溅射靶材的制作方法

文档序号:12699111阅读:来源:国知局
技术总结
本发明提供一种溅射靶材,其能够抑制在溅射靶材的机械加工时、焊接工序中的翻转作业等处理中的裂纹的产生。一种溅射靶材,其为相对于金属成分整体,含有20原子%~50原子%的Sn、50原子%~80原子%的Zn的氧化物烧结体,在每1050μm2中,具有超过2.0μm的圆当量直径的孔隙不足1个,优选相对密度的平均值为98.5%以上,更优选其的距平均值的离散度为0.3%以下。

技术研发人员:玉田悠;齐藤和也;上坂修治郎;熊谷友正
受保护的技术使用者:日立金属株式会社
文档号码:201611127906
技术研发日:2016.12.09
技术公布日:2017.06.20

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