生物搪瓷辐射板及其制备方法

文档序号:3298496阅读:373来源:国知局
生物搪瓷辐射板及其制备方法
【专利摘要】本发明公开了一种生物搪瓷辐射板,包括基材、第一靶材、第二靶材和金属钛,第一靶材包括:铁Fe、铬Cr、锆Zr、铜Cu、镍Ni、铝Al、铋Bi和钛Ti;第二靶材包括:镁Mg、硒Se、钡Ba、镉Cd、锡Sn、锰Mn、钨W、钴Co、钼Mo、锌Zn和Yi。本发明克服了现有的生物搪瓷辐射板及其制备方法无法控制辐射板的成分,杂质较多,重复性差,质量稳定性差,可操作性差的缺点,提供一种可控制辐射板的成分,避免产生杂质,重复性好,质量稳定性高,可操作性好的生物搪瓷辐射板。
【专利说明】生物搪瓷辐射板及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明属于磁疗装置领域,具体涉及一种生物搪瓷辐射板及其制备方法。
【背景技术】
[0002]生物搪瓷辐射板是在搪瓷板中加入与生物相关的多种元素,并且使辐射板的表面呈粗糙的颗粒状,在加热状态下能产生适量的有益于人体及生物的辐射线,引起或促进生物效应。
[0003]生物搪瓷辐射板至1985年的发明专利以来,均是直接采用矿物质氧化制备,而矿物质的杂质较多且不稳定,因此,导致辐射板的杂质也较多;另外,现有辐射板的制作过程均采用传统的搪瓷釉料生产方法,即在基材表面涂搪制成底釉,在制品为100-600°C时喷面釉,并在高温800-900°C烧面釉制成,而高温烧制釉料的方法制备的生物搪瓷辐射板在成分上具有很大的波动,由于高温致使矿物质内的其他杂质氧化,因此使得辐射板的成分有所变化,致使辐射板中含有杂质,辐射线中含有杂线,加上矿物质中的成分稳定性差,从而使得制得的辐射板重复性差,质量稳定性差,可操作性差的缺点。

【发明内容】

[0004]本发明要解决的技术问题是针对现有的生物搪瓷辐射板及其制备方法无法控制辐射板的成分,杂质较多,提供一种可控制辐射板的成分,避免产生杂质的生物搪瓷辐射板。
[0005]为了解决上述技术问题,本发明提供如下技术方案:生物搪瓷辐射板,包括基材、第一靶材、第二靶材和金属钛,第一靶材包括:铁Fe、铬Cr、锆Zr、铜Cu、镍N1、铝Al、铋Bi和钛Ti ;第二靶材包括:镁Mg、 硒Se、钡Ba、镉Cd、锡Sn、锰Mn、钨W、钴Co、钥Mo、锌Zn和铱Ir。
[0006]采用本发明技术方案的生物搪瓷辐射板,在基材上利用第一靶材和第二靶材氧化制成,由于第一靶材和第二靶材均采用纯金属材料,因此制成的搪瓷辐射板无杂质产生,确保辐射板中的成分及各成分的辐射线,与现有的矿物质制作的辐射板相比,重复性好、质量稳定性高,可操作性好。
[0007]进一步,所述的第一靶材和第二靶材的材料含量为:第一靶材,Fe:3-10份、Cr:5-15 份、Zr:3-7 份、Cu:2_6 份、N1:2_5 份、Al:9_15 份、B1:6_8 份、T1:15-18 份;第二靶材,Mg:1-2 份、Se:2 份、Ba:1_4 份、Cd:2_3 份、Sn:2_3 份、Mn:4_5 份、W:2~4 份、Co:4_8份、Mo:3-5份、Zn:5-8份Ir:5~7份。保证辐射板中的各成分的含量和辐射线的强度。
[0008]进一步,制备方法步骤包括:一、用真空溅射的方法在基材上溅射Ti靶,制备生物搪瓷氧化膜;二、通入氧气,溅射第一靶材,在基体上形成第一靶材氧化物复合层;三、关闭第一靶材溅射,开启第二靶材溅射,在第一靶材氧化物复合层上溅射第二靶材氧化物复合层。溅射是用带电粒子轰击靶材,加速的离子轰击固体表面时,发生表面原子碰撞并发生能量和动量的转移,使靶材原子从表面逸出并淀积在基材上的过程,可使基材表面获得金属、合金或电介质薄膜。避免高温烧制,从而避免杂质氧化物生成,使辐射板中产生干扰辐射线。
[0009]进一步,所述的步骤一中的制备工艺参数如下:工作压力0.1-0.05Pa ;溅射气体:.99.99氩气;溅射的工作电流:5-10A ;溅射厚度:5Mm。
[0010]进一步,所述的步骤二中形成的第一靶材氧化物复合层的厚度为:20-25Mm。
[0011]进一步,所述的第一祀材氧化物复合层包括:Fe0、Cr0、Zr02、Cu0、Ni0、Al203、Bi203和 TiO2。
[0012]再进一步,所述的第二祀材氧化物复合层包括:MgO、SeO、BaO、CdO、SnO、Mn203、W2O3、CoO2、MoO2、ZnO 和 IrO2。
[0013]【具体实施方式】
本发明生物搪瓷辐射板,包括基材、第一靶材、第二靶材和金属钛,第一靶材包括:Fe、Cr、Zr、Cu、N1、Al、Bi 和 Ti ;第二靶材包括:Mg、Se、Ba、Cd、Sn、Mn、W、Co、Mo、Zn 和 Ir。
[0014]表1为本发明 的各实施例中第一靶材和第二靶材的含量,单位为:份 表1
【权利要求】
1.生物搪瓷辐射板,其特征在于:包括基材、第一靶材、第二靶材和金属钛,第一靶材包括:Fe、Cr、Zr、Cu、N1、Al、Bi 和 Ti ;第二靶材包括:Mg、Se、Ba、Cd、Sn、Mn、W、Co、Mo、Zn和Ir。
2.如权利要求1所述生物搪瓷辐射板,其特征在于:所述的第一靶材和第二靶材的材料含量为: 第一靶材,Fe:3-10 份、Cr:5_15 份、Zr:3_7 份、Cu:2_6 份、N1:2_5 份、Al:9_15 份、B1:6-8 份、Ti:15-18 份; 第二靶材,Mg:1-2 份、Se:2 份、Ba:1_4 份、Cd:2_3 份、Sn:2_3 份、Mn:4_5 份、W:2~4份、Co:4-8 份、Mo:3-5 份、Zn:5_8 份 Ir:5~7 份。
3.如权利要求1或2所述生物搪瓷辐射板的制备方法,其特征在于,制备方法步骤包括: 一、用真空溅射的方法在基材上溅射Ti靶,制备生物搪瓷氧化膜; 二、通入氧气,溅射第一靶材,在基体上形成第一靶材氧化物复合层; 三、关闭第一靶材溅射,开启第二靶材溅射,在第一靶材氧化物复合层上溅射第二靶材氧化物复合层。
4.如权利要求3所述生物搪瓷辐射板的制备方法,其特征在于,所述的步骤一中的制备工艺参数如下: 工作压力0.1-0.05Pa ; 溅射气体=99.99氩气; 溅射的工作电流:5-10A ; 溅射厚度
5.如权利要求3所述生物搪瓷辐射板的制备方法,其特征在于,所述的步骤二中形成的第一靶材氧化物复合层的厚度为:20-25Mm。
6.如权利要求4或5所述生物搪瓷辐射板的制备方法,其特征在于,所述的第一靶材氧化物复合层包括:Fe0、Cr0、Zr02、CuO、NiO、A1203、Bi2O3 和 TiO2。
7.如权利要求4或5所述生物搪瓷辐射板的制备方法,其特征在于,所述的第二靶材氧化物复合层包括:MgO、SeO、BaO, CdO, SnO, Mn2O3> W203、Co02、Mo02、ZnO 和 IrO20
【文档编号】C23C14/08GK103695844SQ201310702993
【公开日】2014年4月2日 申请日期:2013年12月19日 优先权日:2013年12月19日
【发明者】袁先洪, 钟江泉, 向小阳, 王联, 卫东, 周天勇 申请人:重庆市硅酸盐研究所
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