测量位置，使用所述获取装置来获取与已移动至所述可测量位置的所述载置装置的位置相关的测量位置信息，基于所述测量位置信息来控制所述载置装置的位置。27.根据权利要求26所述的加工系统，其中所述控制装置在第一时机，使用所述获取装置来获取第一测量位置信息，所述第一测量位置信息与已移动至所述测量装置能够测量所述受光装置的至少一部分的位置的所述载置装置的位置相关，所述控制装置在与所述第一时机不同的第二时机，使用所述获取装置来获取第二测量位置信息，所述第二测量位置信息与已移动至所述测量装置能够测量所述受光装置的至少一部分的位置的所述载置装置的位置相关，所述控制装置基于所述第一测量位置信息与所述第二测量位置信息来控制所述载置装置的位置。28.根据权利要求27所述的加工系统，其中所述控制装置基于所述第一测量位置信息与所述第二测量位置信息，对所述测量装置能够测量所述受光装置的至少一部分的、所述载置装置的位置的变化进行管理。29.根据权利要求27或28所述的加工系统，其中所述控制装置将在所述第一时机获取的所述第一测量位置信息设定为所述测量装置能够测量所述受光装置的至少一部分的、所述载置装置的基准位置的信息，基于在所述第一时机之后的所述第二时机获取的所述第二测量位置信息与所述第一测量位置信息，来控制所述载置装置的位置。30.根据权利要求29所述的加工系统，其中所述受光装置包括具有使所述能量射束通过的通过区域的射束通过构件。31.根据权利要求30所述的加工系统，其中在所述载置装置位于基准位置的状态下，所述射束通过构件的基准被配置在所述测量装置的测量范围的中心或所述中心的附近。
32.根据权利要求26至31中任一项所述的加工系统，其中所述控制装置使所述载置装置移动至所述照射装置能够对所述受光装置的至少一部分照射所述能量射束的可照射位置，使用所述获取装置来获取与已移动至所述可照射位置的所述载置装置的位置相关的照射位置信息，基于所述照射位置信息来控制所述载置装置的位置。33.一种加工系统，对物体照射能量射束来加工所述物体，所述加工系统包括：载置装置，载置所述物体；照射装置，对所述物体照射所述能量射束；受光装置，具有接收所述能量射束的受光部，且至少一部分被设于所述载置装置；测量装置，测量所述物体以及所述受光装置的至少一部分中的至少一者；移动装置，使所述载置装置移动；获取装置，获取与所述载置装置的位置相关的信息；以及控制装置，控制所述移动装置，所述控制装置使所述载置装置移动至所述照射装置能够对所述受光装置的至少一部分照射所述能量射束的可照射位置，使用所述获取装置来获取与已移动至所述可照射位置的所述载置装置的位置相关的照射位置信息，基于所述照射位置信息来控制所述载置装置的位置。34.根据权利要求32或33所述的加工系统，其中所述控制装置在第三时机，使用所述获取装置来获取第一照射位置信息，所述第一照射位置信息与已移动至所述照射装置能够对所述受光装置的至少一部分照射所述能量射束的位置的所述载置装置的位置相关，所述控制装置在与所述第三时机不同的第四时机，使用所述获取装置来获取第二照射位置信息，所述第二照射位置信息与已移动至所述照射装置能够对所述受光装置的至少一部分照射所述能量射束的位置的所述载置装置的位置相关，所述控制装置基于所述第一照射位置信息与所述第二照射位置信息来控制所述载置装置的位置。35.根据权利要求34所述的加工系统，其中所述控制装置基于所述第一照射位置信息与所述第二照射位置信息，对所述照射装置能够对所述受光装置的至少一部分照射所述能量射束的、所述载置装置的位置的变化进行管理。36.根据权利要求34或35所述的加工系统，其中所述控制装置将在所述第三时机获取的所述第一照射位置信息设定为所述照射装置能够对所述受光装置的至少一部分照射所述能量射束的、所述载置装置的基准位置的信息，基于在所述第三时机之后的所述第四时机获取的所述第二照射位置信息与所述第一照射位置信息，来控制所述载置装置的位置。37.根据权利要求33至36中任一项所述的加工系统，其中所述受光装置包括具有使所述能量射束通过的通过区域的射束通过构件。
38.根据权利要求37所述的加工系统，其中在所述载置装置位于基准位置的状态下，所述射束通过构件的基准被配置在所述照射装置所照射的所述能量射束的照射范围的中心或所述中心的附近。39.一种加工系统，对物体照射来自射束源的能量射束以加工所述物体，所述加工系统包括：载置装置，能够移动地载置所述物体；以及照射装置，对所述物体照射所述能量射束，所述照射装置包含使所述能量射束的照射位置移动的照射位置移动构件，所述载置装置的移动方向与所述照射位置的移动方向为相同的方向。40.根据权利要求39所述的加工系统，包括：移动装置，具有使所述载置装置沿着直线方向移动的移动构件，所述照射位置移动构件沿着一个移动方向移动而使所述照射位置沿着所述直线方向移动。41.根据权利要求40所述的加工系统，其中所述移动装置在将所述移动构件设为第一移动构件时，具有使所述移动构件沿着与所述直线方向交叉的另一直线方向移动的第二移动构件，所述照射位置移动构件沿着与所述一个移动方向不同的另一移动方向移动而使所述照射位置沿着所述交叉的另一直线方向移动。42.根据权利要求40或41所述的加工系统，其中所述照射装置包括对所述能量射束进行聚光的聚光光学系统，所述照射位置移动构件能够旋转地设在所述射束源与所述聚光光学系统之间。43.根据权利要求39至42中任一项所述的加工系统，包括：受光装置，具有接收所述能量射束的受光部；以及测量装置，测量所述受光装置中的被设于所述载置装置的部分。44.根据权利要求43所述的加工系统，包括：获取装置，获取与所述受光部接收到所述能量射束时的所述载置装置的位置相关的信息、以及与所述测量装置测量出所述受光装置中的被设于所述载置装置的所述部分时的所述载置装置的位置相关的信息。45.根据权利要求43或44所述的加工系统，其中所述受光装置接收被照射至第一照射位置的所述能量射束，且接收被照射至从所述第一照射位置沿着所述移动方向而不同的第二照射位置的所述能量射束。46.根据权利要求43至45中任一项所述的加工系统，其中所述受光装置在所述载置装置位于第一位置时接收所述能量射束，且在所述载置装置位于从所述第一位置沿着所述移动方向而不同的第二位置时接收所述能量射束。
技术总结
加工系统对物体照射能量射束来加工物体，所述加工系统包括：载置装置，载置物体；照射装置，对物体照射能量射束；以及受光装置，具有射束通过构件及受光部，所述射束通过构件具有使能量射束衰减的衰减区域与使能量射束通过的多个通过区域，所述受光部接收通过了多个通过区域的能量射束。区域的能量射束。区域的能量射束。
技术研发人员：江上茂树 立崎阳介
受保护的技术使用者：株式会社尼康
技术研发日：2020.04.15
技术公布日：2022/12/1