本发明涉及非导磁面抛光技术领域，尤其涉及一种非导磁平面抛光装置。
背景技术：
平面抛光是指将平面工件进行超精密加工，祛除工件表面的划痕，斑点，塌边现象，使工件表面光亮，平滑，成镜面效果，平面的抛光是工业中常见而重要的加工方法，平光抛光的好坏直接影响工件的表面质量、平整度以及工件性能。目前平面的抛光方法主要分为两种，一是利用铣床抛光，二是采用手工抛光。铣床抛光平面质量的好坏主要取决于铣刀的不同，且抛光成本很高，在很多领域得不到很广泛的应用；手工抛光虽然能大幅度降低成本，但抛光的平整度得不到保证。
技术实现要素：
为了克服现有技术的不足，本发明提供一种非导磁平面抛光装置。成本低，既能保证平面的表面质量与平面度，又可高效完成对非导磁平面的加工。
为了达到上述目的，本发明采用以下技术方案实现：
一种非导磁平面抛光装置，包括上抛光体、下抛光体、支撑装置和测力计；上抛光体、下抛光体、支撑装置、测力计自上而下依次设置，测力计固定在铣床工作台上，支撑装置固定在测力计上，下抛光体安装在支撑装置上，上抛光体固定在铣床的转轴上；上抛光体与下抛光体通过磁耦合同轴同步旋转，测力计测量法向力与扭矩，进而调整工件与磁极距离及转速。
所述上抛光体包括上抛光基体、磁极、研磨粒；4个磁极按照顺时针n-s-n-s的排列方式圆周均布在抛光基体上，研磨粒用研磨液均匀搅拌后吸附在磁极上，上抛光基体与铣床主轴连接，铣床主轴带动上抛光基体旋转。
所述下抛光体包括下抛光基体、磁极、研磨粒、连接体；4个磁极按照顺时针s-n-s-n的排列方式圆周均布在抛光基体上，研磨粒用研磨液均匀搅拌后吸附在磁极上，下抛光基体通过轴承安装在连接体上，连接体固定在支撑装置上，下抛光基体可绕自身轴线旋转。
所述支撑装置包括u型支架、平板、支撑块；u型支架顶部设有与平板圆孔相应的圆柱销，用以固定平板；u型支架底部设有与测力计小圆柱销相应的小圆孔，用以固定在测力计上；u型支架上表面固定支撑块，支撑块设有与下抛光体的连接体安装孔相应的连接销，用以固定下抛光体的连接体。
所述u型支架采用透明材质制作。
所述平板采用耐磨导电性能好的金属材料制作。
所述测力计下表面固定在铣床工作台上，上表面通过小圆柱销固定在u型支架底部。
一种非导磁平面的抛光方法，具体包括如下步骤：
(1)将非导磁工件装夹在平板上，研磨粒吸附在4个磁极上，上抛光基体的4个磁极按照顺时针n-s-n-s排列，下抛光基体磁极排布方式与上抛光基体互补；
(2)调整磁极与工件的距离，磁极距工件表面1-2mm；
(3)将测力计固定在铣床工作台上，上抛光体连接在铣床主轴上，调整好转速并启动铣床，上下抛光体通过磁耦合同步旋转；
(4)4对互补磁极的磁力将研磨粒子按照磁力线方向形成具有抛光作用的“磁力刷”，通过“磁力刷”的刮擦、翻滚作用完成对整个工件的抛光；通过测力计测量抛光时“磁力刷”作用在工件上的法向力与扭矩。
与现有方法相比，本发明的有益效果是：
(1)本发明适用于非导磁平面，可对利用磁研磨法无法进行抛光的非导磁平面进行有效地处理；
(2)本发明只需加研磨粒等原料，调整好工件与磁极的距离，启动铣床便进行抛光加工，成本低、效率高；
(3)4对互补磁极的磁力将磨粒子按照磁力线方向形成具有抛光作用的“磁力刷”，通过“磁力刷”的刮擦、翻滚作用完成对整个工件的抛光；保证了工件的表面质量与平面度。
附图说明
图1是本发明的结构示意主视图；
图2是本发明立体结构示意图；
图3是本发明上抛光体立体结构示意图；
图4是本发明下抛光体立体结构示意图；
图5是本发明平板安装立体结构示意图；
图6是本发明支撑装置立体结构示意图；
图7是本发明测力计立体结构示意图；
图8是本发明抛光原理示意图。
图中：1-下抛光体2-支撑块3-测力计4-上抛光体5-磁极6-研磨粒7-上抛光基体8-下抛光基体9-连接体10-圆柱销11-小圆孔12-连接销13-平板14-小圆柱销15-u型支架16-支撑装置17-工件
具体实施方式
下面对本发明的具体实施方式作进一步说明，但不用来限制本发明的范围：
如图1-2所示，一种非导磁平面抛光装置，由抛光部分、辅助支撑部分以及测量部分组成。
上抛光体4和下抛光体1为抛光部分。如图3所示，上抛光体4包括上抛光基体7、磁极5、研磨粒6。抛光基体7由圆台与转轴组成，4个磁极5按照顺时针n-s-n-s的排列方式圆周均布在抛光基体7的圆台上，研磨粒6用研磨液均匀搅拌后吸附在磁极5上，上抛光基体7的转轴与铣床主轴连接，铣床主轴带动上抛光基体7以及磁极5旋转。
如图4所示，下抛光体包括下抛光基体8、磁极5、研磨粒6、连接体9；抛光基体7由圆台与转轴组成，4个磁极5按照顺时针s-n-s-n的排列方式圆周均布在下抛光基体8的圆台上，研磨粒6用研磨液均匀搅拌后吸附在磁极5上，下抛光基体8的转轴通过轴承安装在连接体9上，连接体9固定在支撑装置16上，下抛光基体8可绕自身轴线旋转。
如图5、图6所示，支撑装置16是辅助支撑部分，支撑装置16包括u型支架15、平板13、支撑块2。u型支架15采用玻璃材料制作，平板13为铜板。u型支架15顶部设有与平板13圆孔相应的圆柱销10，用以固定平板13。u型支架底部设有与测力计3小圆柱销14相应的小圆孔11，用以固定在测力计3上。u型支架15上表面固定支撑块2，支撑块2设有与下抛光体的连接体9安装孔相应的连接销，用以固定下抛光体的连接体9。
图6所示，测力计3选用柱型压力计，型号为sgzf，量程为0-2kn,采用5位段式lcd显示，内部采用delta-sigma算法，具有2个可编程开关输出，测力计3主要用于测量抛光时产生的法向力。测力计3下表面固定在铣床工作台上，上表面通过小圆柱销14固定在u型支架15底部。
如图8所示，本发明的抛光方法包括如下步骤：
(1)将非导磁工件17装夹在铜板上，研磨粒6吸附在4个磁极5上，上抛光基体7的四个磁极5按照顺时针n-s-n-s排列，下抛光基体7磁极5排布方式与上抛光基体7互补。
(2)调整磁极5与工件17的距离，磁极5距工件17表面1mm；
(3)将测力计3固定在铣床工作台上，上抛光体4连接在铣床主轴上，调整好转速并启动铣床，上下抛光体4通过磁耦合同步旋转；
(4)4对互补磁极5的磁力将磨粒子按照磁力线方向形成具有抛光作用的“磁力刷”，通过“磁力刷”的刮擦、翻滚作用完成对整个工件17的抛光；通过测力计3测量抛光时“磁力刷”作用在工件上的法向力与扭矩。
本发明适用于非导磁平面，可对利用磁研磨法无法进行抛光的非导磁平面进行有效地处理。本发明只需加研磨粒等原料，调整好工件17与磁极5的距离，启动铣床便进行抛光加工，成本低、效率高。4对互补磁极的磁力将研磨粒子按照磁力线方向形成具有抛光作用的“磁力刷”，通过“磁力刷”的刮擦、翻滚作用完成对整个工件的抛光，保证了工件的表面质量与平面度。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。