膜厚监视器和膜厚测量方法与流程

技术总结
本发明提供一种膜厚监视器和膜厚测量方法，其能够分别高精度地测量金属膜等比较硬的膜的膜厚和有机膜等比较软的膜的膜厚。本发明的膜厚测量方法根据设置在具有蒸镀源的成膜装置中的石英晶体谐振器的谐振频率变化来测量蒸镀膜的膜厚，其中，通过对上述石英晶体谐振器的谐振频率附近进行电扫描，来获取给出电导最大值的1/2的半峰频率F1、F2(F1
技术研发人员：伊藤敦
受保护的技术使用者：株式会社爱发科
技术研发日：2015.07.29
技术公布日：2019.01.29