专利名称：换滤芯时不影响后研磨作业的晶圆研磨液产出结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种换滤芯时不影响后研磨作业的晶圆研磨液产出结构。
背景技术：
拜集成电路的蓬勃发展，使现今电子产品越发小巧精密，而每种集成电路的核心 零件“芯片”，是先从每块标准直径晶圆切割而来，由于电子产品越做越小、越多机能，使得 单一晶圆裁切出的芯片，也越细小多数量，假若局部稍切磨坏就会坏损好几片芯片，这也代 表好几件原本有机会在市场上，创造可观利润的电子产品损失泡汤，因此研磨晶圆非常重 要，而供应晶圆研磨机研磨晶圆的晶圆研磨液自然马虎不得。晶圆研磨液为水性研磨浆液，二氧化硅，业界英文通称为SLURRY，必须从原液混入 纯水(业界英文通称为DI)调配得宜，才适合晶圆研磨，混入纯水太多会变得过稀无研磨效 果，或混入纯水太少变得过浓产生过量研磨，另外晶圆液混酸(即加入纯水及酸)完后向晶 圆研磨机输送晶圆研磨液前，还要将过大的微粒滤除，以避免过大的微粒刮伤晶圆表面，现 有从原料槽抽出晶圆研磨原液跟纯水定量注入混酸槽完成混酸，再抽出拌妥晶圆研磨液到 供应槽储备，并由供应槽供应拌妥晶圆研磨液到晶圆研磨机进行后续研磨作业，都有完整 的自控生产回路。且如
图1所示，现有晶圆研磨液产出结构的供应槽及周围线路图，其过滤晶圆研 磨液的过滤器10、11、12、13，是以数只装设于供应槽20的供应槽输出管21，该些过滤器10、 11、12、13的过滤能力，约在7μ粒径大小，供应槽20流出的拌妥晶圆研磨液，必先经过滤 器10、11、12、13过滤，将较大微粒滤除后，才供应至主管路送往研磨作业，但此结构会造成 以下缺点1.于使用一段时间，滤芯阻塞到设定限度，但仍在生产当中时，碍于临时停机换修 会导致整批生产后续难以衔接的完全损失，莫不想不停机很快地抢修换好新滤芯，但一拆 到滤芯，就会使供应槽输出管的主供应系统断开，产生输出的晶圆研磨液压力及流量骤减， 导致研磨晶圆时流量压力不均的状况，而刚换好的滤芯也须要等一段时间，才会注满待过 滤的滤晶圆研磨液，无法马上回复流量压力，因此纵使迅速地换好新滤芯，也会因瞬间改变 流量压力，对研磨质量产生影响，使晶圆不良率升高。2.再由于过滤器位于主供应系统上，因此无法用太过精密的滤芯去过滤，怕会影 响整个供应系统的压力及流量，而造成晶圆研磨时的流量及压力不稳定，因此若采用精密 过滤能力在7μ以下的滤芯，会很容易阻塞，导致更换频繁让主供应系统上的晶圆研磨液 压力及流量不稳定。有鉴于现有晶圆研磨液生产过滤构造，导致上述影响研磨晶圆压力流量不稳的种 种缺点，因而，本创作人乃积极研究改进之道，终于研制出本实用新型。
实用新型内容本实用新型所要解决的主要技术问题在于，克服现有技术存在的上述缺陷，而提供一种换滤芯时不影响后研磨作业的晶圆研磨液产出结构，使产出当中，过滤器的滤芯阻 塞到设定限度时，不停机换新滤芯的短暂抢修期间，仍能借由供应槽内稳定的拌妥晶圆研 磨液存量，及畅通不受换修滤芯波及的供应槽输出管，使晶圆研磨机仍有稳定的研磨液压 力及流量进行研磨，保持晶圆研磨良率，可将更小微粒过滤去除，降低研磨晶圆刮伤表面的 机率。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是一种换滤芯时不影响后研磨作业的晶圆研磨液产出结构，主要由一混酸稀释晶圆 研磨原液的混酸槽、至少一只滤除过大微粒的过滤器、及一储备并供应拌妥晶圆研磨液到 晶圆研磨机的供应槽管接而成，其特征在于该些过滤器不设于供应槽的供应槽输出管，而 设于供应槽的供应槽输入管，使产出当中，过滤器的滤芯阻塞到设定限度时，不停机换新滤 芯的短暂抢修期间，仍能借由供应槽内稳定的拌妥晶圆研磨液存量，及畅通不受换修滤芯 波及的供应槽输出管，使晶圆研磨机仍有稳定的研磨液压力及流量进行研磨，保持晶圆研 磨良率。前述过滤器滤芯孔径为6 μ以至于1 μ。本实用新型此种换滤芯时不影响后研磨作业的晶圆研磨液产出结构，因更换滤芯 不会造成供应槽输出管内，晶圆研磨液的压力及流量压降、升压等不稳定状况，因此可时常 不停机就更换滤芯，就能使用较精密的滤芯(6 μ以至于1 μ )进行过滤，如此更可将更小微 粒过滤去除，更降低研磨晶圆刮伤表面的机率。本实用新型的有益效果是，使产出当中，过滤器的滤芯阻塞到设定限度时，不停机 换新滤芯的短暂抢修期间，仍能借由供应槽内稳定的拌妥晶圆研磨液存量，及畅通不受换 修滤芯波及的供应槽输出管，使晶圆研磨机仍有稳定的研磨液压力及流量进行研磨，保持 晶圆研磨良率，可将更小微粒过滤去除，降低研磨晶圆刮伤表面的机率。
以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是现有晶圆研磨液产出结构的供应槽及周围线路图。图2是装设本实用新型换滤芯时不影响后研磨作业的晶圆研磨液产出结构的线 路图。图中标号说明10、11、12、13....过滤器301、302....供应槽输入管20····供应槽21···.供应槽输出管100....混酸槽200、201…·过滤器300. · · ·供应槽
具体实施方式
如图2所示，本实用新型此种换滤芯时不影响后研磨作业的晶圆研磨液产出结 构，主要由一混酸稀释晶圆研磨原液的混酸槽100、至少一只滤除过大微粒的过滤器200、
4201、及一储备并供应拌妥晶圆研磨液到晶圆研磨机(由于本实用新型是改进到晶圆研磨 机前的生产结构，因此图中未示晶圆研磨机)的供应槽300管接而成，特别使该些过滤器 200,201设于供应槽输入管301、302，(该些管301、302同时也是混酸槽100的输出管)。由此构成，使产出当中，过滤器200、201的滤芯阻塞到设定限度时，不停机换新滤 芯的短暂抢修期间，仍能借由供应槽300内稳定的拌妥晶圆研磨液存量，及畅通不受换修 滤芯波及的供应槽输出管301、302，使晶圆研磨机仍有稳定的研磨液进行研磨，改进现有过 滤器设于供应槽输出管，不停机换新滤芯的抢修期间，会造成对晶圆研磨产生不稳定供应 研磨液的缺点，而且所揭示的结构亦是具有前所未有的创新构造，具有新颖性、创造性、实 用性，符合有关新型专利要件的规定，故依法提起申请。以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上 的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与 修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
权利要求一种换滤芯时不影响后研磨作业的晶圆研磨液产出结构，主要由一混酸稀释晶圆研磨原液的混酸槽、至少一只滤除过大微粒的过滤器、及一储备并供应拌妥晶圆研磨液到晶圆研磨机的供应槽管接而成，其特征在于该些过滤器不设于供应槽的供应槽输出管，而设于供应槽的供应槽输入管。
2.根据权利要求1所述的换滤芯时不影响后研磨作业的晶圆研磨液产出结构，其特征 在于所述过滤器滤芯孔径为6 μ以至于1μ。
专利摘要一种换滤芯时不影响后研磨作业的晶圆研磨液产出结构，主要由一混酸稀释晶圆研磨原液的混酸槽、至少一只滤除过大微粒的过滤器、及一储备并供应拌妥晶圆研磨液到晶圆研磨机的供应槽管接而成，该些过滤器不设于供应槽的供应槽输出管，而设于供应槽的供应槽输入管。本实用新型使产出当中，过滤器的滤芯阻塞到设定限度时，不停机换新滤芯的短暂抢修期间，仍能借由供应槽内稳定的拌妥晶圆研磨液存量，及畅通不受换修滤芯波及的供应槽输出管，使晶圆研磨机仍有稳定的研磨液压力及流量进行研磨，保持晶圆研磨良率，可将更小微粒过滤去除，降低研磨晶圆刮伤表面的机率。
文档编号B24B57/02GK201751104SQ20102022379
公开日2011年2月23日 申请日期2010年6月12日 优先权日2010年6月12日
发明者黄怡文 申请人:宸沅国际股份有限公司