专利名称：双片或双面镀膜系统的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及片材镀膜技术领域，特别涉及ー种适用于玻璃、钢板等片材的双片或双面镀膜系统。
背景技术：
目前常用的玻璃镀膜生产线中，对玻璃的表面镀膜加工一般是单片镀膜的形式，其生产效率相当低。同吋，当エ件较小时，エ件的整个镀膜加工过程一般在同一真空室内完成，这使得真空室内部结构复杂，设备维护成本也相当高；当该生产线用于较大型エ件加工吋，由于没有专用的输送设备，一般是在玻璃清洗后，先通过人工搬运送人工件架，再由エ件架通过传动辊送入真空室，使得玻璃镀膜生产线的生产效率低，工人劳动强度大，人力资源投资也高，同时，该方式的输送过程中，玻璃容易被污染，降低玻璃在前序清洗机中的清洗结果，影响产品质量。目前也有采用机械手进行输送，但其结构复杂，生产成本相当高。
实用新型内容本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种双片或双面镀膜系统，该镀膜系统可实现玻璃等片材的双面同时镀膜或双片玻璃同时镀膜，有效提高生产线的生产效率。本实用新型的技术方案为一种双片或双面镀膜系统，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室，最后ー个真空室为出片室，进片室和出片室之间设有至少ー个镀膜室；镀膜室位于エ件输送方向左右两侧的室壁上均设有室门，各室门上装有磁控溅射靶。所述进片室的进片口外侧设有进片架，出片室的出片口外侧设有出片架。为了减少エ件在输送过程被污染的现象，按照エ件的输送方向，所述进片架前方设有专用的双片エ件输入装置，双片エ件输入装置包括清洗机输送台、双片传送机构和合叶架，按照エ件的输送方向，清洗机输送台、双片传送机构和合叶架依次设置，合叶架上设有上拉铰链机构；其中，合叶架包括支撑架和2个合叶料架，2个合叶料架设于支撑架中部；上拉铰链机构包括上拉气缸和合叶铰接件，上拉气缸固定于支撑架上，上拉气缸末端与合叶铰接件相连接，2个合叶料架之间通过合叶铰接件连接；合叶架与进片架之间通过同步带连接。双片エ件输入装置使用时，其工作过程为エ件经清洗机清洗后，由清洗机输送台送至双片传送机构上，再由双片传送机构将エ件逐件送至合叶架上相应的合叶料架上，然后通过上拉气缸拉动合叶铰接件，合叶铰接件闭合带动2个合叶料架由水平状态转变为竖直状态，从而使得2个エ件也处于竖直状态，再通过同步带将2个エ件同时送入进片架，进片架通过传动辊将2个エ件送入进片室。为了更好地实现本双片或双面镀膜系统，按照エ件的输送方向，所述出片架后方还可设有专用的双片エ件输出装置，双片エ件输出装置的结构与双片エ件输入装置対称，其原理相同，エ件的输送过程与双片エ件输入装置相反。上述结构的双片エ件输入装置中，其双片传送机构可为以下两种结构形式(I)所述双片传送机构包括エ件传送带、第一传送气缸、第一气缸传送带、第二传送气缸和第二气缸传送帯，エ件传送带设于清洗机输送台的输出端，エ件传送带与清洗机输送台相互垂直设置，エ件传送带ー侧设置合叶架，第一传送气缸和第二传送气缸分别设于エ件传送带两端，第一气缸传送带设于エ件传送带和合叶架的一端，第二气缸传送带设于エ件传送带和合叶架的另一端，第一传送气缸设于第一气缸传送带上方并往返移动于第ー气缸传送带上，第二传送气缸设于第二气缸传送带上方并往返移动于第二气缸传送带上；エ件传送带上设有2个エ件位，靠近第一传送气缸的エ件位为第一エ件位，靠近第二传送气缸的エ件位为第二エ件位，第一エ件位上设有第一升降气缸，第二エ件位上设有第二升降气缸；第一传送气缸和第二传送气缸结构对称,第一传送气缸和第二传送气缸的末端分别设有托板，托板上设有真空吸盘。双片エ件输入装置使用时，该双片传送机构的工作过程具体为第一件エ件先由清洗机输送台送至エ件传送带的第一エ件位，第一升降气缸先将该エ件托起，然后由第一传送气缸动作，带动其末端的托板进入该エ件下方，托板上的真空吸盘将エ件吸紫，接着第一气缸传送带动作，第一传送气缸带动该エ件运行至合叶架处并将其放入相应的合叶料架上；第二件エ件先由清洗机输送台送至エ件传送带的第一エ件位，然后由エ件传送带的运行将其送至第二エ件位，此时第二エ件位上的第二升降气缸先将エ件托起，然后由第二传送气缸动作，带动其末端的托板进入该エ件下方，托板上的真空吸盘将エ件吸紫，接着第二气缸传送带动作，第二传送气缸带动该エ件运行至合叶架处并将其放入相应的合叶料架上；该过程中，第一件エ件和第二件エ件的输送顺序可根据实际エ艺进行调整。(2)所述双片传送机构包括往返运动于合叶架侧面的往返传送带，往返传送带设于清洗机输送台的输出端，往返传送带与清洗机输送台相互垂直设置，往返传送带ー侧设置合叶架；往返传送带上设有3个エ件位，包括中间エ件位和2个侧エ件位，中间エ件位对应设于清洗机输送台的输出端，2个侧エ件位分别设于中间エ件位的两侧。双片エ件输入装置使用时，该双片传送机构的工作过程具体为第一件エ件先由清洗机输送台送至往返传送带的中间エ件位上，然后由往返传送带将其送至中间エ件位一侧的侧エ件位，再由传送带将该エ件送至合叶架处并送入相应的合叶料架上；第二件エ件先由清洗机输送台送至往返传送带的中间エ件位上，然后由往返传送带将其送至中间エ件位另ー侧的侧エ件位，再由传送带将该エ件送至合叶架处并送入相应的合叶料架上；该过程中，第一件エ件和第二件エ件的输送顺序可根据实际エ艺进行调整。双片或双面镀膜系统中，所述多个真空室还包括前处理室、过渡室、缓冲室和后处理室，按照エ件的输送方向，进片室、前处理室、过渡室、镀膜室、缓冲室、后处理室和出片室依次设置。其中，进片室和出片室均为低真空室，作为大气与真空的过渡；前处理室和后处理室主要完成エ件表面的清洁处理或沉积处理等工艺；过渡室和缓冲室主要是作为镀膜室、到前处理室或后处理室的过渡。根据实际的エ艺需要，处理室、过渡室、缓冲室或后处理室的数量可灵活设置。所述进片室的进片口处设有第一真空锁，出片室的出片口处设有第二真空锁，迸片室与前处理室之间的通孔处设有第三真空锁，前处理室与过渡室之间的通孔处设有第四真空锁，缓冲室与后处理室之间的通孔处设有第五真空锁，后处理室与出片室之间的通孔处设有第六真空锁。所述镀膜室有4个，4个镀膜室呈直线式排列于过渡室和缓冲室之间，任意相邻两个镀膜室之间的通孔处设有第七真空锁。其中，各真空锁可采用传统结构的真空锁，也可采用以下结构的真空锁 (I)所述第一真空锁、第二真空锁、第三真空锁、第四真空锁、第五真空锁、第六真空锁和第七真空锁的结构相同，包括气缸、阀体和阀芯组件，阀体为中空的长方体箱式结构，阀体的左右两侧壁分别与位于其两侧的真空室固定连接，阀体的左右两侧壁上分别开有阀体通孔，阀体通孔与位于阀体两侧的真空室内的通孔相通，阀芯组件设于阀体的中部空间内，气缸末端穿过阀体顶部并与阀芯组件连接；阀芯组件包括对称设置的两个活动板，两个活动板之间设置活动铰并通过活动铰与气缸末端连接，两个活动板的底部分别设有导轮；两个活动板之间设有至少ー个拉簧，各拉簧两端分别固定于两个活动板的侧壁上。各真空锁使用时，其原理是当需要关闭真空锁时，气缸运行(当设有多个气缸时，各气缸同步运行)，其末端带动阀芯组件在阀体中部空间内向下运动，当阀芯组件下降至导轮与阀体内底面相接触时，气缸末端继续下降，通过各活动铰将两个活动板向两侧撑开，两个活动板在导轮的引导下滑向阀体中部空间的两侧壁，当两个活动板的外侧分别贴紧于阀体中部空间的两侧壁时，两个活动板分别封住相应的阀体通孔，从而隔开阀体左右两侧真空室上的通孔，达到密封的目的；当需要打开真空阀插板吋，气缸运行，其末端带动阀芯组件在阀体中部空间内反向运动，通过活动铰先将两个活动板向中间收拢后，再使其上升至导轮高于阀体通孔所处的位置即可。(2)所述第一真空锁、第二真空锁、第三真空锁、第四真空锁、第五真空锁、第六真空锁和第七真空锁的结构相同，包括气缸、阀体、阀芯和下清洁盖板，阀体为中空的长方体结构，阀体的左右两侧壁分别与位于其两侧的真空室固定连接，阀体的左右两侧壁上分別开有阀体通孔，阀体通孔与位于阀体两侧的真空室内的通孔相通，阀芯设于阀体内部，气缸末端穿过阀体顶部并与阀芯顶部固定连接，下清洁盖板设于阀体底部。各真空锁使用时，其原理是当需要关闭真空锁时，气缸运行，其末端带动阀芯在阀体中部空间内向下运动，阀芯下落至底部时，阀芯的左右两侧面贴紧于阀体的内侧面，此时将阀体左右两侧壁上的阀体通孔隔开，从而挡住阀体左右两侧真空室上的通孔，达到密封的目的；当需要打开真空阀插板时，气缸运行，其末端带动阀芯在阀体中部空间内向上运动，阀芯上升到其末端高于阀体通孔所处的位置即可。本双片或双面镀膜系统使用时，其原理是エ件由进片架通过传动辊送入进片室，再依次经过前处理室、过渡室后，进入镀膜室进行镀膜，由于镀膜室在玻璃的两侧均设有磁控溅射靶，所以可以同时对单个エ件的两面或2个エ件进行镀膜，镀膜完成后エ件依次经过缓冲室、后处理室和出片室后，由出片架将其送出。本实用新型相对于现有技术，具有以下有益效果[0027]本双片或双面镀膜系统采用多个真空室直线排列设置，且各镀膜室均在其两侧的室门上设置磁控溅射靶，可实现对单个エ件的两面或两个エ件同时镀膜，使镀膜生产线的生产效率有效 得到提高；同时，将各磁控溅射靶设于室门上，可方便设备维护，磁控溅射靶的安装也简单。本双片或双面镀膜系统在多处相邻真空室的通孔处设置真空锁，当需要进行设备维护时，只要将相应的真空锁锁上，即可针对当真空室进行单独维护，其维护成本低，操作也简单。同时，该真空锁结构简单、加工制造容易，可靠性比传统的翻板阀大为提高，也更加耐用，维护间隔时间长。本双片或双面镀膜系统还可配有专用的双片エ件输入装置，代替了传统的人工搬运环节，实现了玻璃エ件在镀膜エ艺中的自动输送，可有效提高生产效率，节省人力资源损耗，同时，可避免玻璃エ件与人手的接触，有效避免了玻璃エ件在输送过程中被污染的现象，从而提闻广品质量。
图I为实施例I中玻璃エ件在合叶架内处于水平状态时，本玻璃输送装置的结构示意图。图2为实施例I中玻璃エ件在合叶架内处于竖直状态时，本玻璃输送装置的结构示意图。图3为实施例2中玻璃エ件在合叶架内处于水平状态时，本玻璃输送装置的结构示意图。图4为实施例2中玻璃エ件在合叶架内处于竖直状态时，本玻璃输送装置的结构示意图。图5为本双片或双面镀膜系统的结构示意图。图6为图5的A向视图。图7为实施例I中单个真空锁的结构示意图。图8为实施例3中单个真空锁的结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例及附图，对本实用新型作进ー步的详细说明，但本实用新型的实施方式不限于此。实施例I本实施例一种双片或双面镀膜系统，其结构如图5或图6所示，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室4，最后ー个真空室为出片室23，进片室4和出片室23之间设有至少ー个镀膜室20 ;镀膜室位于エ件输送方向左右两侧的室壁上均设有室门，各室门上装有磁控溅射靶32。进片室4的进片口外侧设有进片架3，出片室13的出片口外侧设有出片架24。多个真空室还包括前处理室18、过渡室19、缓冲室21和后处理室22，按照エ件的输送方向，进片室4、前处理室18、过渡室19、镀膜室20、缓冲室21、后处理室22和出片室23依次设置。其中，进片室和出片室均为低真空室，作为大气与真空的过渡；前处理室和后处理室主要完成エ件表面的清洁处理或沉积处理等エ艺；过渡室和缓冲室主要是作为镀膜室到前处理室或后处理室的过渡。进片室4的进片口处设有第一真空锁25，出片室23的出片口处设有第二真空锁31，进片室与前处理室之间的通孔处设有第三真空锁26，前处理室与过渡室之间的通孔处设有第四真空锁27，缓冲室与后处理室之间的通孔处设有第五真空锁29，后处理室与出片室之间的通孔处设有第六真空锁30。镀膜室20有4个，4个镀膜室呈直线式排列于过渡室和缓冲室之间，任意相邻两个镀膜室之间的通孔处设有第七真空锁28。所述第一真空锁26、第二真空锁31、第三真空锁26、第四真空锁27、第五真空锁29、第六真空锁30和第七真空锁28的结构相同，如图7所示，包括气缸33、阀体34和阀芯组件，阀体为中空的长方体箱式结构，阀体的左右两侧壁分别与位于其两侧的真空室固定连接，阀体的左右两侧壁上分別开有阀体通孔35，阀体通孔与位于阀体两侧的真空室内的通孔相通，阀芯组件设于阀体的中部空间内，气缸末端穿过阀体顶部并与阀芯组件连接；阀·芯组件包括对称设置的两个活动板36，两个活动板之间设置活动铰37并通过活动铰与气缸33末端连接，两个活动板的底部分别设有导轮38 ;两个活动板之间设有至少ー个拉簧39，各拉簧两端分别固定于两个活动板的侧壁上。各真空锁使用时，其原理是当需要关闭真空锁时，气缸运行(当设有多个气缸时，各气缸同步运行)，其末端带动阀芯组件在阀体中部空间内向下运动，当阀芯组件下降至导轮与阀体内底面相接触时，气缸末端继续下降，通过各活动铰将两个活动板向两侧撑开，两个活动板在导轮的引导下滑向阀体中部空间的两侧壁，当两个活动板的外侧分别贴紧于阀体中部空间的两侧壁时，两个活动板分别封住相应的阀体通孔，从而隔开阀体左右两侧真空室上的通孔，达到密封的目的；当需要打开真空阀插板吋，气缸运行，其末端带动阀芯组件在阀体中部空间内反向运动，通过活动铰先将两个活动板向中间收拢后，再使其上升至导轮高于阀体通孔所处的位置即可。为了减少エ件在输送过程被污染的现象，按照エ件的输送方向，进片架前方可设有专用的双片エ件输入装置，双片エ件输入装置的具体结构如图I或图2所示，包括清洗机输送台I、双片传送机构和合叶架2,按照エ件的输送方向，清洗机输送台I、双片传送机构和合叶架2依次设置，合叶架上设有上拉铰链机构；其中，合叶架2包括支撑架12和2个合叶料架13，2个合叶料架设于支撑架中部；上拉铰链机构包括上拉气缸14和合叶铰接件15，上拉气缸固定于支撑架上，上拉气缸末端与合叶铰接件相连接，2个合叶料架之间通过合叶铰接件连接；合叶架2与进片架3之间通过同步带连接。双片エ件输入装置使用时，其工作过程为エ件16经清洗机清洗后，由清洗机输送台送至双片传送机构上，再由双片传送机构将エ件逐件送至合叶架上相应的合叶料架上，然后通过上拉气缸拉动合叶铰接件，合叶铰接件闭合带动2个合叶料架由水平状态转变为竖直状态，从而使得2个エ件也处于竖直状态，再通过同步带将2个エ件同时送入进片架，进片架通过传动辊将2个エ件送入进片室。其中，双片传送机构包括エ件传送带5、第一传送气缸6、第一气缸传送带7、第二传送气缸8和第二气缸传送带9，エ件传送带设于清洗机输送台的输出端，エ件传送带与清洗机输送台相互垂直设置，エ件传送带ー侧设置合叶架，第一传送气缸和第二传送气缸分别设于エ件传送带两端，第一气缸传送带设于エ件传送带和合叶架的一端，第二气缸传送带设于エ件传送带和合叶架的另一端，第一传送气缸设于第一气缸传送带上方并往返移动于第一气缸传送带上，第二传送气缸设于第二气缸传送带上方并往返移动于第二气缸传送带上； エ件传送带5上设有2个エ件位，靠近第一传送气缸的エ件位为第一エ件位，靠近第二传送气缸的エ件位为第二エ件位，第一エ件位上设有第一升降气缸10，第二エ件位上设有第二升降气缸11 ;第一传送气缸和第二传送气缸结构对称,第一传送气缸和第二传送气缸的末端分别设有托板，托板上设有真空吸盘。双片エ件输入装置使用时，该双片传送机构的工作过程具体为第一件エ件先由清洗机输送台送至エ件传送带的第一エ件位，第一升降气缸先将该エ件托起，然后由第一传送气缸动作，带动其末端的托板进入该エ件下方，托板上的真空吸盘将エ件吸紫，接着第一气缸传送带动作，第一传送气缸带动该エ件运行至合叶架处并将其放入相应的合叶料架上；第二件エ件先由清洗机输送台送至エ件传送带的第一エ件位，然后由エ件传送带的运行将其送至第二エ件位，此时第二エ件位上的第二升降气缸先将エ件托起，然后由第二传送气缸动作，带动其末端的托板进入该エ件下方，托板上的真空吸盘将エ件吸紫，接着第二气缸传送带动作，第二传送气缸带动该エ件运行至合叶架处并将其放入相应的合叶料架上；该过程中，第一件エ件和第二件エ件的输送顺序可根据实际エ艺进行调整。本双片或双面镀膜系统使用时，其原理是エ件由进片架通过传动辊送入进片室，再依次经过前处理室、过渡室后，进入镀膜室进行镀膜，由于镀膜室在玻璃的两侧均设有磁控溅射靶，所以可以同时对单个エ件的两面或2个エ件进行镀膜，镀膜完成后エ件依次经过缓冲室、后处理室和出片室后，由出片架将其送出。实施例2本实施例一种双片或双面镀膜系统，与实施例I相比较，其不同之处在于其双片传送机构的结构形式，如图3或图4所示，双片传送机构包括往返运动于合叶架侧面的往返传送带17,往返传送带17设于清洗机输送台I的输出端，往返传送带与清洗机输送台相互垂直设置，往返传送带一侧设置合叶架2 ；往返传送带17上设有3个エ件位，包括中间エ件位和2个侧エ件位，中间エ件位对应设于清洗机输送台的输出端，2个侧エ件位分别设于中间エ件位的两侧。双片エ件输入装置使用时，该双片传送机构的工作过程具体为第一件エ件先由清洗机输送台送至往返传送带的中间エ件位上，然后由往返传送带将其送至中间エ件位一侧的侧エ件位，再由传送带将该エ件送至合叶架处并送入相应的合叶料架上；第二件エ件先由清洗机输送台送至往返传送带的中间エ件位上，然后由往返传送带将其送至中间エ件位另ー侧的侧エ件位，再由传送带将该エ件送至合叶架处并送入相应的合叶料架上；该过程中，第一件エ件和第二件エ件的输送顺序可根据实际エ艺进行调整。实施例3本实施例一种双片或双面镀膜系统，与实施例I相比较，其不同之处在于各个真空锁的结构，第一真空锁、第二真空锁、第三真空锁、第四真空锁、第五真空锁、第六真空锁和第七真空锁的结构相同，如图8所示，包括气缸33、阀体34、阀芯36和下清洁盖板37，阀体为中空的长方体结构，阀体的左右两侧壁分别与位于其两侧的真空室固定连接，阀体的左右两侧壁上分別开有阀体通孔35，阀体通孔与位于阀体两侧的真空室内的通孔相通，阀芯设于阀体内部，气缸末端穿过阀体顶部并与阀芯顶部固定连接，下清洁盖板设于阀体底部。各真空锁使用时，其原理是当需要关闭真空锁时，气缸运行，其末端带动阀芯在阀体中部空间内向下运动，阀芯下落至底部时，阀芯的左右两侧面贴紧于阀体的内侧面，此时将阀体左右两侧壁上的阀体通孔隔开，从而挡住阀体左右两侧真空室上的通孔，达到密封的目的；当需要打开真空阀插板吋，气缸运行，其末端带动阀芯在阀体中部空间内向上运动，阀芯上升到其末端高于阀体通孔所处的位置即可。 如上所述，便可较好地实现本实用新型，上述实施例仅为本实用新型的较佳实施例，并非用来限定本实用新型的实施范围；即凡依本实用新型内容所作的均等变化与修饰，都为本实用新型权利要求所要求保护的范围所涵盖。
权利要求1.双片或双面镀膜系统，其特征在于，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室，最后ー个真空室为出片室，进片室和出片室之间设有至少ー个镀膜室；镀膜室位于エ件输送方向左右两侧的室壁上均设有室门，各室门上装有磁控溅射靶。
2.根据权利要求I所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述进片室的进片口外侧设有进片架，出片室的出片口外侧设有出片架。
3.根据权利要求2所述的双片或双面镀膜系统，其特征在干，按照エ件的输送方向，所述进片架前方设有双片エ件输入装置，双片エ件输入装置包括清洗机输送台、双片传送机构和合叶架，按照エ件的输送方向，清洗机输送台、双片传送机构和合叶架依次设置，合叶架上设有上拉铰链机构； 其中，合叶架包括支撑架和2个合叶料架，2个合叶料架设于支撑架中部；上拉铰链机构包括上拉气缸和合叶铰接件，上拉气缸固定于支撑架上，上拉气缸末端与合叶铰接件相连接，2个合叶料架之间通过合叶铰接件连接； 合叶架与进片架之间通过同步带连接。
4.根据权利要求3所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述双片传送机构包括エ件传送带、第一传送气缸、第一气缸传送带、第二传送气缸和第二气缸传送帯，エ件传送带设于清洗机输送台的输出端，エ件传送带与清洗机输送台相互垂直设置，エ件传送带ー侧设置合叶架，第一传送气缸和第二传送气缸分别设于エ件传送带两端，第一气缸传送带设于エ件传送带和合叶架的一端，第二气缸传送带设于エ件传送带和合叶架的另一端，第一传送气缸设于第一气缸传送带上方并往返移动于第一气缸传送带上，第二传送气缸设于第二气缸传送带上方并往返移动于第二气缸传送带上； エ件传送带上设有2个エ件位，靠近第一传送气缸的エ件位为第一エ件位，靠近第二传送气缸的エ件位为第二エ件位，第一エ件位上设有第一升降气缸，第二エ件位上设有第ニ升降气缸； 第一传送气缸和第二传送气缸结构对称，第一传送气缸和第二传送气缸的末端分别设有托板，托板上设有真空吸盘。
5.根据权利要求3所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述双片传送机构包括往返运动于合叶架侧面的往返传送带，往返传送带设于清洗机输送台的输出端，往返传送带与清洗机输送台相互垂直设置，往返传送带一侧设置合叶架； 往返传送带上设有3个エ件位，包括中间エ件位和2个侧エ件位，中间エ件位对应设于清洗机输送台的输出端，2个侧エ件位分别设于中间エ件位的两侧。
6.根据权利要求I所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述多个真空室还包括前处理室、过渡室、缓冲室和后处理室，按照エ件的输送方向，进片室、前处理室、过渡室、镀膜室、缓冲室、后处理室和出片室依次设置。
7.根据权利要求6所述的双片或双面镀膜系统，其特征在干，所述进片室的进片口处设有第一真空锁，出片室的出片口处设有第二真空锁，进片室与前处理室之间的通孔处设有第三真空锁，前处理室与过渡室之间的通孔处设有第四真空锁，缓冲室与后处理室之间的通孔处设有第五真空锁，后处理室与出片室之间的通孔处设有第六真空锁。
8.根据权利要求7所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述镀膜室有4个，4个镀膜室呈直线式排列于过渡室和缓冲室之间，任意相邻两个镀膜室之间的通孔处设有第七真空锁。
9.根据权利要求8所述的双片或双面镀膜系统，其特征在于，所述第一真空锁、第二真空锁、第三真空锁、第四真空锁、第五真空锁、第六真空锁和第七真空锁的结构相同，包括气缸、阀体和阀芯组件，阀体为中空的长方体箱式结构，阀体的左右两侧壁分别与位于其两侧的真空室固定连接，阀体的左右两侧壁上分別开有阀体通孔，阀体通孔与位于阀体两侧的真空室内的通孔相通，阀芯组件设于阀体的中部空间内，气缸末端穿过阀体顶部并与阀芯组件连接；阀芯组件包括对称设置的两个活动板，两个活动板之间设置活动铰并通过活动铰与气缸末端连接，两个活动板的底部 分别设有导轮；两个活动板之间设有至少ー个拉簧，各拉簧两端分别固定于两个活动板的侧壁上。
10.根据权利要求8所述的双片或双面镀膜系统，其特征在干，所述第一真空锁、第二真空锁、第三真空锁、第四真空锁、第五真空锁、第六真空锁和第七真空锁的结构相同，包括气缸、阀体、阀芯和下清洁盖板，阀体为中空的长方体结构，阀体的左右两侧壁分别与位于其两侧的真空室固定连接，阀体的左右两侧壁上分別开有阀体通孔，阀体通孔与位于阀体两侧的真空室内的通孔相通，阀芯设于阀体内部，气缸末端穿过阀体顶部并与阀芯顶部固定连接，下清洁盖板设于阀体底部。
专利摘要本实用新型公开一种双片或双面镀膜系统，包括呈直线式排列的多个真空室，任意相邻的两个真空室之间设有通孔，第一个真空室为进片室，最后一个真空室为出片室，进片室和出片室之间设有至少一个镀膜室；镀膜室位于工件输送方向左右两侧的室壁上均设有室门，各室门上装有磁控溅射靶。本双片或双面镀膜系统采用多个真空室直线排列设置，且各镀膜室均在其两侧的室门上设置磁控溅射靶，可实现对单个工件的两面或两个工件同时镀膜，使镀膜生产线的生产效率有效得到提高；同时，将各磁控溅射靶设于室门上，可方便设备维护，磁控溅射靶的安装也简单。
文档编号C23C14/56GK202415378SQ20112057642
公开日2012年9月5日 申请日期2011年12月31日 优先权日2011年12月31日
发明者朱刚劲, 朱刚毅, 朱文廓 申请人:肇庆市腾胜真空技术工程有限公司