1.一种用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺，其特征在于，包括有如下步骤：对镀膜室抽气、加热，使镀膜真空度达到高温镀膜要求，之后在镀膜室内对手机盖板镀制ITO膜和SIO2膜，以令手机盖板上一次成膜。
2.如权利要求1所述的用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺，其特征在于，还包括清洗步骤：在镀膜之前，线对手机盖板进行超声波清洗。
3.如权利要求2所述的用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺，其特征在于，所述清洗步骤之后还包括：将清洗干净的手机盖板移至净化间，以确认清洗效果。
4.如权利要求1所述的用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺，其特征在于，镀制ITO膜和SIO2膜时，先将手机盖板挂片，之后镀制膜层。
5.如权利要求1所述的用于加工手机盖板镀膜的一次成膜工艺，其特征在于，还包括有检测步骤：对镀膜后的手机盖板外观、形状检测，之后装箱。
6.一种由权利要求1至5任一项所述工艺加工的手机盖板，其特征在于，包括有玻璃基材(1)，所述玻璃基材(1)上镀制有SIO2膜层(2)，所述SIO2膜层(2)上镀制有ITO膜层(3)。
7.如权利要求6所述的手机盖板，其特征在于，所述玻璃基材(1)与SIO2膜层(2)之间夹设有油墨(4)。
8.如权利要求7所述的手机盖板，其特征在于，所述油墨(4)沿玻璃基材(1)的边缘分布。