一种研磨机构及研磨装置的制作方法

本发明涉及研磨设备技术领域，尤其涉及一种研磨机构及研磨装置。

背景技术：

现有技术的研磨机构在长期使用过程中会存在粉尘累积的现象，累积的粉尘在机构中将降低研磨机构的研磨精度，并使得研磨机构清洗效果下降且进一步降低研磨机构的研磨效率。此外，在现有研磨机构中，研磨盘在使用一段时间之后就容易出现折损，折损后的研磨盘的平面度误差较大，会出现研磨清洗不干胶甚至无法完成研磨的现象，只能进行研磨盘的更换完成研磨工作。而研磨盘又属于生产工艺复杂、生产周期长、生产成本高的产品，因此研磨机构的使用成本也因为研磨盘的经常性折损而大大提高。

因此，亟需一种具有高研磨精度、高研磨效率和低使用成本的研磨机构以满足用户需求。

技术实现要素：

本发明的目的在于提出一种研磨机构，该研磨机构能够避免研磨机构内部的粉尘积累，从而提高研磨过程中的研磨精度和研磨效率。该研磨机构能够降低研磨盘的生产成本，从而降低研磨机构的使用成本。

本发明的另一个目的在于提出一种具有所述研磨机构的研磨装置。

为实现上述技术效果，本发明的研磨机构的技术方案如下：

一种研磨机构，包括：吸附组件，所述吸附组件限定出真空腔体，所述吸附组件的一侧与真空气源密封相连；所述吸附组件的另一侧设有缓冲件，所述缓冲件上设有与所述真空腔体连通的第一气孔；研磨盘，所述研磨盘的一侧设有研磨面，所述研磨盘的另一侧与所述缓冲件配合设置。

在一些实施例中，所述缓冲件包括间隔设置的多个缓冲条，至少部分所述缓冲条上均设置有所述第一气孔。

在一些实施例中，所述吸附组件包括：真空件，所述真空件上设有第二气孔，所述第二气孔与所述真空气源的气管相连，所述真空件上设有与所述第二气孔连通的真空槽；吸附件，所述吸附件的一侧扣合在所述真空槽上并限定出所述真空腔体，所述吸附件的另一侧设有缓冲件，所述吸附件上设有与所述第一气孔对应的第三气孔，所述第三气孔与所述真空腔体连通。

在一些实施例中，所述真空件的底壁上设有支撑部，所述支撑部被配置为支撑所述吸附件，所述支撑部中形成有交错设置的支撑点，所述支撑部将所述真空腔体限定为多个小腔体，多个所述小腔体互相连通。

在一些实施例中，所述真空件远离所述吸附件的一侧设有导水槽。

在一些实施例中，所述研磨机构还包括：法兰盘，所述法兰盘设在所述吸附组件的下方，所述法兰盘被配置为与外部支架相连；调平组件，所述调平组件为多个，多个所述调平组件穿设在所述法兰盘上，多个所述调平组件均与所述吸附组件相连，多个所述调平组件被配置为调整吸附组件相对法兰盘的平面度。

在一些实施例中，每个所述调平组件均包括：调平件，所述调平件穿设在所述法兰盘上且所述调平件止抵在所述吸附组件上；第一锁紧件，所述第一锁紧件套设在所述调平件上，且所述第一锁紧件被配置为锁紧所述调平件；第二锁紧件，所述第二锁紧件穿设在所述调平件上，且所述第二锁紧件与所述吸附组件相连以锁紧所述吸附组件。

在一些实施例中，所述调平件为螺柱，所述第一锁紧件为螺母，所述第二锁紧件为螺钉，所述法兰盘上设有与所述螺柱配合的第一螺纹孔，所述吸附组件上设有与所述螺钉配合的第二螺纹孔，所述螺柱上设有配合通孔，所述螺钉配合在所述配合通孔内。

在一些实施例中，所述法兰盘的横截面为圆形，多个所述调平组件沿其周向方向均匀间隔分布。

一种研磨装置，包括前述的研磨机构。

本发明的有益效果为：

由于研磨机构包括真空吸附机构，使用真空吸附机构吸附研磨盘能够避免研磨机构内部的粉尘积累，从而提高研磨过程中的研磨精度和研磨效率。真空吸附机构的吸附组件上设有缓冲件，使得研磨机构的研磨盘仅包括研磨层，能够降低研磨盘的生产成本，从而降低研磨机构的使用成本。

由于研磨装置包括前述的研磨机构，保证了研磨装置内没有因研磨机构产生的粉尘累积，并且研磨盘仅包括研磨层，从而提高了研磨装置的研磨效率和研磨精度，降低了研磨装置的使用成本。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

图1是本发明具体实施方式提供的研磨机构的立体结构示意图；

图2是本发明具体实施方式提供的研磨机构去除法兰盘和调平组件后的立体机构示意图；

图3是本发明具体实施方式提供的缓冲件的立体结构示意图；

图4是本发明具体实施方式提供的吸附组件的立体结构分解示意图；

图5是本发明具体实施方式提供的研磨机构的内部结构示意图；

图6是图5中a处的局部放大示意图。

附图标记

1、吸附组件；11、真空件；111、第二气孔；112、真空槽；113、支撑部；114、导水槽；12、吸附件；121、第三气孔；13、第二螺纹孔；2、缓冲件；21、第一气孔；22、缓冲条；3、研磨盘；4、法兰盘；41、第一螺纹孔；5、调平组件；51、调平件；511、配合通孔；52、第一锁紧件；53、第二锁紧件。

具体实施方式

为使本发明解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。

在本发明的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”、“左”等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。

下面参考图1-图6描述本发明实施例的研磨机构的具体结构。

如图1-图6所示，本发明实施例的研磨机构包括吸附组件1、缓冲件2和研磨盘3。吸附组件1限定出真空腔体，吸附组件1的一侧与真空气源密封相连；吸附组件1的另一侧设有缓冲件2，缓冲件2上设有与真空腔体连通的第一气孔21。研磨盘3的一侧设有研磨面，研磨盘3的另一侧与缓冲件2配合设置。

可以理解的是，现有磁铁吸附研磨机构在使用时，磁铁的吸磁能力会吸附外界粉尘，并且外界粉尘随着研磨机构的使用时间而累积，进而影响研磨机构的运作，造成研磨效果和清洗效果的下降。本实施例中在吸附组件1中限定出真空腔体，吸附组件1的一侧与真空气源密封连接，在真空气源作用下吸附组件1的真空腔体中的空气能被抽离从而形成真空环境。由于吸附组件1上设有缓冲件2，缓冲件2的一侧还与研磨盘3配合，当吸附组件1中形成真空环境后，研磨盘3能在大气压作用下被吸附组件1吸附。研磨盘3的另一侧还设有研磨面，当研磨盘3被吸附组件1吸附后，整个研磨机构即可对产品进行研磨。因此，使用真空吸附研磨机构能够有效解决磁铁吸附研磨机构在长期使用过程中出现的研磨机构使用环境污染问题，提高研磨机构的洁净度，并进一步提高研磨机构的研磨效果。

同时，现有的研磨盘3一般由缓冲层、磁铁吸附层、研磨面组成，由于使用了真空吸附研磨机构，从而可以去除研磨盘3上的磁铁吸附层。此外，具有缓冲作用的缓冲层被替换为设置在吸附组件1上的缓冲件2，使得研磨盘3只需在一侧设置吸附面，另一侧设置研磨面即可完成研磨机构的研磨功能。包括缓冲层、研磨面和磁铁吸附层的研磨盘3生产工艺复杂、生产周期长、生产成本高，当研磨盘3其中一部分出现问题影响研磨机构的研磨功能时，只能进行研磨盘3的更换，因而现有的研磨盘3的使用寿命较短。因此，使用设有缓冲件2的真空吸附研磨机构和仅包括研磨层的研磨盘3能够降低研磨盘3的生产工艺、生产周期和生产成本，并且能提高研磨盘3的使用寿命，进而提高研磨机构的使用寿命。

需要补充说明的是，在现有技术的研磨机构中，研磨盘3中的缓冲层一般使用泡棉支撑，泡棉制作的缓冲层在使用一段时间后容易缩水变形，使得研磨盘3的平面度不合格，并导致研磨清洗不干胶甚至无法完成研磨功能。为此，本实施例的研磨机构中，吸附组件1上的缓冲件2将泡棉替换为聚氨酯、氟橡胶或丁腈橡胶等具有较强疏水性的防静电柔性材料，使用上述柔性材料能够有效避免缩水现象，从而提高研磨盘3的清洗效果，提高研磨机构的稳定性。此外，缓冲件2使用粘连胶与吸附组件1粘合，粘连胶具有防水密封、耐老化和环保等作用。当然，本发明并不对缓冲件2的具体材质进行限定，只要具有避免缩水现象的防静电柔性材质即可。

在一些实施例中，如图2、图3所示，缓冲件2包括间隔设置的多个缓冲条22，至少部分缓冲条22上均设置有第一气孔21。

可以理解的是，缓冲件2的作用是通过其缓冲作用防止研磨盘3接触产品进行研磨时出现硬碰硬的现象造成对产品或研磨盘3的损坏。此外，缓冲件2还能够补偿研磨盘3的研磨面的平面度的误差。研磨机构经过调平后，研磨盘3上研磨面的平面度仍然存在一定的误差，且该误差无法再通过调平消除。由于缓冲件2具有柔性，当研磨盘3吸附在吸附组件1上时，研磨盘3对缓冲件2造成的压力会使得缓冲件2产生一定平面形变，其平面形变量能够对研磨盘3的平面度起到误差补偿作用，从而提高了研磨机构的研磨效果和研磨精度，增强了研磨机构的稳定性。此外，由于第一气孔21与真空腔体连通，使得研磨盘3能够在大气压作用下吸附在吸附组件1上并完成研磨功能。

优选地，多个缓冲条22宽度均为10mm，并以5mm的间距间隔设置。当然，本实施例并不对缓冲条22的具体规格进行限定，可根据实际需求进行调整。

需要补充说明的是，缓冲件2还能够设置为覆盖在整个吸附机构的一侧上，并形成胶面形式的缓冲件2。当缓冲件2使用的材料相同且受到的外界压力相同时，胶面形式的缓冲件2产生的平面形变量小于包括缓冲条22的缓冲件2产生的平面形变量。缓冲件2的具体形式能够在实际应用过程中可根据所需补偿的误差进行调整。

在一些实施例中，如图4所示，吸附组件1包括真空件11和吸附件12。真空件11上设有第二气孔111，第二气孔111与真空气源的气管相连，真空件11上设有与第二气孔111连通的真空槽112。吸附件12的一侧扣合在真空槽112上并限定出真空腔体，吸附件12的另一侧设有缓冲件2，吸附件12上设有与第一气孔21对应的第三气孔121，第三气孔121与真空腔体连通。

可以理解的是，真空件11与吸附件12配合后即可形成吸附组件1中的真空腔体，且吸附件12上设有与第一气孔21配合的第三气孔121，真空腔体能够与第三气孔121连通并与第一气孔21连通。当真空腔体中形成真空环境时，研磨盘3即可在大气压作用下吸附在吸附组件1一侧的缓冲件2上。优选地，第一气孔21的孔径小于第三气孔121的孔径，能够使研磨盘3达到更好的吸附效果。

需要补充说明的是，真空件11和吸附件12均采用al7075材质并进行硬质氧化处理(hrc35±5)，使用该材质并使用硬质氧化处理后能够使得真空件11和吸附件12具有较高的强度，从而不易在长期使用过程中产生变形，避免了吸附组件1材质对研磨机构平面度产生误差。当然，本发明其他实施例中的真空件11和吸附件12也可以选用其他材质，能够减小其对研磨机构水平度产生误差即可。

在一些实施例中，如图4所示，真空件11的底壁上设有支撑部113，支撑部113被配置为支撑吸附件12，支撑部113中形成有交错设置的支撑点，支撑部113将真空腔体限定为多个小腔体，多个小腔体互相连通。

可以理解的是，在吸附组件1的长期使用过程中，吸附件12在外界大气压作用下会产生变形，吸附件12产生变形后将降低研磨盘3平面度的准确性，使得研磨机构的使用产生误差并影响到产品的研磨效果。为了避免上述现象造成的误差，在真空件11的底壁上设置支撑部113，支撑部113中形成有交错设置的支撑点，支撑部113能够将真空腔体限定为多个互相连通的小腔体，既能够防止气路断层并保证真空腔体中真空环境的形成，又能提高整个吸附组件1的结构强度，提高吸附组件1的使用寿命，减小吸附组件1造成的研磨盘3平面度误差。

在一些实施例中，如图1所示，真空件11远离吸附件12的一侧设有导水槽114。

可以理解的是，当研磨盘3的研磨面朝上进行研磨工作时，为了防止研磨用水进入研磨机构的外部驱动装置内，在真空件11远离吸附件12的一侧设置导水槽114。研磨用水在研磨盘3转动时会沿研磨机构的表面流入导水槽114，研磨用水流入导水槽114后即停止流动并在研磨盘3转动产生的离心力作用下被甩至外界，从而避免了研磨用水沿研磨机构流入研磨机构的外部驱动装置中，提高了研磨机构的使用安全性。

在一些实施例中，如图1-图6所示，研磨机构还包括法兰盘4和调平组件5。法兰盘4设在吸附组件1的下方，法兰盘4被配置为与外部支架相连。调平组件5为多个，多个调平组件5穿设在法兰盘4上，多个调平组件5均与吸附组件1相连，多个调平组件5被配置为调整吸附组件1相对法兰盘4的平面度。

可以理解的是，为了对研磨机构的平面度进行调整，需在研磨机构上设置调平组件5。具体地，研磨机构下方连接有法兰盘4，法兰盘4与外部支架相连，调平组件5穿设在法兰盘4中并与研磨机构中的吸附组件1相连，调平组件5设置为多个，多个调平组件5一起对研磨机构相对于法兰盘4的平面度进行调整。在研磨机构上设置调平组件5能够快速完成研磨机构的平面度调整，从而提高研磨机构的研磨精度和研磨效率。

在一些实施例中，如图5、图6所示，每个调平组件5均包括调平件51、第一锁紧件52和第二锁紧件53。调平件51穿设在法兰盘4上且调平件51止抵在吸附组件1上。第一锁紧件52套设在调平件51上，且第一锁紧件52被配置为锁紧调平件51。第二锁紧件53穿设在调平件51上，且第二锁紧件53与吸附组件1相连以锁紧吸附组件1。

可以理解的是，在调整研磨机构相对于法兰盘4的平面度时，调平组件5中的调平件51能够止抵在吸附组件1上，并且使得吸附组件1与法兰盘4之间具有不同的距离。调节调平件51的过程中，使用千分表对研磨盘3上研磨面的水平度进行校验，当研磨面上对应调平件51的位置的水平面误差在允许范围内时，使用套设在调平件51上的第一锁紧件52将调平件51锁紧。同时，为了防止吸附组件1与法兰盘4之间产生相对位移，使用穿设在调平件51中的第二锁紧件53与吸附组件1相连以锁紧吸附组件1，达到了保证研磨面上对应调平件51的位置的水平面误差在允许范围内的目的。当每个调平组件5将吸附组件1锁紧时，即可完成整个研磨机构的平面度调整。使用该调平组件5能够快速完成研磨机构的平面度调整，从而提高研磨盘3的使用效率。

在一些实施例中，调平件51为螺柱，第一锁紧件52为螺母，第二锁紧件53为螺钉，法兰盘4上设有与螺柱配合的第一螺纹孔41，吸附组件1上设有与螺钉配合的第二螺纹孔13，螺柱上设有配合通孔511，螺钉配合在配合通孔511内。

可以理解的是，为了提高调平件51、第一锁紧件52、第二锁紧件53、法兰盘4和吸附组件1之间的连接效果，上述连接关系中均使用螺纹连接。具体地，调平件51为螺柱，法兰盘4上设有与螺柱配合的第一螺纹孔41，螺柱与法兰盘4之间的螺纹配合使得螺柱在法兰盘4中难以产生相对位移；第一锁紧件52为螺母，螺母能够与调平件51螺纹配合并进一步将螺柱锁紧；吸附组件1上设有第二螺纹孔13，螺柱上设有螺纹通孔，螺钉穿设过配合通孔511并能够与第二螺纹孔13配合从而锁紧吸附组件1。上述螺纹连接关系能够提高调平组件5对研磨机构的调平效果，从而提高研磨机构的使用效率。

在一些实施例中，如图1所示，法兰盘4的横截面为圆形，多个调平组件5沿其周向方向均匀间隔分布。

可以理解的是，当研磨盘3沿圆周方向的水平度在误差范围内时，研磨盘3中其他位置的水平度也能够得到保证。为了对研磨盘3沿圆周方向的水平度进行调整，使用具有圆形横截面的法兰盘4，并且将多个调平组件5沿法兰盘4的周向方向均匀间隔分布。这样能够使用多个调平组件5快速完成研磨盘3的水平度调整，提高了研磨机构的使用效率。

实施例：

下面参考图1-图6描述本发明的一个具体的实施例的研磨机构。

如图1-图6所示，研磨机构包括吸附组件1、缓冲件2、研磨盘3、法兰盘4和调平组件5，吸附组件1包括真空件11和吸附件12，真空件11上设有与真空气源的气管相连的第二气孔111以及与第二气孔111连通的真空槽112。吸附件12的一侧扣合在真空槽112上限定出真空腔体，吸附件12的另一侧与缓冲件2相连，吸附件12上设有与真空腔体连通的第三气孔121。真空件11的底壁上还设有支撑部113，支撑部113形成有交错设置的用于支撑吸附件12的支撑点，支撑部113将真空腔体限定为互相连通的多个小腔体。真空件11远离吸附件12的一侧设有导水槽114。缓冲件2上包括多个缓冲条22，至少部分缓冲条22上均设置有与第三气孔121对应的第一气孔21。法兰盘4设在吸附组件1的下方，法兰盘4的横截面为圆形。调平组件5为多个，多个调平组件5均穿设在法兰盘4上且沿法兰盘4的周向方向均匀间隔分布，多个调平组件5均与吸附组件1相连，多个调平组件5能够调整吸附组件1相对法兰盘4的平面度。调平组件5包括调平件51、第一锁紧件52和第二锁紧件53。调平件51穿设在法兰盘4上且止抵在吸附组件1上，调平件51中设有配合通孔511；第一锁紧件52套设在调平件51上，第一锁紧件52能够锁紧调平件51；第二锁紧件53穿设在调平件51上，第二锁紧件53能与吸附组件1相连并锁紧吸附组件1。调平件51为螺柱，第一锁紧件52为螺母，第二锁紧件53为螺钉，法兰盘4上设有与螺柱配合的第一螺纹孔41，吸附组件1上设有与螺钉配合的第二螺纹孔13。

本发明实施例的研磨机构，真空吸附组件1能够吸附研磨盘3并避免研磨机构内部的粉尘积累，提高研磨机构的研磨精度和研磨效率。真空吸附组件1和研磨盘3之间的缓冲件2能够起到对研磨盘3的缓冲和调平作用。研磨盘3仅包括一层研磨层，能够降低研磨盘3的生产成本、提高研磨盘3的使用寿命，并降低研磨机构的使用成本。真空件11中的支撑部113能提高真空吸附组件1的使用寿命，减小研磨机构长期使用后的吸附件12产生变形，减小吸附组件1造成的研磨盘3的平面度误差。导水槽114能够提高研磨机构的使用安全性。穿设在法兰盘4中的多个调平组件5能够调整吸附组件1相对法兰盘4的平面度，并在调平完成后将吸附组件1锁紧，使得研磨机构能快速完成平面度调整，提高研磨机构的研磨精度和研磨效率。多个调平组件5沿法兰盘4横截面的周向方向均匀间隔分布能使调平组件5快速完成研磨机构的水平度调整，提高研磨机构的使用效率。

一种研磨装置，包括前述的研磨机构。本发明实施例的研磨装置包括研磨机构，研磨机构为前文的研磨机构，研磨装置通过研磨机构上的法兰盘4与研磨机构相连。

根据本发明实施例的研磨装置，由于具有前文所述的研磨机构，能够保证研磨装置内没有因研磨机构产生的粉尘累积，并且研磨盘3仅包括研磨层，从而提高了研磨装置的研磨效率和研磨精度，降低了研磨装置的使用成本。

在本说明书的描述中，参考术语“有些实施例”、“其他实施例”、等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上内容仅为本发明的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。