技术总结
本发明涉及一种基板支架和一种与基板支架共同作用的CVD反应器，用于布置在CVD反应器或PVD反应器(20)内，尤其用于沉积碳纳米管和石墨，所述基板支架具有用于容纳待涂覆的基板(6)的第一宽侧面(2)和与第一宽侧面(2)相背离的第二宽侧面(3)。为了优化用于沉积碳纳米管的设备或设备的部件，在此建议，所述第一宽侧面(2)和第二宽侧面(3)分别具有基板容纳区域(4、5)，在所述基板容纳区域(4、5)中设有固定件(14、14’、15)，基板(6)或基板(6)的区段借助所述固定件(14、14’、15)能够固定在相应的宽侧面(2、3)上。此外，本发明还涉及一种具有基板支架(1)的CVD反应器。
技术研发人员：A.朱弗雷;D.E.里平顿;K.B.K.特奥;N.L.鲁普辛赫
受保护的技术使用者：艾克斯特朗欧洲公司
文档号码：201580015942
技术研发日：2015.03.18
技术公布日：2016.11.16