本发明涉及一种金属铁合金技术领域，尤其涉及一种软磁电感的铁合金材料制造。
背景技术：
现我国每年消耗的铁合金，用于电工领域外，还有大约50的铁合金被用于管材或阀门等领域。这主要是因为铁的性能不活泼，防腐性能强的原因，但在这些领域中因为接触的水等液体及环境依然会对这类器材产生一定的腐蚀作用，我们经常能够发现在家中或其它地方的管材或阀门结有绿色的铁锈，这不仅影响美观也同样减少这些材质的使用寿命，但是这两种金属的电阻率高，对降低摩擦时出现的火花的作用有限。现在主要使用软磁铁硅铁合金粉芯生产软磁电感铁芯，其主要是因为较高的电阻率和在弱磁场中具有较高的磁导率、磁损耗低及能量储存能力高的优点，本发明很好的解决了现有的存在技术问题。
技术实现要素：
本发明提供了一种软磁电感的铁合金材料制造，但现有的铁合金材料具有较高的磁导率、磁损耗低及能量储存能力高的技术方法。
本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的。
本发明的一种软磁电感的铁合金材料制造，其各组成按重量百分比分别为：锡：0.06-1.17%、镍：2.15-2.58%、锆：0.15-0.53%、铋：2.12-3.15%、铁：1.28-1.89%，锌：0.25-0.45%、钒：2.15-3.27%、铌：1.02-2.15%，其余为铁及不可避免的杂质。
作为优选：所述的铌、锆和锡是采用铌锆锡铁合金来炼制的，其中铁在铌锆锡铁合金中的重量百分比为3:1:2.1:2.9。
本发明的一种软磁电感的铁合金材料制造，其包括以下步骤：1）将上述配料在熔炼炉中熔炼，其中铋是以铋铁合金方式最先在熔炼炉中熔炼后再加入其它组成；2）进行恒温浇铸，在降温过程中以20-30度匀速降温成铁合金锭；3）从而使低熔点共晶相的量最少，进一步提高合金的断裂韧度，在达到熔点后维持温度1.5-2小时后挤出；4）将铁合金在淬火炉内保温2.5-3小时进行恒温挤压，挤压速度在5米/分钟；5）在第一次热处理过程中，产品在150-230℃的温度处理5-15小时；6）第二次是在第一次热处理之后，对产品以15-20℃小时匀速升温到380-455℃的温度维持12-20小时；7）并采用强风冷却至300℃再水冷，空冷速度不超过2.2℃/分钟，配料进行熔制后进行浇铸。
具体实施方式
为了便于本领域普通技术人员理解和实施本发明，并对本发明的技术方案作进一步的具体说明。
实施例1：本例的一种软磁电感的铁合金材料制造，其各组成按重量百分比分别为：锡：0.06-1.17%、镍：2.15-2.58%、锆：0.15-0.53%、铋：2.12-3.15%、铁：1.28-1.89%，锌：0.25-0.45%、钒：2.15-3.27%、铌：1.02-2.15%，其余为铁及不可避免的杂质，所述的铌、锆和锡是采用铌锆锡铁合金来炼制的，其中铁在铌锆锡铁合金中的重量百分比为3:1:2.1:2.9。
本发明的一种软磁电感的铁合金材料制造，其包括以下步骤：1）将上述配料在熔炼炉中熔炼，其中铋是以铋铁合金方式最先在熔炼炉中熔炼后再加入其它组成；2）进行恒温浇铸，在降温过程中以20-30度匀速降温成铁合金锭；3）从而使低熔点共晶相的量最少，进一步提高合金的断裂韧度，在达到熔点后维持温度1.5-2小时后挤出；4）将铁合金在淬火炉内保温2.5-3小时进行恒温挤压，挤压速度在5米/分钟；5）在第一次热处理过程中，产品在150-230℃的温度处理5-15小时；6）第二次是在第一次热处理之后，对产品以15-20℃小时匀速升温到380-455℃的温度维持12-20小时；7）并采用强风冷却至300℃再水冷，空冷速度不超过2.2℃/分钟，配料进行熔制后进行浇铸。
实施例2：本例的一种软磁电感的铁合金材料制造，其各组成按重量百分比分别为：锡：1.17%、镍：2.58%、锆：0.53%、铋：3.15%、铁：1.89%，锌：0.45%、钒：3.27%、铌：2.15%，其余为铁及不可避免的杂质，所述的铌、锆和锡是采用铌锆锡铁合金来炼制的，其中铁在铌锆锡铁合金中的重量百分比为3:1:2.1:2.9。
实施例3：本例的一种软磁电感的铁合金材料制造，其各组成按重量百分比分别为：锡：0.06%、镍：2.15%、锆：0.15%、铋：2.12%、铁：1.28%，锌：0.25%、钒：2.15%、铌：1.02%，其余为铁及不可避免的杂质，所述的铌、锆和锡是采用铌锆锡铁合金来炼制的，其中铁在铌锆锡铁合金中的重量百分比为3:1:2.1:2.9。
实施例4：本例的一种软磁电感的铁合金材料制造，其各组成按重量百分比分别为：锡：0.07%、镍：2.38%、锆：0.17%、铋：2.85%、铁：1.59%，锌：0.35%、钒：2.97%、铌：2.05%，其余为铁及不可避免的杂质，所述的铌、锆和锡是采用铌锆锡铁合金来炼制的，其中铁在铌锆锡铁合金中的重量百分比为3:1:2.1:2.9。
以上所述仅为本发明的具体实施例，但本发明的结构特征并不局限于此，任何本领域的技术人员在本发明的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本发明的专利范围之中。