专利名称：二元布气管的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种二元布气管，尤其涉及一种控制磁控溅射镀进气的二元布气管的装置。
背景技术：
镀膜玻璃如今己广泛应用于触摸屏领域和液晶显示领域，而玻璃镀膜技术也日新月异。磁控溅射镀膜技术目前广泛应用于玻璃镀膜，特别是在大面积玻璃镀膜工业上，是主要镀膜方式。但是，磁控反应溅射镀膜技术中，控制反应气体的流量是一个重要环节。常用单一进气管的方式，由于实行单管进气在流导上存在着差异，从气体喷嘴处喷出的气体流量会从中心向两端逐渐减少，导致镀膜不均匀。
实用新型内容
本实用新型解决的技术问题是克服现有磁控溅射镀膜技术中，采用单一进气管不能实现各部分均匀进气导致镀膜不均匀的技术问题。
本实用新型提供的解决技术问题的技术方案是:构建一种二元布气管，包括磁控溅射阴极的进气管、控制进气管流量的阀门，所述磁控溅射阴极的进气管的末端部分和中间部分各自采用独立的进气管分别供气。
本实用新型解决技术问题的进一步技术方案是所述控制进气管流量的阀门为压电阀门。
本实用新型解决技术问题的进一步技术方案是所述磁控溅射阴极的 进气管的中间部分的进气管分布为多层，各层分别进气。
本实用新型解决技术问题的进一步技术方案是所述磁控溅射阴极的 进气管的中间部分的多层气管采取二进制布局，即第一层分隔成2i个独立 空间，由2i个进气管分别供气，第二层分隔成22个独立空间，由22个进气 管分别供气，依次类推，至符合气体控制系统需要为止。
本实用新型技术方案的技术效果是通过构建一种二进制布气管，使 磁控溅射阴极末端部分和中间部分都能更加均匀地进气，从而使镀膜更加 均匀。
图1为本实用新型气管分布结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本实用新型技术方案进行进一步说明 如图1所示，本实用新型构建一种二元布气管，包括磁控溅射阴极的 进气管8、控制进气管流量的阀门1，所述磁控溅射阴极的进气管8的末端 部分6和中间部分5各自采用独立的进气管8分别供气。由于实行单管进 气在流导上存在着差异，从气体喷嘴处喷出的气体流量会从中心向两 端逐渐减少，导致镀膜不均匀。本技术方案采用二元布气管，磁控溅射阴极的末端部分6有两个，分别由两个进气管8供气，末端部分只有一个隔离空间，每个末端部分采用一个进气管8供气，而磁控溅射阴极的中间部分也采用单独的进气管8供气，这样就克服了单管供气过程中，从气体喷嘴处喷出的气体流量会从中心向两端逐渐减少的技术问题，从而使镀膜更加均匀。本实用新型控制进气管的阀门装置1优先采取压电阀门。
如图1所示，本实用新型还根据需要对进气管8的布局进行进一步改进，磁控溅射阴极的中间部分设置成多层隔离空间，每层均采用独立的进气管8供气，每层以不锈钢板隔离开，防止串气。所述磁控溅射阴极的进气管的中间部分5的最外层为排气孔4，均匀分布。所述磁控溅射阴极的进气管的中间部分5的多层进气管8还可以采取二进制布局，即第一层分隔成2i个独立空间，由2'个进气管8分别供气，第二层分隔成22个独立空间，由22个进气管分别供气，依次类推，至符合气体控制系统需要为止。所述每个隔离空间以不锈钢板隔离开，防止串气。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。
权利要求1. 一种二元布气管，包括磁控溅射阴极的进气管、控制进气管流量的阀门，其特征在于所述磁控溅射阴极的进气管的末端部分和中间部分各自采用独立的进气管分别供气。
2、 根据权利要求1所述的二元布气管，其特征在于，所述控制进气管流量 的阀门为压电阀门。
3、 根据权利要求1所述的二元布气管，其特征在于，所述磁控溅射阴极的 进气管的中间部分的进气管分布为多层，各层分别进气。
4、 根据权利要求3所述的二元布气管，其特征在于，所述磁控溅射阴极的 进气管的中间部分的多层气管采取二元布局，即第一层分隔成2'个独立空 间，由2'个进气管分别供气，第二层分隔成22个独立空间，由22个进气管 分别供气，依次类推，至符合气体控制系统需要为止。
专利摘要本实用新型涉及一种二元布气管，包括磁控溅射阴极的进气管、控制进气管流量的阀门，所述磁控溅射阴极的进气管的末端部分和中间部分各自采用独立的进气管分别供气。通过构建一种二元布气管，使磁控溅射阴极末端部分和中间部分都能更加均匀地进气，从而使反应溅射镀膜更加均匀。
文档编号C23C14/35GK201313933SQ20092013519
公开日2009年9月23日 申请日期2009年3月11日 优先权日2009年3月11日
发明者徐日宏 申请人:深圳市三鑫精美特玻璃有限公司