专利名称：环境友好型钛合金化学机械抛光液的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种环境友好型钛合金化学机械抛光液。
背景技术：
化学机械抛光液(chemical machanical polish, CMP)技术的概念,是1965年由Monsanto首先提出。该技术最初是用于获得高质量的玻璃表面，如军用望远镜和光子仪器等。与传统的单纯机械或化学的抛光方法不同，CMP是通过化学与机械的共同综合作用，因而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光可能造成的抛光速度慢，表面平整度和抛光一致性差的缺陷。该技术是利用磨损中的“软磨硬”的原理，也就是用较软的材料来进行抛光，以获得高质量的表面抛光。
在设定的压力和抛光液共同作用下，被抛光零件相对抛光垫作相对运动，借助微细粒子的研磨作用与氧化剂的腐蚀作用的有机结合，获得高质量光性表面。CMP技术已从原来主要应用于电路(IC)和超大规模集成电路(ULSI)对基材硅晶体的抛光，拓展主薄膜存储磁盘，微电子机械和精密陶瓷、阀门、机械模具、光子玻璃，重金属材料，特殊用途的有色金属及合金表面(包括锂及其合金、铝及其合金、钛及其合金)等表面有特殊要求的加工领域。器件特征尺寸在O. 35 μ m以下时，必须进行全局平面化，以确保精确度和分辨率。而C M P抛光液是目前几乎唯一的可以提供全局平面化的技术手段。其中化学抛光液是重要关键技术之一。通常情况下，抛光液中的磨料和种类、粒径大小、颗粒分散度、稳定性以及化学物理性质都将与抛光液效果密切相关。此外，抛光垫的属性(如材料和平整度等)也会极大的影响抛光效果。由于市场巨大的需求，排放以及后处理工作量大，CMP不再重复使用，故提出环境友好型钛合金化学机械抛光液就显得尤为重要。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种环境友好型钛合金化学机械抛光液，该抛光液具有良好的抗磨、减磨性能和防锈性能，且性能稳定，可以满足化学机械抛光加工的需要。本发明以如下技术方案解决上述技术问题钛合金化学机械抛光液的组分及质量百分比
权利要求
1.一种环境友好型钛合金化学机械抛光液，其特征是由下列组分及质量百分数组成
2.如权利要求I所述的环境友好型钛合金化学机械抛光液，其特征是油性添加剂为质量比50%的脂肪酸盐和50%的聚醚复合。
3.如权利要求I所述的环境友好型钛合金化学机械抛光液，其特征是无机盐防锈剂为磷酸二氢钠，钥酸钠复合，质量比为I : I;有机盐防锈剂为辛酸盐、十二烯基丁二酸盐、十二烯基丁二酸辛酯盐中的任一种。
4.如权利要求I所述的环境友好型钛合金化学机械抛光液，其特征是非表面离子活性剂为丙异丙胺醇。
5.如权利要求I所述的环境友好型钛合金化学机械抛光液，其特征是辅剂为乙醇。
6.如权利要求I所述的环境友好型钛合金化学机械抛光液，其特征是pH调和剂为由柠檬酸和醋酸组成的复合有机酸，二者质量比为1:1。
7.如权利要求I所述的环境友好型钛合金化学机械抛光液，其特征是抗硬水剂为乙二胺四乙酸EDTA。
8.如权利要求I所述的环境友好型钛合金化学机械抛光液，其特征是消泡剂为改性的聚硅乙烷。
9.如权利要求I所述的环境友好型钛合金化学机械抛光液，其特征是复合磨料颗粒物为I. 2-2. 5 μ m质量比50%的碳化硅和50%的氮化硼复合。
10.如权利要求I所述的环境友好型钛合金化学机械抛光液，其特征是分散剂为二乙烯三胺和砒啶按质量比1:1复合。
全文摘要
本发明公开了一种环境友好型钛合金化学机械抛光液，由下列质量百分数的成分组成油性添加剂5%-10%，无机盐防锈剂为2%-5%，有机盐防锈剂为10%-25%，非表面离子活性剂为5%-10%，辅剂为0.6%-1.0%，pH调和剂为1%-5%，抗硬水剂为0.3%-0.5%，消泡剂为0.07%-0.12%，复合磨料颗粒为6.0%-6.5%，分散剂为0.03%-0.05%，去离子水为余量。本发明的环境友好型钛合金化学机械抛光液，具有良好的抗磨、减磨性能和防锈性能，性能稳定，可以满足化学机械抛光加工的需要。
文档编号C23F3/04GK102877068SQ20121035775
公开日2013年1月16日 申请日期2012年9月24日 优先权日2012年9月24日
发明者黄福川, 卢朝霞, 莫宇飞, 梁景, 粟满荣, 唐兴中, 田宗义, 肖友程, 蓝明新, 唐彩珍, 李胜, 李宏君, 梁慧, 赵钟兴, 廖丹葵, 刘琨 申请人:广西大学