本实用新型涉及抛光皮设计技术领域，具体涉及一种抛光刷。
背景技术：
传统的抛光刷主要功能在于完成粗加工，即完成第一步的初步抛光，第二步就需要转换抛光工具，因为第二步是对第一步产品的精抛光，是对一些细痕进行打磨，形成镜面效果，但是来回的切换抛光工具，使得抛光的工作量大，工作效率低。
技术实现要素：
为全面解决上述问题，尤其是针对现有技术所存在的不足，本实用新型提供了一种抛光刷能够全面解决上述问题。
为实现上述目的，本实用新型采用以下技术手段：
一种抛光刷，包括：基材层，所述基材层的下端设置有植绒层，所述植绒层与基材层连接，所述基材层的上端设置有抛光层，所述抛光层与基材层连接，所述抛光层包括打磨区和精抛区，所述打磨区与精抛区以AB式依次交替地均匀分布于抛光层上，所述打磨区由多组直立分布的抛光齿组成，所述抛光齿由基布及聚氨酯混合层组成，所述基布由氧化铈抛光体组成，所述精抛区由与精抛区同样大小的海绵组成。
进一步的，所述基材层、植绒层、抛光层为圆环状多层结构，中间设有圆形穿透孔。
进一步的，所述打磨区与精抛区为扇形结构或者圆环结构。
进一步的，所述海绵为聚氨酯海绵发泡体。
本实用新型有益效果是：本实用新型中的抛光齿由氧化铈及聚氨酯的混合成型，使得抛光齿使用寿命长，结构简单，抛光效果显著，保障产品抛光的良率是传统抛光刷的十倍以上，同时，由抛光齿组成的打磨区和由海绵组成的精抛区结合到一个抛光层面后，使得整个抛光过程只需要一个步骤，并且无需转换抛光工具，一步到位，从而减少了抛光的工作量，提高了抛光的工作效率。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是本实用新型实施例一的结构示意图；
图3是本实用新型实施例二的结构示意图；
图4是本实用新型的部分结构示意图一；
图5是本实用新型的部分结构示意图二。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步说明，其中相同的零部件用相同的附图标记表示。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
实施例1
如图1、图2、图4和图5所示，本实用新型提供一种抛光刷，包括：基材层1，所述基材层1的下端设置有植绒层2，所述植绒层2与基材层1连接，所述基材层1的上端设置有抛光层4，所述抛光层4与基材层1连接，所述基材层1、植绒层2、抛光层4为圆环状多层结构，中间设有圆形穿透孔3，所述抛光层4包括打磨区41和精抛区42，所述打磨区41与精抛区42为扇形结构，所述打磨区41与精抛区42沿圆周方向以AB式依次交替地分布于抛光层4上，所述打磨区41由多组直立分布的抛光齿43组成，所述抛光齿43由基布及聚氨酯混合层组成，所述基布由氧化铈抛光体组成，所述精抛区42由与精抛区同样大小的海绵44组成，所述海绵44为聚氨酯海绵发泡体。
实施例2
如图1、图3、图4和图5所示，本实用新型提供一种抛光刷，包括：基材层1，所述基材层1的下端设置有植绒层2，所述植绒层2与基材层1连接，所述基材层1的上端设置有抛光层4，所述抛光层4与基材层1连接，所述基材层1、植绒层2、抛光层4为圆环状多层结构，中间设有圆形穿透孔3，所述抛光层4包括打磨区41和精抛区42，所述打磨区41与精抛区42为圆环结构，所述打磨区41与精抛区42由外向内以AB式依次交替地分布于抛光层4上，所述打磨区41由多组直立分布的抛光齿43组成，所述抛光齿43由基布及聚氨酯混合层组成，所述基布由氧化铈抛光体组成，所述精抛区42由与精抛区同样大小的海绵44组成，所述海绵44为聚氨酯海绵发泡体
具体工作原理，本实用新型中的抛光齿43由氧化铈及聚氨酯的混合成型，使得抛光齿43使用寿命长，结构简单，抛光效果显著，保障产品抛光的良率是传统抛光刷的十倍以上，同时，由抛光齿43组成的打磨区41和由海绵44组成的精抛区42结合到一个抛光层面后，使得整个抛光过程只需要一个步骤，并且无需转换抛光工具，一步到位，从而减少了抛光的工作量，提高了抛光的工作效率。
上述具体实施方式仅仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举，而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型的保护范围中。