表构件的制造方法与流程

本发明涉及一种表构件的制造方法。本发明还涉及一种这样的表构件。最后，本发明还涉及一种包括这样的表构件的计时器。

背景技术：

已知用各种材料、特别是金属、金属合金和技术陶瓷生产表构件。根据所选择的一个或多个不同的精加工步骤，这种部件的可见表面可以呈现出多种不同的外观。因此，这种可见表面的表面状态允许实现特定的、期望的美感外观。这种可见表面可以相对于主表面呈现出浮雕，这些浮雕例如以凹槽的形式相对于该主表面凹入，或相反地相对于该主表面形成突出的浮雕。

表构件、特别是陶瓷制的表构件的现有的制造方法具有以下全部或部分缺点：

-它们包括用于形成精加工的表构件的表面状态的复杂步骤；

-在表构件呈现出浮雕、更特别是凹形浮雕的情况下，现有的方法对于在不同浮雕的不同表面上形成特定的不同的表面状态来说是难以适用或者是复杂的，例如需要掩蔽特定部件的步骤；

-在表构件包括凹形表面的情况下，现有的方法不允许在不同浮雕的不同表面上实现某些特定的表面状态结果。

本发明的总体目的是提出一种为了形成具有包括凹形浮雕的吸引人的美感外观的表构件的改进且简化的方案，并且该方案不包括现有技术的所有或一些缺点。

更具体地，本发明的目的是提出一种方案以用于形成表构件，其包括第一表面，呈现出的表面状态与从第一表面凹入地设置的第二表面的表面状态不同。

技术实现要素：

在这方面，本发明基于一种用于计时器的表构件的制造方法，其中该方法包括制造表构件的第一步骤，该表构件包括第一表面，其中设置有至少一个凹槽、即从第一表面凹入的表面，并且其中该方法包括用于制造表构件的第二精加工步骤，其导致第一表面的表面状态、特别是粗糙度、特别是通过参数ra和/或str测量的粗糙度和/或光泽度发生改变，而不导致至少一个凹槽或者该至少一个凹槽的仅仅一部分的表面状态发生改变。

至少一个凹槽包括相对于第一表面凹入的、在操作第二精加工步骤时不被覆盖的凹槽表面或第二表面，该凹槽表面保持第二精加工步骤结束时的表面状态相对于其在第二精加工步骤开始时的表面状态不变。

本发明还基于一种包括第一表面的表构件，在第一表面中设置有至少一个凹槽，其中第一表面的全部或部分表现出通过摩擦精加工(振动滚磨)和/或机械和化学抛光和/或滚光(滚筒磨光)和/或振动去毛刺(trovalising)(振动精加工)和/或喷砂和/或微珠喷射和/或湿喷所产生的第一表面状态，其不同于至少一个凹槽的至少一部分的第二表面状态、特别是粗糙度、特别是通过参数ra和/或str测量的粗糙度和/或光泽度。

最后，本发明还基于一种计时器、更特别是表，其中其包括前述表构件。

本发明更具体地由权利要求限定。

附图说明

在对通过与所附的附图有关的非详尽的实施例给出的特定实施方式的下文说明中详细描述了本发明的这些目的、表征特征和优点，在附图中：

图1a至图1c示意性示出了根据本发明的实施方式的表构件在厚度上的剖视图。

图2示意性示出了根据本发明的实施方式的第一变型的表构件在厚度上的剖视图。

图3示意性示出了根据本发明的实施方式的第二变型的表构件在厚度上的剖视图。

图4是根据本发明的实施方式制造的表构件的照片。

图5描绘了图4中表构件的粗糙度的原始线性轮廓。

图6是根据本发明的实施方式制造的另一个表构件的照片。

图7描绘了图6中表构件的粗糙度的原始线性轮廓。

具体实施方式

为了简化描述，相同的附图标记用于表示不同实施方式中的相同表征特征或等同表征特征。

本发明涉及一种表构件10，其具有任何化学组分，特别是由金属和/或金属合金和/或技术陶瓷制成。因此，这种构件例如可以由不锈钢、贵金属、钛、氧化铝、掺杂或未掺杂铝酸锶、稳定或未稳定氧化锆、有机-无机混合材料制成，或者总体而言可以由可用于制表领域的任何金属合金或任何技术陶瓷或任何复合材料制成。表述“技术陶瓷”用于表示基于氧化铝和/或氧化锆和/或稳定氧化锆和/或氮化物和/或碳化物和/或铝酸锶、特别是掺杂铝酸锶的致密材料。表述“致密”表示密度在所讨论的材料的理论密度的95％和100％之间的材料。表述“基于一定复合材料”表示材料包含按重量计至少50％的所述复合材料。为了简化描述，使用表达“陶瓷”来表示“技术陶瓷”。

表构件10可以是单件式的，或者可以包括彼此组装的不同部件的组合。因此，它可以具有单一化学性质，或者可以是多种化学性质的组合。因此，它可以包括相同的材料或多种不同的材料。它可以呈单色或多种颜色。

本发明还涉及任何类型的表构件。该表构件10可以是表框或表框镶块，但更一般而言可以是任何精加工元件，表壳、表盖、中间表壳、表盘、装饰板或表链的链节。该构件同样可以是机芯的构件，例如，日历日期盘。

本发明更具体地涉及一种呈现出由相对于表构件的主表面5的凹形表面限定的至少一个凹形浮雕的表构件10，这种凹形浮雕通常被称为凹槽。这里，主表面5被认为是表构件的具有最大面积的可见表面。

第二凹形表面20或凹槽20更具体地形成在表构件的第一表面1中，第一表面1构成主表面5的全部或部分。该凹形表面20被切入第一表面1中；边缘4形成第一表面1和凹形表面20之间的交界部。凹形表面20可以是平面或曲面。例如，它可以是截头锥形。此外，它可以是连续的或不连续的，也就是说，它可以由通过边缘连接的多个平面或曲面表面形成。因此，凹槽20可以采用任何形状。更特别地，它可以包括形成底部的至少一个第三表面2，其可以通过连接表面3连接至第一表面1。第三表面2和/或连接表面3可以是连续的或不连续的。

例如，第二凹形表面20或凹槽20可包括形成与第一表面1基本平行的底表面的第三表面2，其通过用作基本垂直于底部的连接表面3的一个或多个侧壁连接至第一表面，从而与平坦的底部形成凹坑，如图1a中的凹槽20所示。这种底部例如可以具有符号或字母数字字符特征，其被设置用于显示时间指示或由时间导出的指示或任何类型的标记。

作为变型，如图1b中的凹槽20所示，第二凹形表面20或凹槽20可以设置为曲面表面的形式，其包括形成u形的圆形截面。在该特定变型中，不能将底部与连接表面区分开。在这种变型中，认为第三表面2包括连接表面3。

作为变型，如图1c中的凹槽20所示，第二凹形表面20或凹槽20可以是包括v形截面的不连续的表面的形式。

作为变型(未在图中示出)，第二凹形表面20或凹槽20可以不包括底部。在这种情况下，凹槽20是通孔，也就是说，它从一侧到另一侧横穿表构件10。

本发明涉及这样的表构件的制造方法。该方法包括第一步骤，包括准备包含主表面5和其中设置有至少一个凹槽20的第一表面1的表构件10。

由于通过第一步骤产生的这种元件基本上呈现出表构件的最终形状和尺寸，因此即使它没有完全完成也已经可以被称为表构件。应该注意，该第一步骤是通过任何现有技术方法进行的已知方式实现的。

出于美观的原因，主表面5的一部分可以不经受根据本发明的处理，从而保持其初始的表面状态。在本发明中，第一表面1被认为是其中设置有至少一个凹槽并且在该方法的余下部分中涉及到的表面，也就是说其表面状态将被改变。更特别地，该表面状态以非限制性方式通过粗糙度、特别是通过标准化粗糙度参数ra和/或str和/或通过光泽度或通过颜色来表征，下文中基于多个例子进行详细描述。

例如，第一步骤可以包括制造包含凹槽的由陶瓷制成的表框镶块或金属装饰板。

本发明的构思涉及实施第二精加工/结束步骤，其能够最终确定表构件的表面状态，并且特别是能够容易地产生表构件的第一表面和第二表面之间的不同表面状态。为了实现这一点，本发明的第二步骤更具体地实施表构件10的精加工步骤，导致第一表面的表面状态发生改变，例如减小镜面反射，而不影响或在最低程度上影响至少一个凹槽(也就是说，至少一个凹形表面)，或者补充来说主表面被除去的部分(如果有的话)。

凹形表面20可以可选地在形成第一表面1和凹形表面20之间的交界部的边缘4的位置处受到第二精加工步骤的影响。考虑到穿过形成凹槽20的截面的两个末端的边缘4的两个点p1、p2并且垂直于该截面的截面平面p的平面p1，第二精加工步骤例如可以影响凹槽20或第二凹形表面20的包括在平面p1和平面p2之间的部分，平面p2平行于平面p1并且在所述凹槽内部的方向上与平面p1相距距离d，如图1a至1c所示。换言之，凹槽的表面状态可能会在严格低于凹槽的深度的距离d上被改变。深度在垂直于平面p1和p2的方向上测量。

优选地，距离d不超过80μm或50μm或20μm。当然，该距离可以为零。

形成底部的第三表面2(例如图1a中所示)不受第二精加工步骤的影响。然而，连接表面3(例如图1a或1c中所示)或形成与连接表面3合并的底部的第三表面2(例如图1b中所示)可以被第二精加工步骤在深度d上至少部分地改变。

最后，在所有情况下，第二凹形表面的至少一部分将在该第二精加工步骤期间保持不变的表面状态，如下文所述。

表述“精加工步骤”应理解为表示通过插入的介质对第一表面1的表面状态进行改变。这种精加工方法的显著特点在于能够在没有保护凹槽的任何掩模的情况下通过称为“自由的”介质和磨料实现这样的结果；磨料和待精加工的表面之间的接触是通过冲击而不是通过抛光那样的摩擦进行的。例如，该步骤包括磨料混合物通过冲击、例如通过在例如容器内进行振动、振荡或旋转运动产生的机械作用(摩擦精加工)。例如，以非穷举的方式，它还包括第一表面1的滚筒磨光和/或振动研磨和/或喷砂和/或微珠喷射和/或湿喷。

精加工步骤利用可通过介质携带的磨料。在摩擦精加工的情况下，介质的尺寸和/或几何形状限定为防止介质与凹槽的至少一个最深部分(即，设置在先前定义的平面p2下方的部分)完全接触，特别是防止与形成底部的第三表面2完全接触。介质可以具有多面体形式，更特别是金字塔形或球形。它们可以由玻璃、陶瓷、瓷、滑石、氧化铝或锆石(zrsio4)制成。在喷砂和/或微珠喷射和/或湿喷的情况下，它们是尺寸和/或几何形状限定为防止与凹槽的至少一部分、特别是与形成底部的第三表面2完全接触的磨料颗粒。

磨料混合物的组成可至少包含以下三种组分中的第一种：

-例如放置在容器中的介质(也称为载体或芯片)，其作用是将容器的运动传递到磨料混合物和待处理的表构件，从而产生允许在表构件上产生磨蚀效果的机械作用。介质的化学性质、几何形状和初始尺寸被选择为获得所需的结果。介质可以是有磨蚀作用的。同样，监测介质的老化和磨损，以使其保持在公差限度内；

-粉末或膏剂形式的磨料，其作用是放大摩擦和机械作用的效果，并因此放大磨蚀效果。用于喷砂和/或微珠喷射和/或湿喷的磨料颗粒被认为是磨蚀介质；

-液体(例如，含有或不含添加剂的水或油，或液体混合物)，其使混合物稀化并限制精加工操作期间的温度升高。这可以是可选的，例如在喷砂的情况下。

磨料混合物的组分包含呈现出以下表征特征的介质：

-不允许它们与凹槽或凹形表面的至少一部分进行接触并优选不允许与形成底部的第三表面2的整体进行接触的结构、特别是尺寸和几何形状。例如，介质具有适于可能在至少一个凹槽的顶部处与第一表面1和凹槽之间的交界部处的边缘4进行接触从而特别是不触及该凹槽的第三表面2的几何形状和尺寸；

-允许摩擦精加工而不会切掉凹槽的边缘的质量和化学组分；

-易受参数的影响从而允许介质在摩擦精加工过程中均匀磨损(更特别是不发生分解)的材料组分。为此目的，如前所述，介质例如可以更特别地由玻璃、陶瓷、瓷、滑石、氧化铝或锆石(zrsio4)制成。

用于计时器的表构件10的制造方法可以包括在上述两个步骤之间的中间步骤，其涉及到改变主表面5的并且可能还有第二凹形表面20的全部或一部分的表面状态，以便使镜面反射最大化。这种改变可以形成具有均匀且各向同性的表面形貌的表面。例如，该步骤可以对应于表面的抛光，以便使它们具有光泽。第二精加工步骤改变第一表面1的表面状态，以赋予其具有减小的镜面反射的均匀且各向同性的表面形貌。在这种情况下，该精加工步骤是使先前抛光的第一表面1粗糙化的步骤。这样的方法还可以制造包括无光泽的第一表面1和表面状态至少部分不变的第二凹形表面20的表构件10。更特别地，这样的方法可以制造能够包括无光泽的第一表面1和形成表面状态不变的底表面的第三表面2的表构件10。

因此，第二精加工步骤改变了主表面5的全部或一部分的表面状态，从而为第一表面1赋予均匀且各向同性的表面形貌，同时使其镜面反射减小或最小化。

制造表构件10的第一步骤之后可以是中间步骤，即，在至少一个凹槽或凹形表面、特别是第三表面2中以单层或多层涂层的形式沉积涂层的步骤，更特别是通过pvd(“物理气相沉积”)、cvd(“化学气相沉积”)、ald(“原子层沉积”)、lbl(“逐层沉积”)、喷墨、浸涂、刷涂、点胶机点涂、喷涂、喷雾或溶胶-凝胶法进行沉积的步骤。为此目的，例如首先在整个构件上进行沉积，然后例如在如上所述的中间步骤期间从第一表面1去除。这样的涂层可包括一种或多种金属和/或一种或多种氧化物和/或一种或多种氮化物和/或一种或多种碳化物和/或一种或多种含氮碳化物和/或一种或多种硫化物和/或一种或多种有机材料和/或一种或多种无机材料和/或一种或多种混合材料和/或颜料和/或漆和/或搪瓷和/或清漆和/或玻璃陶瓷和/或基于聚合物或基于粘合剂的材料的层。

图4是在第一表面1和凹槽的第三表面2之间的交界部的位置处拍摄的表构件10的照片，其对应于包括根据图1a的凹槽的例子，下文详细描述。

所述方法可以在第二精加工步骤之后包括补充步骤，例如金刚石切削步骤，以使主表面的一部分、特别是第一表面1、例如形成表框的部分有光泽。因此，第二精加工步骤不一定是制造方法的最终步骤。

作为仅包含单一类型凹槽的表构件10的第一例子的补充，如图1a至图1c所示，表构件10可包括至少一个具有任何其他几何形状的第二类型的凹槽和/或以一个在另一个中的方式或以其他方式交错的多个具有相同几何形状或其他几何形状的凹槽。它们的结构代表不同的实施方式。

图2以示例的方式示出了根据变型实施方式的表构件10。该表构件10包括平面的第一表面1，其中存在中空浮雕。该中空浮雕由凹槽20或由包括连接表面3的第二凹形表面20构成，连接表面3自身包括第二凹槽21或第四凹形表面21，其各自都包括形成底部的第五表面22。第一凹槽20具有v形形状，与图1c所示的例子中一样，并且插入第一凹槽20的连接表面中的第二凹槽21呈现出凹坑形形状，与图1a所示的例子中一样。在该变型实施方式中，第二精加工步骤被选择为仅改变第一表面1的表面状态：因此，该步骤不改变凹形表面20和21的表面状态。

作为变型，第二凹形表面20的包括在如前定义的平面p1和p2之间的部分的表面状态可以类似地受到第二精加工步骤的影响，而凹槽或第四凹形表面21不会受到影响。

图3以示例的方式示出了根据另一个特定的说明性实施方式的表构件10。该表构件10包括主表面5，在主表面5的不同区域存在两个凹槽20和20’，从而在两个凹槽之间形成可能不连续的第一表面1。第二凹槽20’比第一凹槽20宽，但更浅。在该变型实施方式中，凹槽20’可由介质接触。凹槽20、20’各自如上面参照图1c所定义的那样构造。因此，精加工步骤改变第一表面1和第二凹槽20’的表面状态而不影响第一凹槽20。

现在以非限制性方式基于多个例子说明本发明。

在第一说明性实施方式中，由陶瓷、更具体地由氧化钇稳定氧化锆(yttriatedzirconia)制成的表构件10是表框镶块。它具有截头锥形的主表面5，特别是截头锥形的第一表面1，第一表面1中的凹槽或凹形表面实现为凹坑的形式，其包括各自形成底部2的第三表面以及垂直或基本垂直的连接表面3，连接表面3确保第一表面1和各自形成底部的第三表面之间的连接。凹槽呈现出宽0.69±0.05mm和深0.15±0.05mm的矩形形状的截面。表框镶块与凹槽一起已经呈现出了其最终几何形状。

在制造方法的第一步骤之后，中间步骤包括以下子步骤：

·可选地，在整个表盘上进行喷砂和/或微珠喷射和/或湿喷；

·通过pvd在整个表盘上沉积金属涂层；

·抛光，其选择性地抑制第一表面1的涂层而不抑制凹槽的涂层，并且允许在第一表面1的位置处实现均匀且各向同性的表面形貌，从而使该第一表面1的镜面反射最大化。该抛光步骤对应于上述中间步骤。

然后，制造方法包括通过摩擦精加工进行的第二精加工步骤，其对应于第一表面1的粗糙化步骤。为此目的，所使用的设备是具有包括一升的碗的随体的离心机，待摩擦精加工的构件与以下物质一起松散地放置在碗中：

·750g介质(载体)(直径为5mm的玻璃球)；

·20g洗涤剂；

·20g磨料(大小在3和5μm之间的碳化硼粉末)；

·300g水。

将旋转调节至300转/分钟以进行不同的时长。

在该第一说明性实施方式中，对第二摩擦精加工步骤之前的第一表面1的表面状态(粗糙度r1)进行抛光，并对摩擦精加工步骤之前的形成凹槽的底部的第三表面2的表面状态(粗糙度r2)进行喷砂。在摩擦精加工步骤之后，第一表面1和形成凹槽的底部的第三表面2各自的粗糙度变为“r1’”和“r2’”。根据该第一说明性实施方式的这些粗糙度值总结在下表中，下表详细说明了以纳米表示的粗糙度值ra及它们的差异以及str以及用光泽计测量的以光泽度单位表示的光泽度和以cielab空间颜色表示的颜色。

还包括精加工之前的第一表面1的表征结果“1”、精加工之后的表面1的表征结果“1’”、精加工之前的第三表面2的表征结果“2”和精加工之后的第三表面2的表征结果“2’”。

应注意，参数s(sa，sdr，sq，......)取自标准iso25178并且未经过滤波。参数r(ra，rp，rz，......)取自标准iso4287，并用高斯滤波器滤波，其截止值设定为0.25mm。更具体而言，选择用于分析粗糙度的参数是：

1)对于颗粒表面：

a.参数ra(iso4287)表示粗糙度的平均高度(算术的)。

b.参数str(iso25178)表示表面的各向同性的程度。该参数的值介于0和1之间，接近0表示表面包括优选的方向，而接近1表示所有观察方向都相同。

2)对于平滑表面，仅使用参数ra，并且表示粗糙度的平均高度(算术的)。

由于它们的技术定义，这些参数在特定的测量条件下确定：

1)对于颗粒表面：

a.参数ra：需要利用最小垂直分辨率为2nm且横向分辨率为0.26μm的测量设备。所选标准iso4287的截止值(λc)为0.25mm，这意味着评估长度为大约1.4mm。对大于1000的多个轮廓进行测量。参数的传递的值对应于针对整体轮廓产生的平均值。

b.参数str：需要利用垂直分辨率最小为2nm且横向分辨率为0.26μm的测量设备。在具有相同行数和列数(>1000)的5个方形区域上进行测量。对测量结果进行多项式形式(大约4)的抑制以及阈值化(包括在0.5％和99.5％之间)。传递的值对应于5次测量结果的平均值。

2)对于平滑表面，参数ra的计算需要利用垂直分辨率最小为0.2nm且横向分辨率为0.26μm的测量设备。所选的标准iso4287的截止值(λc)为0.25mm，其涉及的评估长度为大约1.4mm。对大于1000的多个轮廓进行测量。所传递的参数的值对应于在整体轮廓上执行的平均值。

图4描绘了在第一表面和凹槽的第三表面2之间的交界部的位置处从上方观察所制造的表构件10的一部分的照片。从上方观察可以观察到第一表面1和第三表面2以及边缘4的位置。连接表面不可见。第一表面1是粗糙化陶瓷的形式，第三表面2是通过pvd涂层覆盖的喷砂陶瓷的形式。

图5示出了图4中示出的交界部位置处的线性粗糙度轮廓。其允许建立第三表面2或凹槽的底部与第一表面1之间的粗糙度差异。

在第二说明性实施方式中，由陶瓷、更具体由氧化钇稳定氧化锆制成的表构件10是装饰板。它具有平面的第一表面1，其中形成有凹坑形式的凹槽，该凹槽形成第一表面1的第二凹形表面，包括确保第一表面1和第三表面2之间的连接的垂直或基本垂直连接的表面，其各自形成底部。在第一步骤结束时对第一表面1和第三表面2进行抛光。然后应用类似于第一例子中描述的第二摩擦精加工步骤。

下表更详细地描述了以纳米表示的粗糙度ra的测量值及它们的差异以及用光泽计测量的以光泽度单位表示的光泽度和以cielab色彩空间表示的颜色。

借助于所述精加工方法产生的表面状态的变化可伴随颜色的变化。例如，黑色陶瓷可以变成深灰色，或者绿色陶瓷可以变成深绿色。

图6描绘了在第一表面1和凹槽的第三表面2之间的交界部的位置处观察的所制造的表构件10的一部分的照片。从上方观察允许观察到第一表面1和凹槽的第三表面2以及边缘4的位置。连接表面不可见。第一表面1是无光泽陶瓷的形式，第三表面2是抛光陶瓷的形式。

图7示出了在图6中示出的交界部位置处的线性粗糙度轮廓。其可以建立形成凹槽底部的抛光的第三表面2与无光泽的第一表面1之间的粗糙度差异。

最后，由此可以理解，本发明允许容易地获得不同的表面状态，该不同的表面状态是均匀终止的第一表面1和形成凹槽底部的抛光或粗糙的第三表面2。

本发明还涉及一种通过前述方法制造的表构件10。该表构件10例如可以是表框、表框镶块、精加工元件、表壳、表盖、中间表壳、表盘、表链的链节或装饰板。该构件同样可以是机芯的构件，例如日历日期盘。

因此，表构件10包括第一表面1，在该第一表面1中设置有至少一个凹槽，该至少一个凹槽形成从第一表面1凹入设置的至少一个第二表面。该至少一个第二表面例如包括形成凹槽的底表面的第三表面2以及位于第一表面1和第三表面2之间的连接表面。第一表面1呈现第一表面状态，该第一表面状态通过当介质和/或磨料在凹槽的方向上运动时不必保护凹槽的精加工产生，该第一表面状态不同于至少一个凹槽的至少一部分的第二表面状态。

表构件10可包括通过摩擦精加工均匀地粗糙化的第一表面1和凹槽的抛光或粗糙的表面。

此外，该构件可包括：

-具有相同或不同形状的多个凹槽；和/或

-具有不同表面状态的多个凹槽。

另外：

-构件的第一表面1可以是无光泽的，或者可以包括无光泽的区域和有光泽的区域；和/或

-凹槽的表面可包括涂层；和/或

-第一表面1的粗糙度可以低于凹槽的至少一部分的粗糙度，或者第一表面1的粗糙度可以大于凹槽的粗糙度；和/或

-第一表面1的粗糙度可以是均匀的且各向同性的，例如在100nm和10μm之间(粗糙度ra)，或者在100nm和800nm之间。

本发明还涉及一种这样的计时器，特别是一种表，更特别是一种手表。

当然，所提出的精加工工艺可以应用于粗糙或准备好的任何类型的初始表面状态。举例来说，这些表面状态可以是有方向性的，包括以下中的一种：

·缎光加工、刷涂，

·旋转式打圈纹，

·蜗形纹，

·不同种类的旋转式打圈纹：oeildeperdrix(鹧鸪眼图案)、点刻，......

·太阳纹加工。

另一方面，根据其他例子，这些表面状态可以是各向同性的类型。它们中一些提供了最大化的镜面反射(例如，抛光)或最小化的镜面反射，包括以下中的一种：

·微珠喷射，

·粒化，

·喷砂，

·喷丸。

例如，表框镶块是根据本发明的实施方式制造的表构件10。该表框镶块包括主表面5，例如是双色的，包括至少一个抛光区域6和至少一个粗糙化区域7。为了获得这样的结果，在第二摩擦精加工步骤期间可以用掩模(例如，由金属制成的刚性掩模)在区域6中保护抛光的表盘(在这种情况下，从抛光的表面状态开始粗糙化)。凹槽20围绕表框镶块的周边形成指示，例如圆形指示。这些凹槽具有涂层，该涂层使它们能够呈现预定的、清晰且易读的颜色。这些凹槽的表面状态是相同的，与它们在表框镶块的主表面5的至少一个无光泽的区域或至少一个有光泽的区域内的位置无关。

值得注意的是，在所有情况下，精加工步骤都是在有关表面中存在凹槽的情况下进行的，也就是说在精加工步骤处理的第一表面中存在凹形浮雕。因此，即使在凹槽中形成涂层的情况下，该涂层也具有低厚度并且不占据凹槽的整个高度，使得在所述表面中总是保留形成凹形浮雕的凹槽。该凹槽在精加工步骤开始之前存在，并且在该精加工步骤之后也存在。

因此，应该注意的是，该精加工步骤可能不能与抛光相比，抛光会消除多余的材料，以便形成表构件的连续表面而没有浮雕，并因此没有凹槽。事实上，在这种情况下，不仅最终构件与预期目标不同而不再具有凹槽，也就是说不再具有凹形浮雕，而且表面状态本身也是连续的，因为整个表面将会通过这种抛光以相同的方式不可避免地被处理。

在所有实施方式中，凹槽包括设置在第一表面上的凹形浮雕部分。凹槽表面或第二表面被理解为其定向在所述第一表面那一侧的顶表面。由于凹槽形成凹形浮雕，因此它被设置在比第一表面更低的高度处，并且至少在操作第二精加工步骤时不被任何其他材料覆盖、通向构件的外部。在这样的第二精加工步骤期间，至少一部分、优选较大深度的部分保持表面状态不变。

当然，可以组合先前描述的许多实施方式和变型。