技术特征：
技术总结
本发明提供一种半导体生产设备及半导体工艺方法。本发明的半导体生产设备包括反应腔室、气体供给系统、第一排气系统及第二排气系统。反应腔室包括进气口和排气口；气体供给系统包括第一气体源、第二气体源、第一供气管路及第二供气管路，用于向反应腔室内通入第一类反应气体和第二类反应气体；其中，第一类反应气体与第二类反应气体会发生反应；第一排气系统包括第一排气管路和第一泵，用于排放残留的第一类反应气体；第二排气系统包括第二排气管路和第二泵，用于排放残留的第二类反应气体。使用本发明的半导体生产设备能减少设备的保养周期、有效提高设备的使用寿命从而降低生产成本。使用本发明的半导体工艺方法能有效提高生产效率。
技术研发人员：不公告发明人
受保护的技术使用者：长鑫存储技术有限公司
技术研发日：2017.11.01
技术公布日：2019.05.14