一种凹型基体的表面处理装置的制作方法

本发明涉及表面处理领域。更具体地，涉及一种凹型基体的表面装置。

背景技术：

表面处理即是通过物理或化学的方法在材料表面形成一层具有某种或多种特殊性质的表层。通过表面处理可以提升产品外观、质感、功能等多个方面的性能，表面处理包括镀膜、改性、清洗等。其中，许多工业产品的表面都镀有功能薄膜以改善产品表面的各种性能。镀膜方法主要包括离子镀膜法、溅射镀、真空蒸发法等。

由于理想的镀膜应该是均匀的，并且具有尽可能薄的厚度和尽可能小的颗粒尺寸，这对于待镀膜工件的外侧表面容易实现。但对于凹型基体上的内凹表面进行镀膜时，则不易达到镀膜的均匀性。目前，通常将待镀膜工件固定在转动机构上，使内凹表面的侧面与靶粒子入射方向呈一定夹角，通过转动机构带动工件旋转，使得内凹表面的侧面全部会与靶粒子之间具有一定夹角，从而对凹型基体的内凹表面镀膜。

但是该方法存在以下问题：

1)镀膜或离子束处理等工艺一般均需对基体进行加热，由于基体的自转，导致加热源无法与基体接触，仅能通过热辐射进行加热，耗能大；

2)若想实现多个基体的镀膜工艺，需要每个基体都自转，转动机构复杂，对设备的真空性有能影响，可靠性下降。

因此，需要提供一种镀膜装置，以克服现有技术中存在的缺陷。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种适用于凹型基体的内凹表面进行表面处理的装置，该装置能够同时对多个工件的内凹表面进行表面处理，并且还可使加热源与工件接触，提高加热效率。

根据本发明的一个方面，提供了一种凹型基体的表面处理装置，包括：承载待加工工件的工件盘；

用于支撑所述工件盘、并使所述工件盘倾斜的支撑部件，所述支撑部件一端与所述工件盘的中心活动连接；以及

驱动所述支撑部件围绕所述工件盘中心轴旋转的驱动部件。

优选地，所述支撑部件包括一端与所述工件盘的中心活动连接的固定杆，以及一端与所述工件盘的边缘滑动连接的活动杆，所述固定杆位于所述工件盘的中心竖向位置上，所述驱动部件驱动所述活动杆围绕所述固定杆旋转。

优选地，所述活动杆的高度比所述固定杆的高度高，以使所述工件盘倾斜设置。

优选地，所述固定杆的一端通过球头关节轴承与所述工件盘连接。

优选地，所述工件盘的边缘设有滑轨，所述活动杆的一端与所述滑轨滑动连接。

优选地，所述工件盘表面设有可对待加工工件加热的发热部件。

优选地，所述发热部件为加热丝。

优选地，所述驱动部件包括电机，所述电机的输出轴位于所述工件盘的中心竖向位置上，并且所述电机输出轴通过连接件与所述活动杆的另一端连接。

优选地，所述活动杆的另一端与所述连接件为可调连接，通过调节所述活动杆另一端的连接位置，可调节所述活动杆的高度，实现调节所述工件盘的倾斜角度。

优选地，所述活动杆的另一端与所述连接件为固定连接，所述活动杆设置为可伸缩结构，通过调节所述活动杆的伸缩量，实现调节所述工件盘的倾斜角度。

本发明的有益效果如下：

本发明一种凹型基体的表面处理装置通过支撑部件使工件盘倾斜设置，并通过支撑部件的旋转使工件的内凹表面均能够与粒子束(原子束/离子束/电子束)接触，从而实现对内凹表面的进行处理，包括镀膜、改性、清洗等。同时由于工件自身不旋转，便于发热部件对工件进行加热。本发明解决现有转动机构在镀制凹形基体的结构复杂，能耗高的问题，用简单的结构实现多个凹形基体同时进行表面处理的效果。

附图说明

下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。

图1示出本发明的结构示意图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本发明，下面结合优选实施例和附图对本发明做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本发明的保护范围。

在图1所示的本发明凹型基体的表面处理装置的一种实施方式中，需要对待加工工件4的内凹表面进行镀膜，在其它实施方式中，也可对工件的内凹表面进行清洗、改性等处理工艺。该装置包括固定杆1、活动杆2、工件盘3和驱动部件。工件盘3设置为圆盘形状，待镀膜工件4固定结合于工件盘3的上表面，本领域技术人员可根据工件盘3和工件4的大小，将多个工件4固定在工件盘3的表面上。固定杆1的一端通过球头关节轴承与工件盘3的中心活动连接，固定杆1对工件盘3起到支撑作用，同时，工件盘3与固定杆1的一端之间能够相对转动。工件盘3的边缘位置设置有滑轨31，活动杆2的一端与滑轨31滑动连接，并且活动杆2的高度比固定杆1的高度高，从而使得工件盘3倾斜。驱动部件可驱动活动杆2围绕固定杆1旋转，因此，活动杆2的一端可沿滑轨31滑动，使得工件盘3的边缘依次抬起和下落。

活动杆2与工件盘3之间为滑动连接，在活动杆2围绕固定杆1旋转时，工件盘3自身并不旋转，而仅是其边缘位置上下起伏。由于镀膜时的粒子束6方向为竖直向下，工件4为一凹型基体，需要对工件4的内凹表面进行镀膜，随着工件盘3边缘的起伏，粒子束6与内凹表面的相对两侧面之间依次具有一定的夹角，也就是粒子束能入射到内凹表面的各个位置，从而实现对多个工件4的内凹表面进行镀膜。

进一步地，驱动部件包括一电机，电机输出轴位于工件盘3的中心竖向位置上，并且电机输出轴通过连接件与活动杆2的另一端连接，通过电机输出轴的旋转带动活动杆2围绕工件盘3的中心旋转。本实施方式中活动杆2的另一端与连接件之间为可调连接，通过调节二者之间的连接位置，可调节活动杆2的有效支撑高度，从而实现调节工件盘3的倾斜角度。在另一实施方式中，活动杆2的另一端与连接件之间为固定连接，活动杆2为可伸缩结构，通过调节活动杆2的伸缩量，实现调节工件盘3的倾斜角度。通过调节工件盘3的倾斜角度可以调节粒子束6与工件内凹表面的接触角度，调节粒子束6与内凹表面的接触区域。

进一步地，工件盘3设置有发热部件5，发热部件5可对工件4进行加热。具体的，发热部件5可为一电阻式加热丝，该加热丝对工件盘3加热，工件盘3再将热量传导给工件4，实现对工件4的加热。发热部件5也可是加热膜，固定结合于工件盘3的表面，工件4与加热膜接触，从而加热膜直接对工件4进行加热。

显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定，对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。

技术特征：

技术总结
本发明公开一种凹型基体的表面处理装置，包括：承载待加工工件的工件盘；用于支撑所述工件盘、并使所述工件盘倾斜的支撑部件，所述支撑部件一端与所述工件盘的中心活动连接；以及驱动所述支撑部件围绕所述工件盘中心轴旋转的驱动部件。本发明通过支撑部件使工件盘倾斜设置，并通过支撑部件的旋转使工件的内凹表面均能够与粒子束(原子束/离子束/电子束)接触，从而实现对内凹表面的处理，包括镀膜、改性、清洗等。同时由于工件自身不旋转，便于发热部件对工件进行接触式加热。

技术研发人员：刘晋允;赵世柯;梁晓峰
受保护的技术使用者：中国电子科技集团公司第十二研究所
技术研发日：2019.05.20
技术公布日：2019.07.05