1.一种分子铜，其特征在于，包括涉水铜、以及覆盖在所述涉水铜表表面的高分子层，所述高分子层由高分子材料制成，且所述高分子材料的杨氏模量≥2200Mpa；重量吸水率≤0.1％每24小时；水汽渗透率≤2.0g.mil/100in2.d，环境条件为37℃/90RH。
2.如权利要求1所述的分子铜，其特征在于，所述高分子材料为派瑞林、环氧树脂、有机硅树脂、聚丙烯酸酯中的至少一种。
3.如权利要求1所述的分子铜，其特征在于，所述高分子层的厚度为10-50μm。
4.一种在涉水金属表面覆膜的方法，包括以下步骤：
提供涉水铜和派瑞林，对所述涉水铜进行表面清洁处理；
将所述涉水铜进行装架；
将装架后的涉水铜置于沉积室，将所述派瑞林置于蒸发室，先对整体系统进行抽真空处理，使真空度≤40Pa，然后对所述蒸发室、裂解室和所述沉积室进行加热处理，使所述派瑞林升华后裂解成单体、交联聚合在所述涉水铜表面，形成高分子层，其中，所述蒸发室的加热温度为100～300℃，所述裂解室的加热温度为500～850℃，所述沉积室的加热温度≤50℃。
5.如权利要求4所述的在涉水金属表面覆膜的方法，其特征在于，所述表面清洁处理的方法为：将所述涉水铜置于容器中，加入溶剂类金属表面清洗剂进行浸泡处理，浸泡时间为30～40min；取出后用清水冲刷，然后进行干燥处理，所述干燥处理的温度为60～80℃。
6.如权利要求4所述的在涉水金属表面覆膜的方法，其特征在于，所述装架采用平放装架方式，且用于装架的托盘为镂空网格状托盘。
7.如权利要求4所述的在涉水金属表面覆膜的方法，其特征在于，所述沉积的时间为28～36h。
8.如权利要求4-7任一所述的在涉水金属表面覆膜的方法，其特征在于，所述高分子层的厚度为10-50μm。
9.如权利要求4-7任一所述的在涉水金属表面覆膜的方法，其特征在于，还包括沉积结束后，关闭所有加热设备，通过冷阱收集尾气，冷阱的温度为-90～-135℃，待反应仪器冷却至室温，从所述蒸发室充入空气，取出样品，清理仪器。
10.如权利要求4-9任一所述的在涉水金属表面覆膜的方法，其特征在于，所述涉水铜采用铜以外的涉水金属代替。