一种自动循环抛光设备的制作方法

文档序号:17027291发布日期:2019-03-02 03:15阅读:242来源:国知局
一种自动循环抛光设备的制作方法

本实用新型涉及打磨领域,尤其涉及一种自动循环抛光设备。



背景技术:

研究晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩石等的内部结构都需要对样品进行抛光制样。此外,样品的表面加工状态、色彩值的测试等,都需要对氧化锆陶瓷进行表面抛光处理。由于许多样品本身硬度高、强度大、耐磨损,所以很难对其表面进行抛光,在对经济性、实用性、可行性等做综合考量后,对公司原有小型抛光机进行升级改造,以使其能够高效、低成本的抛光样品,同时提高其加工质量。

在此之前,只能使用有限设备对其进行初步加工,效率低下、费时费力、加工质量低,严重影响评估的准确性,不利于评估样品和进行实验。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,适应现实需要,提供一种自动循环抛光设备。

为了实现本实用新型的目的,本实用新型采用的技术方案为:一种自动循环抛光设备,包括抛光机主体、与抛光机主体连接的储浆桶,所述抛光机主体上端设置有研磨盘,所述研磨盘通过电机带动转动,所述研磨盘上设置有载物盘,所述载物盘一侧设置有限位装置,所述载物盘底部设置有物料;所述抛光机主体一侧设置有研磨液入口和研磨液出口,所述研磨液入口和所述研磨液出口分别通过管道与储浆桶连通,所述研磨盘上端设置研磨液加液管,所述研磨液加液管与研磨液入口连通。

所述抛光机主体上端设置有研磨液导流槽,所述研磨液导流槽与研磨液出口连通,所述研磨盘设置在所述研磨液导流槽内。

所述限位装置包括第一限位块和与之交叉设置的第二限位块,所述第一限位块一端部与研磨液导流槽上端固定,所述第二限位块包括直线段部分和圆弧段部分,所述直线段部分沿其走向设置有固定槽,所述固定槽内设置有限位螺栓,所述第一限位块和第二限位块通过限位螺栓固定连接,所述第一限位块与第二限位块圆弧段部分形成限位槽,所述载物盘设置限位槽内。

所述第一限位块和第二限位块与所述载物盘接触端设置有滚轮。

所述抛光机主体研磨液入口与储浆桶连接的管道上设置有气动隔膜泵7。

所述抛光机主体一侧设置有调速器和显示器。

所述研磨盘上端设置有渔网纹状的凹槽。

本实用新型的有益效果在于:

结构、配置简单,可充分利用现有装置或仅购置少量装置即可。设计合理,明显提高抛光效率,从而提高对样品评估的准确度,提高实验效率。

附图说明

下面结合附图和实施案例对本实用新型做进一步的说明。

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为图1中抛光机主体俯视图;

图3为本实用新型的抛光机主体上端的立体图。

其中,1抛光机主体,2铸铁研磨盘,3不锈钢摇摆支架,4载物盘,5调速器,6显示屏,7气动隔膜泵,8储浆桶,9研磨液导管,10接口,11研磨液导流槽。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:

参见图1-3。

本实用新型公开了一种自动循环抛光设备,包括抛光机主体1、与抛光机主体1连接的储浆桶8,所述抛光机主体1上端设置有研磨盘2,所述研磨盘2通过电机带动转动,所述研磨盘2上设置有载物盘4,所述载物盘4一侧设置有限位装置3,所述载物盘4底部设置有物料;所述抛光机主体1一侧设置有研磨液入口10和研磨液出口9,所述研磨液入口10和所述研磨液出口9分别通过管道与储浆桶8连通,所述研磨盘2上端设置研磨液加液管12,所述研磨液加液管12与研磨液入口10连通。

所述抛光机主体1上端设置有研磨液导流槽11,所述研磨液导流槽11与研磨液出口9连通,所述研磨盘2设置在所述研磨液导流槽11内。

所述限位装置3包括第一限位块301和与之交叉设置的第二限位块302,所述第一限位块301一端部与研磨液导流槽11上端固定,所述第二限位块302包括直线段部分3021和圆弧段3022部分,所述直线段部分3021沿其走向设置有固定槽3023,所述固定槽3023内设置有限位螺栓,所述第一限位块301和第二限位块302通过限位螺栓固定连接,所述第一限位块301与第二限位块302圆弧段部分3022形成限位槽,所述载物盘4设置限位槽内。

所述第一限位块301和第二限位块302与所述载物盘4接触端设置有滚轮303。

所述抛光机主体1研磨液入口10与储浆桶8连接的管道上设置有气动隔膜泵7。

所述抛光机主体一侧设置有调速器5和显示器6。

所述研磨盘2上端设置有渔网纹状的凹槽。

本实用新型的使用原理简述如下:

首先将载物盘4取出,在载物盘4底部放置物料,在将放置物料的面放置在研磨盘2上,调节限位装置3,将载物盘4根据实际研磨速度需求设置在离圆心距离不同的位置,开启装置,研磨盘2转动,载物盘4在限位装置的作用下与研磨盘2相对运动。

通过气动隔膜泵7输送抛光液到研磨液加液管12中,慢慢加入到研磨盘2上,而多余的研磨液有流入研磨液导流槽11内,流回储浆桶8,从而使得研磨介质在样块和研磨盘之间对样块磨削,从而达到抛光样品以及循环利用研磨液的目的。

以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换或直接或间接运用在相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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