1.一种制造具有大钻石单晶的化学机械研磨垫修整器之方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供一暂时基座，该暂时基座包含一具有一平面的刚性模板以及一设置于该刚性模板的该平面上的黏着层；
将复数大钻石研磨颗粒布植于该黏着层，令该大钻石研磨颗粒具有的一研磨端插入该黏着层而抵触该平面，该大钻石研磨颗粒具有一不小于300微米的粒径；以及
移除该刚性模板，并透过一高分子结合剂与一研磨基座结合而得到一修整工具。
2.如权利要求1所述的制造具有大钻石单晶的化学机械研磨垫修整器之方法，其特征在于，利用一具有复数个定位孔洞的网板将该大钻石研磨颗粒布植于该黏着层。
3.如权利要求1所述的制造具有大钻石单晶的化学机械研磨垫修整器之方法，其特征在于，该大钻石研磨颗粒的粒径不小于500微米。
4.如权利要求3所述的制造具有大钻石单晶的化学机械研磨垫修整器之方法，其特征在于，该大钻石研磨颗粒的粒径介于500微米至800微米之间。
5.如权利要求1所述的制造具有大钻石单晶的化学机械研磨垫修整器之方法，其特征在于，该黏着层的材质为一压克力胶。
6.如权利要求1所述的制造具有大钻石单晶的化学机械研磨垫修整器之方法，其特征在于，该高分子结合剂的材质为一环氧树脂。
7.如权利要求1所述的制造具有大钻石单晶的化学机械研磨垫修整器之方法，其特征在于，该刚性模板的材质为选自钢、镍、铬、钛、铜、铝、花岗石、玻璃及压克力所组成的群组。