技术总结
本发明一种具有高硬度和高减摩性能的纳米涂层，在基体上通过多靶磁控溅射方式交替溅射沉积形成CrAlN纳米层和WS2纳米层，靠近基体为CrAlN纳米层，最外侧的一层为WS2纳米层，CrAlN/WS2纳米多层涂层的总厚度2.0‑4.5μm，每一CrAlN纳米层厚度5.0nm，每一WS2纳米层厚度0.4‑1.2nm。还提供了上述纳米涂层的制备方法，将清洗后的基体置入多靶磁控溅射仪中，在氩、氮混合气氛中交替停留在CrAl合金靶和WS2靶之前，通过调整CrAl靶和WS2靶的功率和沉积时间以控制每一涂层的厚度，最终得CrAlN/WS2纳米多层涂层，本发明的方法具有工艺简单、沉积速度快、成本低、生产效率高等优点。
技术研发人员：李伟;刘京京;刘平;张柯;马凤仓;刘新宽;陈小红;何代华
受保护的技术使用者：上海理工大学
文档号码：201610979551
技术研发日：2016.11.08
技术公布日：2017.03.22