地坪研磨机及操作地坪研磨机的方法与流程

本公开内容涉及地坪研磨机，特别是涉及一种适于研磨石头或类石头材料(比如石灰岩、砂岩、大理石、板岩、花岗岩、混凝土或水磨石)的地坪的地坪研磨机。

背景技术：

地坪研磨机是已知的并且用于抛光或研磨地坪表面，或者目的是产生平坦和/或有光泽的地坪表面，或者目的是翻新此类由于例如磨损而劣化的或已经损坏的表面。

用于这种类型的研磨的地坪研磨机典型地包括机架，该机架承载可操作性地连接至研磨头的马达。

在特定类别的地坪研磨机中，这种研磨头可以是可相对于机架旋转的。研磨头可以承载多个研磨盘，每个研磨盘均可以是可相对于研磨头旋转的。这种研磨头典型地被称为行星式研磨头。

这些地坪研磨机通常配备有呈粘结磨料形式的研磨元件，即包括磨料颗粒和基质材料的三维体形式的磨料，基质材料可以是聚合物材料或金属材料。作为另一种选择，机器可以配备有切割元件，这些切割元件适于例如从地坪表面去除胶、涂料、漆或其他表面处理物。

机器典型地可以由其研磨头支撑，并且通常还由一对轮子支撑，这对轮子可以被布置在研磨头的后面，如在机器的正向上看到的那样。可选地，机器还可以由一个或多个进一步的轮子支撑，这些轮子可以用于控制研磨头施加在地坪上的压力。

这对轮子是可以驱动的。可选地，这些轮子可以是可单独驱动的，使得可以控制机器的行进方向。

地坪研磨机可以包括给水装置。地坪研磨机还可以包括喷水装置，该喷水装置用于把要研磨或抛光的表面弄湿和/或冷却研磨头。

在wo03076131a1中公开了这种类型的已知机器的一个实例。

研磨石头或类石头材料(比如石灰岩、砂岩、大理石、板岩、花岗岩、混凝土或水磨石)的地坪会产生研磨残留物，比如灰尘、颗粒以及小部分地坪材料。尤其是在使用水研磨时，一些残留物、尤其是那些非常小的颗粒形式的残留物可能附着至研磨机、尤其是附着在围合住研磨头的研磨头罩的内侧。具体地，残留物可能累积以基本上形成混凝土块或水泥块。此类残留物的存在还可能对散热、研磨盘的旋转产生负面影响，并且因此可能降低机器的研磨效率。另外，它可能增加机器的重量，从而影响其平衡。

因此，清洁机器将至关重要。然而，在已经形成大块残留物的情况下，这种清洁可能是困难的。存在的风险是清洁过程可能涉及使用锤子和凿子，这可能损坏机器。

因此，需要一种更容易清洁的地坪研磨机。

因此，仍然需要一种改进的地坪研磨机，该地坪研磨机可以至少部分地减轻至少一些上述缺点。

技术实现要素：

本公开内容的目的是提供一种用于研磨石头或类石头材料的地坪表面的改进的地坪研磨机。

具体目的是提供一种更容易清洁的地坪研磨机。

本发明由所附独立权利要求限定，其中，在所附从属权利要求中、以下描述中和附图中阐述了实施例。

根据第一方面，提供了一种用于研磨石头或类石头材料的地坪表面的地坪研磨机，该机器包括：机架；研磨头，该研磨头由该机架支撑并可相对于该机架旋转；研磨头罩，该研磨头罩限定该研磨头可在其中旋转的空间；弹性构件；以及加压流体源，该加压流体源可操作性地连接至该弹性构件，以供应所述加压流体，从而在供应所述流体时，该弹性构件或该弹性构件的一部分可弹性移动或扩张。

随着时间的推移，积聚的研磨残留物可以牢固地附着在罩的内侧，这是难以清洁的。因此，需要经常清洁以去除这些残留物。然而，在例如不拆卸分开罩和壳体的情况下，难以去除研磨头壳体与罩之间的残留物。

通过使罩内部的中空构件扩张，可以容易地去除附着到中空构件上和/或中空构件附近的积聚的研磨残留物。因此，这种地坪研磨机易于清洁。并且经常清洁也更省力。

石头或类石头材料的努普(knoop)硬度可以大于130、优选地大于135或140。因此，该材料可以包括比如石灰岩、砂岩、大理石、板岩、花岗岩、混凝土或水磨石。

流体可以是比如水等液体、或比如空气等气体。例如，水通常用于把表面弄湿和/或用于冷却研磨头和/或研磨机。作为另一种选择，流体可以是气溶胶。

作为一种选择，弹性构件可以被布置在该空间的内部。

作为另一种选择，弹性构件可以被布置在该空间的外部。

弹性构件可以是中空的，加压流体源可以可操作性地连接以将加压流体供应至弹性构件的内部，并且在供应所述流体时，弹性构件可以弹性地扩张。

中空构件可以包括管状主体。

通过占据有限的空间，管状主体可以被布置在罩的内部。因此，具有中空构件的地坪研磨机仍然可以紧凑构造。

中空构件可以被布置在罩的壁上或者形成该壁的一部分。

例如，弹性构件可以形成罩的面向内的(朝向空间)壁的一部分。

中空构件或中空构件的一部分可以例如形成罩的面向内的衬里。作为另一种选择，罩或罩的一部分可以由弹性材料制成，因此罩可以形成中空构件的至少一部分。

中空构件可以沿着罩的内表面布置。有利的是，沿着罩的内表面积聚的研磨残留物可以通过中空构件的扩张有效地去除。

中空构件的范围可以达到罩的内圆周的至少40％、优选地至少50％、至少60％、至少70％或至少80％。

中空构件可以是可扩张的，以便在供应所述流体时提供在至少一个方向上的至少1％、优选地至少2％、至少5％或至少10％的尺寸变化。

中空构件的尺寸变化可以提供易于去除附着到中空构件上和/或中空构件附近的研磨残留物(比如混凝土块或水泥块)的力。

中空构件可以被布置在罩的上部水平部分与罩的向下延伸的边缘部分之间的过渡部分处。

在不将研磨头壳体从罩上拆卸的情况下，可能难以触及罩的上部水平部分与向下延伸的边缘部分之间的过渡部分。因此，难以及时去除积聚在该过渡部分处的研磨残留物。然而，布置在过渡部分处的中空构件可以在不拆卸机器的情况下去除过渡部分的残留物，这是方便的。

中空构件可以包括至少一个孔，以允许流体逸出。

此类孔的尺寸可以被设置成适于提供流动的限制，使得可以保留中空构件内部的一部分压力，同时允许一些流体逸出。

除了中空构件的扩张之外，来自孔的流体还可以用于清洁罩的内侧和壳体的外侧。另外，流体还可以用于将正被研磨和/或抛光的表面弄湿，和/或用于降低研磨头的温度。

当中空构件处于正常环境压力时，孔可以是基本上关闭的，而当通过从中空构件的内部供应所述流体而加压时，孔被打开。

“基本上关闭”是指从孔逸出的流体是流过中空构件的包括孔的部分的流体的至多10％、优选地至多5％、至多3％、或至多1％。

“正常环境压力”是指大气压，例如正常大气压。

多个孔沿着罩的圆周方向布置在中空构件上。

通过沿着罩的圆周方向布置孔，从多个孔逸出的流体可以冲洗罩内侧的不同部分。因此，可以去除更多残留物并且可以实现更好的清洁效果。

孔可以是狭缝。例如，孔可以被形成为形成中空构件的壁中的贯通切口，使得孔在正常情况下关闭而仅在对中空构件加压时才打开。此类狭缝制造容易且成本低。

该狭缝可以沿着中空构件的纵向方向延伸。

替代性地，该狭缝可以沿着与中空构件的纵向方向不平行的方向延伸。

例如，狭缝可以横向于中空构件的纵向方向延伸，或者与纵向方向成任何角度(比如0°-90°)延伸。

地坪研磨机可以进一步包括喷嘴，该喷嘴可操作性地连接至中空构件以接纳所述流体并喷射所述流体。

喷嘴和中空构件可以共用同一流体源，这简化了地坪研磨机的构造。另外，如果仅需要一个机载水箱，则可以减轻机器的重量。

喷嘴可以被布置在研磨头罩的外部，使得喷嘴可以沿朝向地坪表面的方向喷射。

弹性构件可以包括封盖，该封盖朝向其关闭孔的位置偏置，并且其中，弹性构件可以是可移动的，以在供应所述加压流体时允许流体流过该孔。

地坪研磨机可以进一步包括中空构件，该中空构件的内部可以连接至加压流体供应源，由此该孔被布置在该中空构件的壁中。

根据第二方面，提供了一种操作用于研磨石头或类石头材料的地坪表面的地坪研磨机的方法，该方法包括：在地坪研磨机的研磨头上设置弹性构件，以及将加压流体施加到弹性构件上，使得弹性构件移动或变形，从而释放积聚在弹性构件上或弹性构件附近的研磨残留物。

通过设置弹性构件，可以在不拆卸罩的情况下容易地清洁积聚在罩的内部或罩上的研磨残留物。进一步地，可以经常清洁残留物，使得可以减轻由残留物引起的负面影响。

弹性构件可以是中空可扩张构件，并且施加加压流体可以包括使弹性构件扩张。

该方法可以进一步包括穿过弹性构件的至少一个孔供给流体，使得允许流体从弹性构件中排出。

弹性构件可以包括中空构件的封盖，并且可以将加压流体施加到中空构件的内部，使得封盖背离中空构件的孔移动，从而允许流体从中空构件中排出。

弹性构件可以被布置在围合住研磨头的罩的内部。

附图说明

图1是地坪研磨机的从后面看到的示意性立体图，其中可以应用根据本公开内容的概念。

图2是研磨头的示意性立体图，其中流体供应到研磨头罩内部的空间中。

图3是中空构件的管状主体的示意图。

图4a-4b示意性地展示了具有封盖的中空构件。

具体实施方式

图1示意性地展示了地坪研磨机100。研磨机100包括机架101，该机架支撑研磨头1和马达102。研磨头1由马达102驱动旋转。

研磨头1可以包括研磨头罩2，该研磨头罩可以被布置成用于围合住研磨头壳体5。研磨头壳体5可以在罩2内部是可旋转的。

罩2可以容纳研磨残留物，这些研磨残留物可以通过例如将进一步描述的收集装置来容易地收集。

因此，机器100可以进一步包括用于收集比如灰尘、水等研磨残留物的收集装置。收集装置可以包括罩连接器，使得由罩围成的空间与集尘器和可选的通道(比如软管或管道104)处于流体连接。通向比如真空吸尘器等集尘器的软管104可以直接连接至罩连接器或通道。

机器100可以进一步包括从机架101的上后部分延伸的手柄框架105。手柄框架105可以支撑供使用者抓握和/或操纵机器100的手柄106，并且可选地支撑用户界面107。

用户界面107可以包括用于显示信息的、比如显示器等输出装置，该输出装置可以是触摸屏。用户界面可以进一步包括供用户控制机器100的一个或多个输入装置，比如触摸屏、按钮、旋钮和/或键盘。

机器100可以由轮子支撑，比如由一对同轴轮子108。轮子可以提供部分支撑，研磨头1提供额外的或甚至大部分支撑。

轮子可以是可自由旋转的，由此可以通过使用者推动和/或拉动来完全驱使机器100。

作为另一种选择，轮子可以由一个或多个马达驱动。例如，轮子可以是可单独驱动的，从而可以能够通过例如无线电控制来操纵机器100。

机器100可以包括控制单元，该控制单元包含用于控制机器100和/或反馈信息的功能，比如设定旋转盘的速度、以及报告研磨盘的温度。

本文所展示的研磨头1形成为行星式研磨头，即研磨头壳体5可相对于机架101旋转，并且进而承载两个或更多个研磨盘，每个研磨盘均可相对于研磨头壳体5旋转。

研磨头罩2可以限定研磨壳体5可在其中旋转的空间。

机器100包括：中空弹性构件4，该中空弹性构件被布置在该空间中；以及加压流体源50，该加压流体源可操作性地连接至中空构件4以供应所述加压流体6。在供应所述流体6时，中空构件4可弹性地扩张。在以下描述中，流体将被描述为通常使用的水。然而，可以使用其他类型的流体，包括液体和气体。

加压流体源50可以通过连接至充分加压的水源来设置。在替代方案中，加压流体源50可以由机载水箱提供，该水箱可以通过泵来供水。作为另一种替代方案，可以由机载泵补充与外部水源的连接。

中空构件4可以是可扩张的，以便提供尺寸变化。尺寸变化可以是在至少一个方向上。在供应所述流体6时，在所述方向上的尺寸变化可以是至少5％。变化可以是至少10％、至少20％或至少30％。

当供应的加压流体的压力降低时，中空构件4的变化可以减小。在停止供应加压流体6时，该变化可以减小。

中空构件4可以由可扩张的材料制成，比如聚合物或树脂。中空构件4可以由柔性材料制成，比如橡胶。

中空构件4可以包括管状主体，如图2和图3所展示的。如图2所示，管状主体可以沿着罩2的内表面布置。

中空构件4可以被布置在罩2的上部水平部分2a与罩2的向下延伸的边缘部分2b之间的过渡部分处。

中空构件4的范围可以达到罩2的内圆周的至少40％、优选地至少50％、至少60％、至少70％或至少80％。

多个中空构件4可以被布置在该空间中。每个中空构件可以由加压流体源50单独供应。此类多个中空构件4可以在空间中彼此间隔开。中空构件可以沿着罩2的内圆周布置。替代性地，这些中空构件4中的至少两个可以彼此重叠。

中空构件4可以包括至少一个孔3，以允许流体6逸出。

当中空构件4处于正常环境压力时，孔3可以是基本上关闭的。当通过从中空构件4的内部供应所述流体6而加压时，孔3可以被打开。

孔3可以设置有盖子。盖子可以被布置成用于阻挡孔以将中空构件4的内部与外部隔离。通过从中空构件4的内部供应所述流体6，盖子可以被加压而打开。多个孔3可以沿着罩2的圆周方向布置在中空构件4上。

孔3可以是狭缝。狭缝可以沿着中空构件4的纵向方向延伸。在供应流体时，这种狭缝可以打开小于2mm、优选地小于1mm或小于0.5mm。

机器100可以包括喷嘴7，该喷嘴可操作性地连接至中空构件4以接纳所述流体6并喷射所述流体。

喷嘴7可以被布置在罩2的外部，使得喷嘴7沿基本上平行于机器100的向前移动方向的方向喷射。

参照图4a，公开了一种中空构件30，该中空构件可以由柔性材料形成，由此中空构件的一部分提供孔32的封盖部分31。因此，封盖部分31与中空构件30成一体。

封盖31可以朝向关闭位置(即封盖部分31有效地关闭孔32的位置)偏置。

当将加压流体供应至中空构件30时，例如如上所述，流体压力将使封盖部分31移动并且因此打开孔，使得流体可以逸出。

因此，封盖部分31的移动可以使积聚在中空构件30上或中空构件附近的研磨残留物破裂且变得更容易释放，同时可以将流体供应至例如罩2的内部。

图4b公开了另一种中空构件40，该中空构件可以由有效刚性材料(比如金属)形成，其中，封盖构件41被设置为单独的零件，该封盖构件可以附接至中空构件40，使得其朝向中空构件偏置，并且当中空构件被加压时，该封盖构件可弹性地移动，使得允许流体穿过孔42逸出，类似于参照图4a所公开的内容。

应当认识到，如上所述，本装置可以被布置在罩2的内侧，以便将流体供应至罩2的内侧，或者布置在罩2的外侧，由此将流体供应在罩2的外侧。

可以向地坪表面、向罩2的壁或向研磨头1供应流体。