被覆件及其制造方法
【专利摘要】一种被覆件，包括基体及形成在基体上的类金刚石膜层。该类金刚石膜层表面形成有若干纳米量级的凸起。本发明还提供一种所述被覆件的制造方法。
【专利说明】被覆件及其制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种被覆件及其制造方法。
【背景技术】
[0002] 现有技术，为了使镀覆有类金刚石（DLC)膜层的被覆件具有较高的硬度及疏水性， 可通过如下两种方式实现：在形成DLC膜层的过程中，采用Si进行掺杂处理，获得具有疏水 性的Si掺杂DLC膜层；或者，在DLC膜层上形成一含有氟烧基娃烧的有机层。但是，由于 DLC膜层与玻璃、陶瓷等基体的结合力较差，DLC膜层易于发生剥落，如此将导致DLC膜层失 效。
【发明内容】
[0003] 有鉴于此，提供一种具有高硬度及良好疏水性的被覆件。
[0004] 另外，还提供一种所述被覆件的制造方法。
[0005] -种被覆件，包括基体及形成在基体上的类金刚石膜层。该类金刚石膜层表面形 成有若干纳米量级的凸起。
[0006] -种被覆件的制造方法，包括以下步骤： 提供基体； 通过真空镀膜的方式，在基体表面形成一金属层； 采用液氮对该金属层进行骤冷处理，使所述金属层表面的晶粒因骤冷而被粗化，于金 属层的表面形成若干纳米量级的凸起； 采用真空镀膜的方式，在骤冷处理后的金属层上形成一类金刚石膜层，该类金刚石膜 层表面形成若干纳米量级的凸起。
[0007] 所述类金刚石膜层表面分布的纳米量级凸起，使所述被覆件具有较高的硬度的同 时还具有良好的疏水性。经液氮骤冷处理后的所述金属层与类金刚石膜层之间具有良好的 结合力，可避免类金刚石膜层发生剥落而失效。
【专利附图】
【附图说明】
[0008] 图1是本发明一较佳实施例被覆件的剖视图。
[0009] 图2是本发明一较佳实施例的真空蒸镀机的示意图。
[0010] 图3是本发明一较佳实施例的真空镀膜机的示意图。
[0011] 主要元件符号说明
【权利要求】
1. 一种被覆件，包括基体及形成在基体上的类金刚石膜层，其特征在于：该类金刚石 膜层表面形成有若干纳米量级的凸起。
2. 如权利要求1所述的被覆件，其特征在于：该被覆件还包括形成在基体与类金刚石 膜层之间的金属层。
3. 如权利要求2所述的被覆件，其特征在于：该金属层表面形成有若干纳米量级的凸 起。
4. 如权利要求3所述的被覆件，其特征在于：该金属层为钨层。
5. 如权利要求1、2或3所述的被覆件，其特征在于：该金属层的厚度为1~2μπι。
6. 如权利要求1所述的被覆件，其特征在于：该类金刚石膜层的厚度为1~1. 5 μ m。
7. 如权利要求1或6所述的被覆件，其特征在于：该类金刚石膜层由碳元素和氢元素 构成，其中，碳元素的质量百分含量为3(Γ40%，氢元素的质量百分含量为6(Γ70%。
8. -种被覆件的制造方法，包括以下步骤： 提供基体； 通过真空镀膜的方式，在基体表面形成一金属层； 采用液氮对该金属层进行骤冷处理，使所述金属层表面的晶粒因骤冷而被粗化，于金 属层的表面形成若干纳米量级的凸起； 采用真空镀膜的方式，在骤冷处理后的金属层上形成一类金刚石膜层，该类金刚石膜 层表面形成若干纳米量级的凸起。
9. 如权利要求8所述的被覆件的制造方法，其特征在于：该金属层为钨层，形成该钨层 的方法为：提供一真空蒸镀机，该真空蒸镀机包括一蒸镀腔；采用金属钨为蒸发材料，对基 体进行蒸镀处理，于基体上形成一钨层。
10. 如权利要求9所述的被覆件的制造方法，其特征在于：该液氮骤冷处理的方法为： 形成该金属层后，向该蒸镀腔内通入液氮，该蒸镀腔内的真空度为KT^lPa、蒸镀腔内的温 度骤降至8(Γ100?，该基体在该液氮气氛中保持2~3min。
【文档编号】C23C14/02GK104250722SQ201310270232
【公开日】2014年12月31日 申请日期:2013年6月27日 优先权日:2013年6月27日
【发明者】张春杰 申请人:深圳富泰宏精密工业有限公司