抛光刷，抛光方法，抛光装置及磁盘用玻璃基板的制造方法

专利名称：抛光刷，抛光方法，抛光装置及磁盘用玻璃基板的制造方法
技术领域：
本发明涉及抛光刷、抛光构件、利用所述抛光刷和抛光构件的抛光方法及抛光装置，特别是，涉及适合于在小直径磁盘用玻璃基板的内周侧端面的抛光中使用的抛光刷、抛光构件、抛光方法及抛光装置，以及磁盘用玻璃基板及磁盘的制造方法。
背景技术：
目前，信息记录技术，特别是磁记录技术，伴随着IT业的迅猛发展，要求飞跃性的技术革新。对于装载在硬盘驱动器(HDD)等信息记录装置上的磁盘，根据高容量化的需要， 要求能够实现40Gbit/inch2 lOOGbit/inch2以上的信息记录密度的技术。作为磁盘等磁记录介质用的基板，过去广泛采用铝系合金基板，但是，最近，作为适合于高记录密度化的磁盘用基板，玻璃基板引起人们的关注。玻璃基板由于比铝系合金基板刚性高，所以适合于磁盘装置的高速旋转，另外，由于得到平滑的表面，所以容易使磁头的上浮量降低，能够提高记录信号的S/N比，所以，玻璃基板是合适的。另外，为了使磁盘高记录密度化，对于玻璃基板的加工精度要求也很高，不仅对于玻璃基板的主表面如此，对于端面形状也具有同样的要求。作为这种玻璃基板的端面抛光方法，在下面的专利文献1中，揭示了一种抛光方法，所述抛光方法，将在中心部具有圆孔的圆盘状玻璃基板浸渍到含有游离磨料的抛光液中，利用上述抛光液，使该玻璃基板的内周端面与抛光刷或抛光垫旋转接触，进行抛光。图10是用于说明这种现有的抛光方法的抛光装置的一个例子的剖视图。在图10 中，60是作为抛光对象的磁盘用玻璃基板，61是容纳多个上述玻璃基板60并将其浸渍于抛光液中的基板盒，65是可自由转动地固定保持基板盒61的旋转保持台，62是插入到多个叠层的上述玻璃基板60的内周侧圆孔中的抛光刷，68是容纳抛光液69的抛光液容纳部。上述基板盒61在其下部的适当的部位上设置有抛光液流通孔70，以便盒内外部的抛光液能够流通。上述旋转保持台65结合到旋转轴66上，可以借助向正反两个方向旋转驱动该旋转轴66的旋转驱动装置67进行旋转。另外，上述抛光刷62连接到旋转驱动装置64的旋转轴上，能够进行正反两个方向的旋转。进而，该抛光刷62借助凸轮机构(图中未示出) 将刷毛63压到上述玻璃基板60的内周侧端面上，同时可以沿着刷的旋转轴方向往复摆动。 过去，利用这种抛光装置，例如，在使上述旋转保持台65和抛光刷62在彼此相反的方向上旋转的状态下进行抛光。专利文献1 特开平11-221742号公报

发明内容
随着信息化社会的进展，对于磁盘的高记录密度化和低价格化的要求日益增高。对于磁盘的端面形状，也要求更加平滑化、提高加工精度以及缩短加工时间，提高辅助材料的寿命。另外，上述硬盘驱动器不仅装载在现有的个人计算机等上，近年来，用于便携式电话、便携式信息终端(PDA等)、汽车导航系统等中的所谓的移动式的用途也快速扩展。在考虑到这种移动式的用途的情况下，不仅要求磁盘的耐冲击性，而且，由于能够装载硬盘驱动器的空间极为有限，所以要求硬盘驱动器本身的小型化，因此，也要求装载在硬盘驱动器上的磁盘小型化。因此，作为这些适合于移动式用途的磁盘，作为现有技术的磁盘，提出了与比较小型的与所谓2. 5英寸磁盘直径相比更小的磁盘，例如，外径为48mm、内径为12mm的 1. 8英寸磁盘，外径为27. 4mm、内径为7mm的1英寸磁盘，外径为22mm、内径为6mm的0. 85 英寸的磁盘等方案。另外，伴随着这种磁盘的小直径化，磁盘基板的厚度也薄型化。例如，过去，磁盘基板的厚度为0. 635mm，在谋求磁盘的小直径化的情况下，要求磁盘基板的厚度为0. 581mm、 0. 381mm，或者更小。对于这种小直径化、薄膜化的磁盘用玻璃基板，有必要以良好的尺寸精度将内周侧端面精加工成规定的端面形状，同时将其表面精加工成平滑的镜面状态。而且，要求以低成本稳定地大量提供基板之间没有偏差、高品质精加工的磁盘用玻璃基板。但是，在利用上述专利文献1揭示的现有技术的抛光方法制造多个磁盘用玻璃基板的情况下，存在着玻璃基板之间的内周侧端面形状、尺寸精度的偏差，不能高度平滑地精加工内周侧端面的表面等问题，并且存在着尽管对可再加工的基板进行再加工，但是，不得不将其它次品进行废弃处理，不管那种情况都会提高成本的问题。因此，从满足小直径化成为当务之急的磁盘的高记录密度化和降低价格的要求的观点出发，本发明的第一个目的是，提供一种以低的成本高效率地对磁盘用玻璃基板的内周侧端面的表面状态进行高品质的精加工的抛光刷、抛光构件、抛光方法及抛光装置。另外，本发明的第二个目的是，提供一种磁盘用玻璃基板及磁盘的制造方法，通过具有应用该抛光方法的抛光工序，可以防止发生由于基板的内周侧端面的表面状态引起的障碍，实现高记录密度化。通过本发明人的研究发现在利用现有技术的抛光方法进行玻璃基板的内周侧端面的加工的情况下，在玻璃基板的内周侧端面中，与其主表面正交的侧壁面以及分别形成在该侧壁面与正面和背面的主表面之间的两个倒角面(中间面)中的每一个，或者其中的一个，不能被精加工成良好的形状，而且很难将其端面进行高度平滑地精加工。特别是，当将玻璃基板的内径制成小直径时，这种不恰当的情况变得显著。另外，当在将多个玻璃基板重叠的状态下同时进行抛光加工时，基板之间的内周侧端面的表面状态的偏差较大。另外，用于前述图10所示的现有技术的抛光方法的抛光刷的结构为，在将多个毛状材料并列的状态下，将中央部分折叠，把将该折叠部分夹持在长条状的金属构件上的称为槽状刷的刷毛卷绕熔接到圆棒(细圆柱)状的轴心上，因为对于上述轴心，需要使槽状刷能够卷绕的程度的刚性，所以，不能使轴心过细。因此，当玻璃基板的内径成为小直径时，不得不缩短刷毛的长度，刷毛的弹性力变得不足，高度平滑地对端面进行精加工变得很困难。 特别是，当玻璃基板的内径为6 7mm左右时，不能应用这种抛光刷。另外，现有的抛光刷， 由于轴向方向的外径是一样的，所以，当使抛光刷的外径尺寸比玻璃基板的内径大时，相对于内径而言，抛光刷所占据的体积变大，即使一面使抛光刷相对于玻璃基板摆动一面进行抛光加工，也很难稳定地向端面部分供应抛光剂，容易发生加工品质的波动。因此，本发明人基于上述一系列的认识，锐意研究，从而完成肋本发明。S卩，本发明为了解决前述课题，采用以下的结构。(结构1)一种抛光刷，所述抛光刷用于一面向中心部具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的内周侧端面部分供应抛光液，一面使抛光刷与前述玻璃基板的内周侧端面接触并旋转以进行抛光的抛光方法，其特征在于，前述抛光刷，相对于其轴心在大致垂直的方向上突出地设置毛状材料，排列配置两个外径不同的部分，同时，其直径小的部分与直径大的部分相比，毛状材料的硬度大。(结构2)如结构1中所述的抛光刷，其特征在于，利用树脂将前述抛光刷中的直径小的部分的毛状材料加固。(结构幻一种抛光方法，所述抛光方法对中心部具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的内周侧端面进行抛光，其特征在于，准备抛光刷，所述抛光刷配备有在轴心方向上突出设置有相互不同的外形部分的毛状材料，且外形部分的小直径部分比大直径部分的毛状材料的硬度大，一面向前述玻璃基板的内周侧端面部分供应抛光液，一面利用前述抛光刷，将该抛光刷大致垂直地插入到前述圆孔内，使前述抛光刷相对于该圆孔的端面相对移动并且进行接触旋转，借此，抛光前述玻璃基板的内周侧端面。(结构4)如结构3所述的抛光方法，其特征在于，使多个玻璃基板重叠进行抛光， 以便能够同时抛光多个玻璃基板的内周侧端面。(结构5)如结构3或4所述的抛光方法，其特征在于，前述玻璃基板是中心部的圆孔的内径在12mm以下的玻璃基板。(结构6)—种抛光装置，其特征在于，所述抛光装置包括保持基板盒的基板盒保持机构，所述基板盒以重叠的方式容纳多个中心部具有圆孔的圆盘状的玻璃基板；抛光液供应机构，所述抛光液供应机构向多个重叠在前述基板盒内的玻璃基板的内周侧端面部分供应抛光液；抛光刷，所述抛光刷以可与多个重叠在前述基板盒内的玻璃基板的内周侧端面接触旋转的方式被保持；第一驱动机构，所述第一驱动机构旋转驱动该抛光刷；第二驱动机构，所述第二驱动机构使前述抛光刷相对于多个重叠在前述基板盒内的玻璃基板的内周侧端面相对移动；并且，前述抛光刷配备有沿着轴心方向突出设置有相互不同的外形部分的毛状材料，与外形部分的大直径部分相比，外形部分的小直径部分的毛状材料的硬度更大。(结构7)—种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法具有利用结构3至5中任何一项所述的抛光方法抛光中心部具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的内周侧端面的工序。(结构8)—种磁盘的制造方法，其特征在于，在利用结构7所述的磁盘用玻璃基板的制造方法制造的磁盘用玻璃基板的主表面上，至少形成磁性层。(结构9)一种磁盘用玻璃基板的制造方法，所述方法包含有对玻璃基板的侧壁面和存在于该玻璃基板的主表面与侧壁面之间的中间面这两方的面进行抛光的端面抛光工序，其特征在于，所述制造方法利用具有以前述侧壁面为主进行抛光的侧壁面用抛光部和以前述中间面为主进行抛光的中间面用抛光部的抛光构件，向前述侧壁面及前述中间面供应含有抛光磨料的抛光液，进行前述端面的抛光工序。(结构10)如结构9所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述抛光构件具有旋转轴，同时，一面使前述侧壁面用抛光部与前述玻璃基板的侧壁面接触，以及/或者一面使前述中间面用抛光部与前述玻璃基板的中间面接触，一面通过旋转进行抛光。(结构11)如结构10所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述抛光构件从前述旋转轴到前述侧壁面用抛光部的相对于前述旋转轴正交的方向上的长度，比从前述旋转轴到前述中间面用抛光部的相对于前述旋转轴正交的方向上的长度短。(结构12)如结构9至11中任何一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述抛光构件具有旋转轴，同时，在通过该旋转轴的平面上的前述抛光构件的截面形状，与叠层的玻璃基板的端部形状相一致。(结构13)如结构9至12中任何一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，为了同时抛光多个玻璃基板的内周侧端面，将多个玻璃基板重叠，进行端面抛光。(结构14)如结构9至13中任何一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述抛光构件的前述侧壁面用抛光部与前述中间面用抛光部向着轴向方向交替地配置。(结构15)如结构9至14中任何一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述中间面用抛光部是抛光刷。(结构16)如结构15所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述侧壁面用抛光部是抛光垫。(结构17)如结构9至16中任何一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述侧壁面用抛光部是用树脂对抛光刷的毛进行了加固的抛光部。(结构18)如结构9至17中任何一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述抛光构件具有旋转轴，通过使该抛光构件旋转、以及/或者使之沿着前述旋转轴方向移动，进行抛光。(结构19)一种抛光构件，所述抛光构件用在磁盘用玻璃基板的制造方法中，而所述磁盘用玻璃基板的制造方法包含有对玻璃基板的侧壁面和存在于该玻璃基板的主表面和侧壁面之间的中间面这两方的面进行抛光的端面抛光工序，其特征在于，所述抛光构件具有以前述侧壁面为主进行抛光的侧壁面用抛光部，以及以前述中间面为主进行抛光的中间面用抛光部。(结构20)—种抛光装置，其特征在于，所述抛光装置包括基板保持机构，所述基板保持机构保持玻璃基板；抛光液供应机构，所述抛光液供应机构向玻璃基板的内周侧端面部分供应抛光液；抛光构件，所述抛光构件具有带旋转轴且以玻璃基板的侧壁面为主进行抛光的侧壁面用抛光部、以及以存在于该玻璃基板的主表面与侧壁面之间的中间面为主进行抛光的中间面用抛光部；驱动机构，所述驱动机构一面使该抛光构件与玻璃基板的内周侧端面接触，一面使之旋转、以及/或者使之沿着前述旋转轴方向移动。(结构21)如结构20所述的抛光装置，其特征在于，前述抛光构件一面使前述侧壁面用抛光部与前述玻璃基板的侧壁面接触，以及/或者一面使前述中间面用抛光部与前述玻璃基板的中间面接触，一面进行旋转。
根据本发明的抛光刷(抛光构件)、采用该抛光刷(抛光构件)的抛光方法及抛光装置，即使对于例如内径在12mm以下的小直径基板，也能够以良好的尺寸精度将内周侧端面精加工成规定的端面形状，同时，可以将该端面精加工成超平滑的镜面状态。并且，在将多个玻璃基板重叠、同时进行内周侧端面的抛光加工的情况下，可以消除基板之间的加工偏差，可以低成本稳定地大量提供以高品质精加工而成的磁盘用玻璃基板。另外，根据具有应用这种抛光方法的抛光工序的磁盘用玻璃基板及磁盘的制造方法，即使对于例如内径在12mm以下的小直径基板，也可以高品质地对基板的内周侧端面进行精加工，防止发生由内周侧端面的表面状态引起的障碍，可以提供能够实现高记录密度化的磁盘用玻璃基板及磁盘。


图1是中心部具有圆孔的磁盘用玻璃基板的整体透视图。图2是表示上述磁盘用玻璃基板的内周侧端面的形状的剖视图。图3是表示根据本发明的抛光刷的一种实施形式的结构的剖视图。图4是使玻璃基板的内径中心相一致、沿轴向方向将多个基板重叠并容纳到基板盒内用的夹具的剖视图。图5是表示使玻璃基板的内径中心相一致、沿轴向方向将多个基板重叠并容纳到基板盒内的状态的剖视图。图6是表示将重叠地容纳有多个玻璃基板的基板盒安装到抛光装置上的状态的剖视图。图7是表示根据本发明的抛光装置的一种实施形式的结构的侧面剖视图。图8是示意地表示根据本发明的磁盘的结构的剖视图。图9是表示根据本发明的抛光刷的另外的实施形式的剖视图。图10是用于说明现有的抛光方法的抛光装置的一个例子的剖视图。符号说明1玻璃基板10 磁盘11玻璃基板的主表面12玻璃基板的内周侧端面20、25 抛光刷22毛状材料；34基板盒40抛光装置
具体实施例方式下面，对于实施本发明的最佳形式进行详细描述。图1是应用本发明的磁盘用玻璃基板1的整体透视图。该玻璃基板1，在中心部具有圆孔，整体形成盘(圆盘)状，具有其正面和背面的主表面11、11、形成在这些主表面 11、11之间的内周侧的端面12、和外周侧的端面13。
图2是表示上述磁盘用玻璃基板1的内周侧端面12的形状的剖视图。如图2所示，玻璃基板1的内周侧的端面12形成由与其主表面11正交的侧壁面12a、分别形成在该侧壁面12a与正面和背面的主表面11、11之间的两个倒角面(倒过角的面)12b、12b构成的形状。另外，也存在不对存在于上述侧壁面12a与正面和背面的主表面11、11之间的面进行倒角的情况。在本发明中，将存在于上述侧壁面1 与正面和背面的主表面11、11之间的面称为“中间面”，也包括如图2所示的形成了倒角面的情况。另外，在小直径磁盘，例如，1. 8英寸磁盘的情况下，将玻璃基板1精加工成外径 48mm、内径12mm，在1英寸磁盘的情况下，精加工成外径27. 4mm、内径7mm，在0. 85英寸磁盘的情况下，精加工成外径22mm、内径6mm。这里，所谓内径是玻璃基板1的中心部的圆孔的内径。另外，伴随着这种磁盘的小直径化，磁盘基板的板厚也被薄型化，例如，在现有技术的2. 5英寸磁盘的情况下，磁盘基板的板厚为0. 635mm，在谋求磁盘的小直径化的情况下，板厚为0. 581mm、0. 381mm或者以下。另外，将磁盘用玻璃基板1的主表面11、内周侧端面12、外周侧端面13分别进行抛光(镜面抛光)精加工，达到规定的表面粗糙度。其中，要求将内周侧端面12精加工成上述那样的端面形状，并且将表面粗糙度例如精加工成Ra在0. IOnm以下的超平滑的镜面状态。图3是表示根据本发明的抛光刷的一种实施形式的结构的剖视图。根据本发明的抛光刷，用在一面向中心部具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的内周侧端面部分供应抛光液、一面使抛光刷与前述玻璃基板的内周侧端面接触旋转以进行抛光的抛光方法中，用于对磁盘用玻璃基板进行抛光。并且，根据本发明的一种实施形式的抛光刷 20，其特征在于，如图3所示，相对于其轴心21沿着大致正交的方向突出设置毛状材料22， 在轴向方向上交替地排列配置两个外径不同的部分(D1、D2)，同时，其中制成小直径(D2) 的部分与制成大直径(Dl)的部分相比，其毛状材料的硬度大。通过利用这种抛光刷进行玻璃基板的内周侧端面的抛光，即使对于例如直径在12mm以下的小直径基板，也能够将内周侧端面以良好的尺寸精度精加工成规定的端面形状，同时，能够精加工成表面粗糙度Ra例如在0. IOnm以下的超平滑的镜面状态。上述抛光刷20的轴心21，例如，优选采用将由线径为几个毫米左右的不锈钢丝等线材构成的多个芯线捻合并相互缠绕的结构。采用这种轴心的结构，可以使轴心尽可能的细，即使对于内径6 7mm的磁盘基板，也能够适用，而且可以确保抛光刷的最低限度的刚性。根据本发明的抛光刷，可以通过在将毛状材料夹在多个芯线之间的状态下将这些芯线捻起来进行制造。在这种情况下，为了制作外径不同的部分，可以使用毛的长度不同的毛状材料，也可以使用相同长度的毛状材料，在制作成刷的状态之后，适当地切断毛状材料，对外径进行调整。毛状材料22的材质，通常优选使用尼龙纤维，但是，代替尼龙纤维，也可以使用聚酯纤维、聚丙烯纤维、聚氯乙稀纤维、猪毛、钢琴线、不锈钢制纤维等。从防止弹性、潮湿状态下的机械强度的降低、以及耐久性的角度出发，上述尼龙纤维是令人满意的。在这种尼龙纤维中，耐水性优异的例如66尼龙、610尼龙等是适宜的。另外，毛状材料的线径优选在 0. 05 0. 15mm左右的范围内。进而，也可以使用在尼龙纤维中混入抛光剂的加抛光剂尼龙纤维。在这样将两个外径不同的部分交替配列的抛光刷的情况下，可以在玻璃基板1的内周侧端面12上，对于其侧壁面1 和倒角面12b、12b中的任何一个都进行良好的抛光。 即，制成大直径的第一外径Dl的部分，主要发挥着对上述倒角面12b、12b以良好的形状且以超平滑的镜面进行精加工成的抛光作用，制成小直径的第二外径D2的部分，主要发挥着对侧壁面12a以良好的形状且以超平滑的镜面进行精加工的抛光作用(起着抛光垫的作用)。这里，由于第一外径和第二外径的大小因盘基板的尺寸而异，所以不能一概而论，但是，优选地，第一外径Dl比玻璃基板1的内径(精加工尺寸)、即比玻璃基板1的中心部的圆孔的内径大1 5mm左右，第二外径D2与玻璃基板1的内径大致相同(外径D2比玻璃基板的内径大(一些))。换句话说，上述抛光刷的倒角面(中间面)抛光用的部分的外径D1，具有达到靠近玻璃基板的主表面的内周侧的倒角面的长度，侧壁面抛光用的部分的外径D2比玻璃基板的内径大，并且比外径Dl小，以便能够可靠地对玻璃基板中的侧壁面进行抛光。在本实施形式中，两个外径不同的部分(Dl、D2)在遍布轴向方向交替配列，但是， 构成第一外径Dl的部分的长度Ll和构成第二外径的部分的长度L2，因盘基板的尺寸而异， 所以不能一概而论，但是优选地，例如在玻璃基板1的内径为7mm的情况下，Li、L2分别为 3mm左右。如上所述，本实施形式的抛光刷是一种抛光构件，所述抛光构件包括在玻璃基板 1的内周侧端面中主要抛光其侧壁面的侧壁面用抛光部(在本实施形式中，制成小直径的第二外径D2部分)，以及主要抛光存在于玻璃基板1的主表面与侧壁面之间的中间面的中间面用抛光部(在本实施形式中，制成大直径的第一外径Dl部分)两个部分。另外，上述侧壁面用抛光部用于抛光侧壁面，主要对侧壁面进行抛光，但是，除侧壁面之外，也可以抛光中间面。另外，上述中间面用抛光部，用于抛光中间面，主要对中间面进行抛光，但是，除中间面之外，也可以对侧壁面进行抛光。通过使用这种抛光刷(抛光构件)，对玻璃基板的端面中的侧壁面和中间面的抛光可以一起进行，同时，可以精度良好地对这两个面进行抛光。另外，通过利用这种抛光刷， 可以对在现有结构中存在困难的小直径磁盘用的玻璃基板的端面进行良好的抛光。如前面所述，硬盘驱动器(HDD)的移动式用途(便携式用途)迅速扩展，要求HDD的小型化。因此， 对于装载在HDD上的磁盘，也要求其小型化，作为适合于移动式用途的磁盘，磁盘的小型化成为当务之急。可是，一般地，由于和HDD的主轴马达的金属加工精度相比，玻璃基板的内径加工精度差，所以，特别是在移动式用途中使用HDD的情况下，由于在动作当中的冲击， 会引起“芯部偏移”，在对写入的数据进行读出时，磁头有可能偏离到其它磁道，存在发生错误的可能性。从而，特别是对于移动式用途的HDD中使用的小直径磁盘来说，伴随着磁盘的小直径化，其内径变成小直径，提高内径加工精度是极为重要的课题。通过使用采用本发明的抛光刷(抛光构件)的抛光方法，可以高精度地抛光小直径磁盘用的玻璃基板的内周端面，可以缩小ID公差，所以，能够高精度地将玻璃基板夹持在主轴马达上，可以减少上述错误的发生。另外，在本实施形式的抛光刷中，制成小直径(拟)的部分与制成大直径(Dl)的部分相比，毛状材料的硬度更大。当制成小直径(拟)的部分的硬度不足时，主要不能良好地发挥对侧壁面12a的抛光作用(作为抛光垫的功能)，存在端面形状恶化的情况。这样，为了使抛光刷的制成小直径(拟)的部分的硬度比制成大直径(Dl)的部分的硬度大，优选地，例如，可以列举出渗入适当的树脂对抛光刷中的制成小直径的部分的毛状材料加固的方法。作为这种情况下的树脂，优选地，可以列举出具有耐水性和适当硬度的橡胶类粘结剂，具体地说，可以列举出环氧树脂，丙烯酸树脂等。可以适当地调整制成小直径(Dl)的部分的硬度，使之具有适当的大小。另外，在本实施形式的抛光刷中，其制成小直径(D2)的部分与制成大直径(Dl)的部分相比，毛状材料的硬度大，但是，由于硬度大，刚性也大，或者弹性模量也大，所以，在本发明中，所谓“加大硬度”，也意味着加大刚性，或者加大弹性模量。另外，为了使抛光刷的制成小直径的部分与制成大直径的部分的硬度(弹性模量)不同，也可以利用毛状材料的硬度不同的材料构成抛光刷。另外，在图3所示的抛光刷的一种实施形式中，两个外径不同的部分(Dl、D2)遍及轴向方向交替地配列，但是，本发明并不局限于这样的实施形式。总之，只要是配列两个外径不同的部分即可，例如，也可以采用将制成大直径Oi)的部分配列在轴向方向的左半部、将制成小直径(D2)的部分配列在右半部的分成各个区域配列的结构。另外，也可以采用沿着抛光刷的圆周方向交替地或者分开区域配列外径不同的部分的机构(即，当从相对于轴向方向的截面上观察时，在半径方向上具有直径不同的部分的结构)。另外，图9是表示本发明的抛光刷的另外的实施形式的剖视图。图9所示的抛光刷25是一种具有侧壁面用抛光部24 (在本实施形式中，是制成小直径的外径D2的部分) 和中间面用抛光部23(在本实施形式中，是制成大直径Dl的部分)两者的抛光构件，这一点与前述图3所示的情况相同，然而，图9所示的抛光刷25的特征在于，在通过该抛光刷的旋转轴的平面上的上述中间面用抛光部23的截面形状为“人字形”。这样的抛光刷25，在通过该抛光刷的旋转轴的平面上的该抛光刷的总体截面形状(图9)，是与叠层状态的玻璃基板的端面形状相一致的形状，所以，抛光刷沿着叠层的玻璃基板的端面良好地接触(或者推压到该端面上)，能够进行良好的端面抛光。另外，本发明的抛光刷，具有侧壁面用抛光部和中间面用抛光部两者，但是，也可以是上述侧壁面用抛光部为抛光垫、上述中间面用抛光部为抛光刷的将毛状材料部分和垫的部分组合起来的结构。在这种情况下，垫的部分，例如可以使用和玻璃基板的主表面的镜面抛光中所使用的抛光垫同样的材质(例如，仿麂皮垫等软质垫，发泡氨基甲酸乙酯树脂等的硬质垫等)。如上所述，根据本发明的抛光方法，是一种对中心部具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的内周侧端面进行抛光的抛光方法，所述方法一面向前述玻璃基板1的内周侧端面12的部分供应抛光液，一面利用根据上述本发明的抛光刷，将该抛光刷基本上垂直地插入到前述圆孔内，通过相对于该圆孔的端面使前述抛光刷沿着旋转轴方向相对移动并且使之接触旋转，对前述玻璃基板的内周侧端面进行抛光的抛光方法。根据本发明的抛光方法，特别适合于将多个玻璃基板重叠进行抛光、以便同时抛光多个玻璃基板的内周侧端面的情况。即，即使对于例如内径在12mm以下的小直径基板， 也能够以良好的尺寸精度将内周侧端面精加工成规定的端面形状，同时，可以精加工成表面粗糙度例如为RaO. IOnm以下的超平滑镜面状态，而且可以消除基板之间的偏差，能够低成本稳定地大量提供精加工成高品质的磁盘用玻璃基板。另外，根据本发明的抛光方法，对于中心部的圆孔的内径在12mm以下的小直径的玻璃基板是适用的。即，即使伴随着磁盘的小直径化使玻璃基板的内径小直径化，也能够以良好的尺寸精度将其内周侧端面精加工成规定的端面形状，而且可以精加工成表面粗糙度例如Ra在0. IOnm以下的超平滑的镜面状态。另外，也可以采用这样的抛光方法，在所述抛光方法中，代替使用前述实施形式所述的抛光刷，将外径不同的两种抛光刷(在各个抛光刷中，其外径一样)插入到基板内径中一起使用，适当地调整各个抛光刷的转速、对于基板内径的推压力等以进行抛光。在这种抛光方法中，通过制成大直径的抛光刷，主要发挥以良好的形状并且以超平滑的镜面对内径的倒角面进行精加工的抛光作用，制成小直径的抛光刷主要发挥对内径的侧壁面以良好的形状并且以超平滑镜面进行精加工的抛光作用(作为抛光垫的功能)，借此，在玻璃基板的内周侧端面中，可以对其侧壁面和倒角面任何面都进行良好的抛光。下面说明根据本发明的抛光装置。图4是用于使玻璃基板的内径中心相一致、沿轴向方向将多个玻璃基板重叠容纳到基板盒内的夹具的剖视图，图5是表示使玻璃基板的内径中心相一致、沿轴向方向将多个基板重叠容纳到基板盒内的状态的剖视图，图6是表示将多个玻璃基板重叠地容纳起来的基板盒安装到抛光装置中的状态的剖视图，图7是表示根据本发明的抛光装置的一种实施形式的结构的侧面剖视图。在图4中，盖31用于将多个重叠地容纳在基板盒34内的玻璃基板固定。在盖31 的中心部开设圆孔31a，在安装到抛光装置上时，将抛光刷插入到该圆孔31a内。间隔件32 和33用于保护多个重叠地容纳在基板盒34内的玻璃基板，其整体形成圆盘状。在这些间隔件32和33的中心部也分别开设圆孔32a、33a，在安装到抛光装置上时，将抛光刷插入这些圆孔32a、33a内。另外，基板盒34整体形成圆筒状，其上部开设有开口部34a，用于装填盘状的玻璃基板，下部开设有圆孔Mb，在容纳基板时，基板安装夹具36的芯棒35插入该圆孔34b内，在安装到抛光装置上时，抛光刷插入到该圆孔34b内。进而，基板安装夹具36，在其中央竖立设置插入到玻璃基板中心部的圆孔内的芯棒35。在这种结构中，与基板安装夹具36的芯棒35相一致，从上方安装基板盒34，首先将间隔件33放入基板盒34内。然后，例如，以将100个玻璃基板重叠的状态的重叠的基板30装填到基板盒34内。当然，也可以每次装填一个或者多个玻璃基板。从装填到基板盒34内的玻璃基板之上安装间隔件32，进而，将盖31安装到其上。这样，完成玻璃基板向基板盒内的容纳作业(参照图5)。通过利用这种基板盒34及基板安装夹具36，谁都能够简单地在短时间内与玻璃基板的内径中心相一致地沿着轴向方向将多个玻璃基板重叠容纳到基板盒内。进而，利用抛光装置的推杆47、48将容纳有玻璃基板的基板盒的两端固定 (参照图6)，可以将基板盒照样安装到抛光装置上。即，不会打乱处于内径中心相一致地将多个基板沿轴向方向重叠容纳在基板盒内的状态下的玻璃基板，可以保持原样地对其进行抛光加工，所以，可以缩小圆度及圆筒度在每一批之内或者每一批之间的偏差。下面，说明图7所示的抛光装置。这种抛光装置，可以原封不动地安装容纳有作为抛光对象的多个磁盘用玻璃基板 1的基板盒34。如上所述，基板盒34，例如，可以一次容纳50个左右、100个左右或者200个左右的玻璃基板。通过从轴向方向将推杆(推压栓)47、48锁定，将该基板盒34固定到抛光装置上。该基板盒34经由壳体44、45可绕轴自由旋转地保持在抛光装置40的旋转保持台 41上。并且，借助图中未示出的驱动用马达，以规定的旋转速度绕轴旋转操作该基板盒34。 另外，壳体44、45被直线运动导向件支承，如图7中的箭头A所示，可以沿着基板盒34的轴向方向往复移动。图中，标号46表示轴承。并且，借助驱动用马达42及凸轮机构43，沿着基板盒34的轴向方向以一定的周期往复移动操作该基板盒34。并且，在被基板盒34保持的多个玻璃基板30的中心部的各个圆孔内，在将根据本发明的抛光刷20插入的状态下，保持该抛光刷20，可以借助图中未示出的驱动用马达，经由刷轴旋转驱动用马达轴49旋转操作。在该抛光装置40中，抛光刷20的旋转方向可以是任意方向，另外，该抛光刷20的旋转速度可以从低速GOOOrpm左右)到高速(7000rpm以上)变化。由于伴随着玻璃基板的内径的小直径化，有必要使用抛光刷20的外径小的抛光刷，所以，在两端设置刷把持部，以便保持刷的两端，缩小刷的刚性降低造成的影响。另外， 除由两端保持抛光刷20之外，进而还设置利用气缸50将刷把持部推压到与刷轴平行的外侧、防止在加工过程中刷轴的振摆用的机构。另外，该抛光装置40可以分别独立地改变抛光刷的转速、基板盒的转速、基板盒的摆动速度及距离，将抛光刷向基板内周侧端面推压的抛光刷推压力等。优选地，在抛光加工过程中，向多个重叠的玻璃基板1的内周侧端面部分供应抛光液。作为抛光液供应机构，在图7中，表示出了从抛光液供应部(图中未示出)通过浆液管51或53供应抛光液的形式。对于抛光液的供应，利用切换螺线管52或M，进行使流动方向为来自于刷的上方还是来自于刷的下方的切换。为了防止抛光剂的流动随着使用时间而变化，可以使之具有在抛光液流路中流过自来水、利用水清洗抛光加工后的抛光液流路的功能。作为抛光剂，可以使用氧化铈、氧化铁、氧化镁、氧化锆、氧化锰等抛光剂，特别优选地是，使用与玻璃基板1硬度接近的氧化铈。当抛光剂过分硬时，会伤害玻璃基板端面， 当抛光剂过分软时，不能将基板端面加工成镜面。抛光液的温度优选为25°C 40°C左右。根据使用上面说明的本发明的抛光刷的抛光装置，即使对于例如内径12mm以下的小直径基板，也能够以良好的尺寸精度将内周侧端面精加工成规定的端面形状，同时，可以精加工成表面粗糙度例如Ra为0. IOnm以下的超平滑镜面状态，而且消除基板之间的偏差，能够以低成本稳定地大量提供精加工成高品质的磁盘用玻璃基板。另外，根据本发明的抛光刷，由于具有外径不同的部分，所以，即使长的外径比基板的内径大，也能够充分向基板的内周侧端面部分供应抛光液。另外，根据本发明的抛光装置，由于可以原封不动地将基板盒安装到抛光装置上， 所以，不会打乱处于内径中心相一致地将多个基板沿轴向方向重叠容纳在基板盒内的状态下的玻璃基板，可以保持原样地对其进行抛光加工，所以，可以缩小圆度及圆柱度在每一批之内或者每一批之间的偏差。另外，根据本发明的抛光装置，与现有技术中的一面将玻璃基板浸渍在抛光液中一面进行抛光加工的情况相比，使用的抛光液少，因此，可以缩小贮存抛光液的容器，所以， 可以缩小了抛光装置的设置空间。另外，当抛光液的使用量少时，可以减少环境方面的负担，所以是优选的。根据本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法，包括利用上述本发明的抛光方法对玻璃基板的内周侧端面进行抛光的工序。磁盘用玻璃基板，通常，对于形成盘状的玻璃基板，依次施行磨削、抛光、化学强化等工序，根据情况，进而，施行用于对磁性层赋予磁各向异性的结构加工。抛光工序，包括上述玻璃基板端面的抛光工序和玻璃基板的主表面的抛光工序。作为用于磁盘用玻璃基板的玻璃的种类，没有特定的限制，但是，作为玻璃基板的材质，例如，可以列举出硅酸铝玻璃，钠钙玻璃，硅酸铝钠(V -夕‘7 >彡7 * U * -卜) 玻璃，硼硅酸铝玻璃，硼硅酸盐玻璃，石英玻璃，链状硅酸盐玻璃，或者结晶化玻璃等玻璃陶瓷等。另外，由于其耐冲击性和耐振性能优异，所以，硅酸铝玻璃是特别优选的。作为硅酸铝玻璃，优选为含有以下的主成分62 75wt%，Al2O3 5 15wt%，Li20 4 10wt%， Na2O 4 12wt%, ZrO2 :5. 5 15wt%，同时，Na20/Zr02 的重量比为 0. 5 2. 0，Al203/Zr02 的重量比为0. 4 2. 5的化学强化用玻璃等。另外，为了消除由于&02的未溶解物产生的玻璃基板表面的突起，优选地，使用以摩尔％表示，含有57 74%的SiO2,0 2. 8%的SiO2, 3 15%的Al2O3, 7 16%的LiO2,4 14%的Nei2O的玻璃等。这种硅酸铝玻璃，通过化学强化，可以在玻璃基板表面上设置压缩应力层，抗弯强度、刚性、耐冲击性、耐振动性、耐热性优异，即使在高温环境下，Na也不会析出，同时，保持其平坦性，努氏(Knoop)硬度优异。作为化学强化方法，只要是过去公知的化学强化法即可，没有特定的限制。玻璃基板的化学强化，将玻璃基板浸渍到加热的化学强化熔融盐中， 用化学强化熔融盐中的离子对玻璃基板表层的离子进行离子交换。另外，在作为玻璃基板使用上述化学强化基板的情况下，优选地，结构加工在化学强化之后进行。在化学强化中，在离子交换过程中，有时玻璃基板主表面形状会发生紊乱。对于玻璃基板的直径尺寸，没有特定的限制，但是，本发明在实际应用当中，对于作为移动式用途的HDD使用的大多数的1. 8英寸以下的小型磁盘，能够提供耐冲击性高、可以高信息记录密度化的磁盘用玻璃基板，可用性很高，是适宜的。另外，玻璃基板的厚度优选为0. Imm 1.0mm左右。特别是，在利用0. 6mm以下
程度的薄型基板构成的磁盘的情况下，特别是，当内周侧端面的表面粗糙度大时，在安装到磁盘装置上使用的情况下，由于与主轴的接触，在内径上容易发生裂纹，成为产生灰尘的原因，所以，为了提高薄型基板的耐冲击性，有必要将内周侧端面精加工成镜面，可以提供将内周侧端面精加工成超平滑的镜面、耐冲击性高的磁盘用玻璃基板的本发明，具有很高的可用性。通过在利用本发明获得的磁盘用玻璃基板上至少形成磁性层，获得磁盘。通常，优选地，制成在玻璃基板上设置有籽晶(〉-κ, seed)层、基底层、磁性层、保护层、润滑层的磁盘。作为籽晶层，例如，通过使用Al系合金、Cr系合金、NiAl系合金、NiAlB系合金、 AlRu系合金、AlRuB系合金、AlCo系合金、FeAl系合金等的bcc或者B2结晶结构型的合金等，可以谋求磁性粒子的微细化。作为基底层，可以设置Cr系合金、CrMo系合金、CrV系合金、CrW系合金、CrTi系合金、Ti系合金等调整磁性层的取向性的层。
作为磁性层，例如，可以列举出C0系的具有hep结晶结构的合金等。作为保护层，例如，可以列举出碳系保护层等。另外，作为形成在保护层上的润滑层的润滑剂，可以列举出PFPE(全氟聚醚)化合物。关于在玻璃基板上成膜上述各个层的方法，可以采用公知的溅射法等。实施例下面列举实施例，更具体的说明本发明的实施形式。另外，本发明并不局限于下面所述的实施例。(实施例1)下面是经过(1)粗研磨工序(粗磨削工序)，(2)形状加工工序，(3)精研磨工序 (精磨削工序)，(4)端面抛光工序，( 主表面第一抛光工序，(6)主表面第二抛光工序， (7)化学强化工序，制造本实施例的磁力用玻璃基板。(1)粗研磨工序首先，通过上模、下模、圆筒模直接加压，由熔融玻璃获得直径50πιπιΦ、厚度1. Omm 的圆盘状的由硅酸铝玻璃构成的玻璃基板。另外，在这种情况下，除直接加压之外，也可以由利用下拉法或浮法形成的片状玻璃利用砂轮切割，获得圆盘状的玻璃基板。作为这种硅酸铝玻璃，使用含有SiO2 :58 75重量％，A1203 :5 23重量％，Li20 :3 10重量％，Na2O 4 13重量％的化学强化玻璃。其次，为了提高尺寸精度及形状精度，对玻璃基板进行研磨工序。这种研磨工序，利用双面研磨装置，用粒度#400的磨料进行。具体地说，开始，利用粒度#400的氧化铝磨料，将负荷设定在IOOkg左右，通过使上述研磨装置的太阳齿轮及内齿轮旋转，对容纳在托架内的玻璃基板的两面进行面精度0 Ιμπκ表面粗糙度(RmaX)6ym 左右的研磨。(2)形状加工工序其次，利用圆筒状砂轮，在玻璃基板的中央部分开设孔，同时，进行外周端面的研磨，将其直径加工成48mmΦ之后，在外周端面及内周端面施行规定的倒角加工。这时的玻璃基板端面的表面粗糙度Rmax为4 μ m左右。另外，一般地，在1. 8英寸型的HDD (硬盘驱动器)中，使用外径48mm的磁盘。(3)精研磨工序其次，将磨料的粒度变为#1000，通过研磨玻璃基板表面，将表面粗糙度加工成 Rmax为2 μ m左右，Ra为0. 2 μ m左右。将完成上述研磨工序的玻璃基板依次浸渍到中性洗涤剂、水的各个清洗槽(施加超声波)中，进行超声波清洗。(4)端面抛光工序其次，利用现有的抛光刷、抛光装置，进行玻璃基板的外周侧端面的抛光。在这种情况下的抛光刷的刷毛的材质使用6-6尼龙。该抛光刷的转速为1400rpm，另外，叠层的多个玻璃基板的转速，沿着与抛光刷相反方向，为60rpm。另外，抛光剂使用氧化铈，在抛光过程中，供应这种含有氧化铈的约30°C的抛光液。抛光时间约30分钟。其次，利用图7所示的抛光装置，进行玻璃基板的内周侧端面的抛光。这种情况下的抛光刷，使用图3所示的结构，其外径Dl为14mm，D2为12mm，Ll、L2各为3mm。毛状材料的材质为6-6尼龙。另外，构成小直径D2的部分的毛状材料使用由环氧树脂加固的材料。 这种抛光刷的转速为1800 2700rpm(优选地，2200 MOOrpm)，另外，容纳叠层的多个玻璃基板的基板盒的转速，沿着与抛光刷相反的方向，为60rpm。适当地调整基板盒的摆动速度及距离、以及向基板内周侧端面施加的抛光刷的推压力。另外，抛光剂使用氧化铈，在抛光加工过程中，供应这种含有氧化铈的约30°C的抛光液。抛光时间约8分钟 16分钟。这样，100个叠层起来的完成抛光加工的玻璃基板的外周侧端面的表面粗糙度的平均值，Ra为Ο. μπι左右。另外，上述玻璃基板的内周侧端面的表面粗糙度，其平均值Ra 为0. 05 μ m左右，内径的尺寸偏差在10 μ m以内。并且，用水清洗完成上述端面抛光加工的玻璃基板的表面。另外，利用形状测定器(二 >卜 > -寸-)测定抛光后的玻璃基板的内周侧端面形状，如图2所示，将其精加工成端面12由两个倒角面12b和其间的侧壁面1 形成的形状。 对于外周侧端面，也加工成基本上相同的形状。(5)主表面第一抛光工序其次，利用双面抛光装置进行第一抛光工序，用于除去在上述研磨工序中残留下来的瑕疵或变形。在双面抛光装置中，使利用托架保持的玻璃基板与贴上了抛光垫的上下平台之间贴紧，使该托架与太阳齿轮和内齿轮啮合，利用上下平台夹持上述玻璃基板。之后，通过向抛光垫与玻璃基板的抛光面之间供应抛光液并进行旋转，玻璃基板在平台上一面自转一面公转，同时抛光加工两面。具体地说，作为抛光机，使用硬质抛光机(硬质发泡氨基酸乙酯)，施行抛光工序。抛光条件为，作为抛光液，使用以氧化铈(平均粒径为 1.3ym)作为抛光剂分散的RO水，负荷100g/cm2，抛光时间15分钟。将完成上述第一抛光工序的玻璃基板，依次浸渍到中性洗涤剂、纯水、纯水、IPA(异丙醇)、IPA(蒸气干燥)的各个清洗槽中，进行超声波清洗，干燥。(6)主表面第二抛光工序其次，利用和在第一抛光工序中使用的相同类型的双面抛光装置，将抛光机改变成软质抛光机(仿麂皮)，实施第二抛光工序。该第二抛光工序的目的是，在保持在上述第一抛光工序中获得的平坦的表面的同时，例如，将表面粗糙度Ra降低到1. 0 0. 3 μ m程度以下。抛光条件为，作为抛光液，为分散有氧化铈(平均粒径0.8μπι)的RO水，负荷100g/ cm2，抛光时间5分钟。将完成上述第二抛光工序的玻璃基板依次浸渍到中性洗涤剂、纯水、 纯水、IPA、IPA (蒸气干燥)的各个清洗槽内，进行超声波清洗，干燥。(7)化学强化工序其次，对完成上述清洗的玻璃基板施行化学强化。化学强化，准备硝酸钾和硝酸钠的混合化学强化液，将该化学强化溶液加热到380°C，将上述清洗、干燥完毕的玻璃基板浸渍约4小时进行化学强化处理。依次将完成化学强化的玻璃基板浸渍到硫酸、中性洗涤剂、 纯水、纯水、IPA、IPA(蒸气干燥)的各个清洗槽内，进行超声波清洗、干燥。其次，对完成了上述清洗的玻璃基板表面实施目视检查及利用光的反射、散射、透射的精密检查。其结果是，未发现由玻璃基板表面上的附着物引起的突起、瑕疵等缺陷。另外，利用原子力显微镜(AFM)，测定经过上述工序获得的玻璃基板的主表面的表面粗糙度， 获得Ra = 0. 20nm的具有超平滑表面的磁盘用玻璃基板。另外，将玻璃基板的外径精加工成 48mm、内径 12mm、板厚 0. 581mm。如上所述，制造约1万个磁盘用玻璃基板，进行长期运转试验。其结果是，通过第一次端面抛光，规定的端面形状、尺寸精度、表面粗糙度合格的成品率平均在90%以上，对于成为次品的基板，通过再次抛光，几乎都可以成为正品。使用上面获得的磁盘用玻璃基板，按以下方式，在其主表面上形成由籽晶层加和基底层2b构成的非磁性金属层2、磁性层3、碳系保护层4及润滑层5，制造图8所示的磁盘 10。即，在上述玻璃基板的主表面上，利用DC磁控溅射装置依次成膜由AlRu合金构成的籽晶层2a、由CrMo合金构成的基底层2b、由CoCrPtB合金构成的磁性层3、以及碳系保护层4。进而，在碳系保护层4上，利用浸渍法成膜出酒精变性的全氟聚醚润滑层5。这样，获得磁盘10。将获得的磁盘搭载到装载-卸载(LUL)式的HDD (硬盘驱动器)上。磁头使用利用GMR元件的磁头，磁头的上浮量为lOnm。这样，反复进行装载-卸载动作，进行LUL耐久试验，本实施例的磁盘，在100万次的LUL动作中，不发生故障。(比较例)本比较例与前述实施例的不同之处在于，使用前述专利文献1揭示的现有技术的抛光方法进行玻璃基板的内周侧端面的抛光。即，对于抛光刷，使用在金属制的轴心上卷绕前述槽状刷的结构，刷的外径同样为14mm，刷毛的材质使用6-6尼龙。将100个和实施例1 相同形状、大小的玻璃基板，在叠层的状态下，浸渍到抛光液中，进行内周侧端面的抛光。抛光剂和实施例1 一样，使用氧化铈，对于其它的抛光条件，进行适当的调整。这样，100个叠层的完成抛光加工的玻璃基板的外周侧端面的表面粗糙度，其平均值Ra为0. 1 μ m左右。另外，上述玻璃基板的内周侧端面的表面粗糙度，其平均值Ra为 0. 20 μ m左右，内径的尺寸差偏差增大到20 μ m左右。利用形状测定器(二 >卜 > -寸-)测定端面抛光后的玻璃基板的内周侧端面形状，尽管大致形成端面由图2所示的两个倒角面及其间的侧壁面构成的形状，但是，特别是在侧壁面上，产生可以认为是由于抛光刷的推压力不稳定造成的凹部或凹坑。并且，在本比较例中，制造约1万个上述1.8英寸磁盘用玻璃基板，进行长期运转试验，通过第一次的端面抛光加工，规定的端面形状、尺寸精度、表面粗糙度合格的成品率平均在70%以下。对于次品的基板，能够再次抛光，但是，被过分磨削不能再次抛光不得不废弃的基板的比例高达50%左右。另外，基板之间的偏差增大。另外，在图10所示的现有技术的端面抛光装置中，也可以代替现有技术的抛光刷 62，采用本发明的抛光刷(抛光构件)。通过在现有技术的端面抛光装置中采用本发明的抛光刷(抛光构件)，可以获得能够高精度地抛光特别是小直径的磁盘用玻璃基板的端面的效果。
权利要求
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括对玻璃基板的侧壁面和存在于该玻璃基板的主表面与侧壁面之间的中间面这两方的面进行抛光的端面抛光工序，其特征在于，所述制造方法利用具有以前述侧壁面为主进行抛光的侧壁面用抛光部和以前述中间面为主进行抛光的中间面用抛光部的抛光构件，向前述侧壁面及前述中间面供应含有磨料的抛光液，进行前述端面的抛光工序。
2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述抛光构件具有旋转轴，同时，一面使前述侧壁面用抛光部与前述玻璃基板的侧壁面接触，以及/或者一面使前述中间面用抛光部与前述玻璃基板的中间面接触，一面通过旋转进行抛光。
3.如权利要求2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述抛光构件，从前述旋转轴到前述侧壁面用抛光部的相对于前述旋转轴正交的方向上的长度，比从前述旋转轴到前述中间面用抛光部的相对于前述旋转轴正交的方向上的长度短。
4.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述抛光构件具有旋转轴，同时，在通过该旋转轴的平面上的前述抛光构件的截面形状与叠层的玻璃基板的端部形状相一致。
5.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，为了同时抛光多个玻璃基板的内周侧端面，将多个玻璃基板重叠进行端面抛光。
6.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述抛光构件的前述侧壁面用抛光部与前述中间面用抛光部朝着轴向方向交替地配置。
7.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述中间面用抛光部是抛光刷。
8.如权利要求7所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述侧壁面用抛光部是抛光刷。
9.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述侧壁面用抛光部是用树脂加固了抛光刷的毛的抛光部。
10.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，前述抛光构件具有旋转轴，通过使该抛光构件旋转、以及/或者使之沿着前述旋转轴方向移动，进行抛光。
11.一种抛光构件，所述抛光构件在包含有对玻璃基板的侧壁面和存在于该玻璃基板的主表面和侧壁面之间的中间面这两方的面进行抛光的端面抛光工序的磁盘用玻璃基板的制造方法中使用，其特征在于，所述抛光构件具有以前述侧壁面为主进行抛光的侧壁面用抛光部、以及以前述中间面为主进行抛光的中间面用抛光部。
12.一种抛光装置，其特征在于，所述抛光装置包括基板保持机构，所述基板保持机构保持玻璃基板；抛光液供应机构，所述抛光液供应机构向玻璃基板的内周侧端面部分供应抛光液；抛光构件，所述抛光构件具有旋转轴，同时，具有以玻璃基板的侧壁面为主进行抛光的侧壁面用抛光部，以及以存在于该玻璃基板的主表面与侧壁面之间的中间面为主进行抛光的中间面用抛光部；以及驱动机构，所述驱动机构一面使该抛光构件与玻璃基板的内周侧端面接触，一面使之旋转、以及/或者使之沿着前述旋转轴方向移动。
13.如权利要求12所述的抛光装置，其特征在于，前述抛光构件一面使前述侧壁面用抛光部与前述玻璃基板的侧壁面接触，以及/或者一面使前述中间面用抛光部与前述玻璃基板的中间面接触，一面进行旋转。
全文摘要
本发明涉及一种抛光刷，抛光方法，抛光装置及磁盘用玻璃基板的制造方法。一种抛光刷，所述抛光刷用于一面向中心部具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的内周侧端面部分上供应抛光液，一面使抛光刷与前述玻璃基板的内周侧端面接触旋转进行抛光的抛光方法。该抛光刷(20)，相对于其轴心(21)大致正交的方向上突出设置毛状材料(22)，两个外径D1、D2不同的部分在轴向方向上交替地排列配置，同时，构成其小直径D2的部分的毛状材料的硬度比构成大直径D1的部分的毛状材料的硬度大。为此，用树脂加固构成抛光刷(20)中的小直径D2的部分的毛状材料。
文档编号B24B9/10GK102501153SQ20111034261
公开日2012年6月20日 申请日期2006年9月28日 优先权日2005年9月29日
发明者植田政明, 重田文彦, 鹿岛隆一 申请人:Hoya株式会社