专利名称：抛光用陶瓷盘的制作方法
技术领域：
本实用新型属于机械抛光加工技术领域，具体地说，涉及一种抛光用陶瓷盘。
背景技术：
现有蓝宝石衬底片cpm中使用的陶瓷盘存在两种:一种是贴蜡抛光中用的简单的圆盘形陶瓷盘；第二种是无蜡抛光中使用的，在圆盘形陶瓷盘上贴上抛光衬垫(template)。由于机械研磨后衬底片弯曲度较大，无法直接进行无蜡抛光，因此在第一阶段粗抛中常用贴蜡抛光方式。抛光过程中晶片外缘最先与抛光液接触的部分较容易产生划伤等表面缺陷。
实用新型内容为解决上述技术问题，本实用新型提出了一种避免抛光液中颗粒物对衬底片划伤并修整抛光衬垫的抛光用陶瓷盘。本实用新型的技术方案是:抛光用陶瓷盘，其边缘处设置凸边，所述凸边厚度小于所述陶瓷盘上放置衬底片的厚度，所述凸边顶端平行于陶瓷盘底面，边缘倒角。本实用新型的有益效果在于:阻挡抛光液中的颗粒状异物对衬底片造成划伤，并起到修整抛光垫的效果。
图1是本实用新型的整体结构示意图，图2是本实用新型的部分结构示意图。其中:1、衬底片，2、陶瓷盘，3、凸边。
具体实施方式
以下结合附图具体说明本实用新型。如图1和图2所示，陶瓷盘2边缘处设置凸边3，所述凸边3厚度小于所述陶瓷盘2上放置衬底片I的厚度，凸边3顶端平行于陶瓷盘2底面，边缘倒角。使用时，抛光液流入陶瓷盘2时，先接触边缘凸边3，阻隔抛光液中的颗粒物，避免对衬底片I造成划伤。
权利要求1.一种抛光用陶瓷盘(2)，其特征在于，其边缘处设置凸边(3)，所述凸边(3)厚度小于所述陶瓷盘(2)上放置衬底片(I)的厚度。
2.根据权利要求1所述的抛光用陶瓷盘，其特征在于，所述凸边(3)顶端平行于陶瓷盘(2)底面，边缘倒角。
专利摘要本实用新型属于机械抛光加工技术领域，具体地说，涉及一种抛光用陶瓷盘。其边缘处设置凸边，所述凸边厚度小于所述陶瓷盘上放置衬底片的厚度，所述凸边顶端平行于陶瓷盘底面，边缘倒角。本实用新型的有益效果在于阻挡抛光液中的颗粒状异物对衬底片造成划伤，并起到修整抛光垫的效果。
文档编号B24D7/18GK203003705SQ20122073605
公开日2013年6月19日 申请日期2012年12月27日 优先权日2012年12月27日
发明者刘晓强 申请人:青岛嘉星晶电科技股份有限公司