一种具有保护装置的立式砂轮机的制作方法

文档序号:19176627发布日期:2019-11-19 22:05阅读:169来源:国知局
一种具有保护装置的立式砂轮机的制作方法

本实用新型涉及打磨技术领域,尤其是涉及一种具有保护装置的立式砂轮机。



背景技术:

立式砂轮机是一种用来磨削各种金属刀具和工件的常用设备,主要由包括双轴电机、砂轮防护罩、砂轮、机座立柱等组成,双轴电机固定在机座立柱上,两个砂轮安装在双轴电机的两输出端,砂轮防护罩固定在机座立柱上,并罩于砂轮外。它具有转速高、结构简单、使用方便、适用面广、手工操作等特点。

但立式砂轮机在使用过程中存在以下不足之处:在两段打磨操作的间隙内,为了提高打磨效率,往往不关掉砂轮机,而此时存在操作者手部无意间触碰到飞速旋转的砂轮的情况,则最终操作者的手部将受到伤害,因此,在两段打磨操作之间这段时间内存在较高的危险性。



技术实现要素:

本实用新型的目的是提供一种具有保护装置的立式砂轮机,可降低两段打磨操作之间这段时间内的危险性。

本实用新型的上述实用新型目的是通过以下技术方案得以实现的:

一种具有保护装置的立式砂轮机,包括机座立柱、安装在机座立柱上端的双轴电机、两个砂轮,两个砂轮分别安装在双轴电机的两输出端上;所述机座立柱包括竖直部、横向部、连接部,横向部固定在竖直部上端,连接部设有两个且分别固定在横向部的两端,砂轮位于连接部远离横向部一侧;机座立柱下端固定有底板,底板上侧安装有竖向的轨道,砂轮外罩有防护罩,且防护罩上端开口设置,底板上侧设有用于驱动防护罩沿轨道升降的驱动组件,驱动组件包括固定于防护罩底部的磁吸件、固定于底板上侧的电磁铁、连接于防护罩与底板之间的弹性件,磁吸件位于电磁铁正上方;底板上侧安装有脚踏板,底板上设有用于根据脚踏板上侧是否有受到下压力从而控制电磁铁通断电的保护电路。

通过采用上述技术方案,操作者可脚踩脚踏板,则保护电路可控制电磁铁得电,并吸引防护罩下降,以露出砂轮,之后可进行打磨操作。完成该阶段的打磨操作后,操作者只需撤去对脚踏板的踩压力,防护罩就能在弹性件的作用下上升,并罩住砂轮,以防止操作者手部直接触碰到砂轮,起到保护作用。

本实用新型进一步设置为:所述防护罩底部连出有下料管,底板上侧安装有集尘箱,下料管下端连接有连接软管,连接软管下端连接进集尘箱的箱顶。

通过采用上述技术方案,集尘箱可将防护罩内的粉尘进行有效收集,以利于后期集中清理。

本实用新型进一步设置为:所述集尘箱内设有抽屉。

通过采用上述技术方案,抽屉可收集集尘箱内的粉尘,并可方便操作者取出粉尘。

本实用新型进一步设置为:所述防护罩内部的底侧呈倾斜设置以将防护罩内的粉尘导向至下料管的管口。

通过采用上述技术方案,以将防护罩内的粉尘导向至下料管的管口,降低防护罩内粉尘的残留量。

本实用新型进一步设置为:所述防护罩的一侧壁开有活动槽,活动槽连通出防护罩的上端口,连接部穿过活动槽,活动槽呈竖直设置的长条状;连接部的下侧壁与活动槽下端的槽壁之间连接有波纹橡胶部。

通过采用上述技术方案,在防护罩升降过程中,连接部可沿活动槽长度方向移动,而波纹橡胶部的设置可降低防护罩内的粉尘外泄的量。

本实用新型进一步设置为:所述脚踏板呈倾斜设置。

通过采用上述技术方案,降低脚踏板上侧有杂物堆积。

本实用新型进一步设置为:所述保护电路包括:

压力传感器,安装于脚踏板上侧,并用于检测脚踏板上侧所受到的压力值,并输出压力检测值;

比较单元,耦接于压力传感器的输出端,以接收压力检测值,并与比较单元的预设值进行比较,当压力检测值大于比较单元的预设值时,输出高电平的比较信号;

控制单元,耦接于比较单元的输出端,以接收比较信号,并控制电磁铁的通断电;当控制单元接收到高电平的比较信号时,控制电磁铁得电吸引磁吸件。

通过采用上述技术方案,当操作者脚踩脚踏板上侧时,压力传感器输出的压力检测值大于比较单元的预设值,并输出高电平的比较信号,而此时控制单元将控制电磁铁得电。

本实用新型进一步设置为:所述防护罩的上端口设有橡胶圈。

通过采用上述技术方案,当操作者的手部撞击到防护罩的上端口时,橡胶圈可降低操作者手部受伤的概率。

综上所述,本实用新型的有益技术效果为:

1.本方案中,驱动组件可带动防护罩升降,从而在操作者暂时不使用砂轮时,罩住砂轮,以降低操作者手部触碰到飞速旋转的砂轮的概率,最终降低两段打磨操作之间这段时间内的危险性;

2.本方案中,防护罩可收集掉落的粉尘,并通过下料管和连接软管,将粉尘导向进集尘箱内,便于集中清理。

附图说明

图1是本实施例的结构示意图。

图2是本实施例的截面示意图,示出机座立柱内部结构。

图3是本实施例的另一截面示意图,示出防护罩内部机构。

图4是保护电路图。

图5是本实施例的另一结构示意图。

图中,1、机座立柱;11、竖直部;12、横向部;13、连接部;14、双轴电机;15、砂轮;2、底板;21、脚踏板;22、集尘箱;23、连接软管;24、抽屉;3、轨道;31、滑杆;32、滑槽;33、防护罩;34、活动槽;35、波纹橡胶部;36、下料管;37、橡胶圈;4、驱动组件;41、磁吸件;42、电磁铁;43、弹性件;5、保护电路;51、压力传感器;52、比较单元;53、控制单元。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

参考图1和图2,为本实用新型公开的一种具有保护装置的立式砂轮机,包括机座立柱1、底板2,机座立柱1包括竖直部11、横向部12、连接部13,竖直部11固定在底板2上侧,横向部12固定在竖直部11上端,连接部13设有两个且分别固定在横向部12的两端。横向部12内安装有双轴电机14,双轴电机14的两根输出轴分别伸进两个连接部13内,并连接有一个砂轮15,砂轮15位于连接部13远离横向部12的一侧。

底板2上侧安装有两组轨道3,每组轨道3对应一个砂轮15,且每组轨道3包括四根竖直设置的滑杆31,滑杆31靠近砂轮15一侧开有竖直设置的滑槽32。砂轮15外部罩有一个防护罩33,防护罩33上端开口设置,底板2上侧设有驱动组件4,驱动组件4可用于驱动防护罩33沿轨道3升降,从而罩起砂轮15或露出砂轮15。防护罩33外周壁上固定有四块滑块(图中未示出),每块滑块对应滑动嵌于一条滑槽32内。

防护罩33的一侧壁开有活动槽34,活动槽34连通出防护罩33的上端口,连接部13穿过活动槽34,活动槽34呈竖直设置的长条状;则在防护罩33升降过程中,连接部13可沿活动槽34长度方向移动。连接部13的下侧壁与活动槽34下端的槽壁之间连接有波纹橡胶部35,波纹橡胶部35的设置可降低防护罩33内的粉尘外泄的量。

参考图3和图4,驱动组件4包括:固定于防护罩33底部的磁吸件41、固定于底板2上侧的电磁铁42、连接于防护罩33与底板2之间的弹性件43,弹性件43为弹簧,磁吸件41位于电磁铁42正上方。则当电磁铁42通电时,电磁铁42可吸引磁吸件41,并带动防护罩33下降,以露出砂轮15。底板2上侧安装有倾斜设置的脚踏板21,底板2上设有保护电路5,保护电路5用于根据脚踏板21上侧是否有受到下压力,从而控制电磁铁42通断电。

保护电路5包括:

压力传感器51,安装于脚踏板21上侧,并用于检测脚踏板21上侧所受到的压力值,并输出压力检测值;

比较单元52,耦接于压力传感器51的输出端,以接收压力检测值,并与比较单元52的预设值进行比较,当压力检测值大于比较单元52的预设值时,输出高电平的比较信号;

控制单元53,耦接于比较单元52的输出端,以接收比较信号,并控制电磁铁42的通断电;当控制单元53接收到高电平的比较信号时,控制电磁铁42得电吸引磁吸件41。

比较单元52包括:比较器a、电阻r1、电阻r2,比较器a的正向端耦接于压力传感器51的输出端,电阻r1串接于比较器a的反相端与直流电vcc之间,电阻r2串接于比较器a的反相端和地之间,电阻r2两端的电压值即为比较单元52的预设值。

控制单元53包括:电阻r3、电阻r4、三极管q1、续流二极管d1、继电器km1。

电阻r3的一端耦接于比较器a的输出端,电阻r3的另一端耦接于三极管q1的基极,电阻r4串接于三极管q1的基极与地之间,三极管q1的发射极接地,继电器km1具有线圈和常开触头,继电器km1的线圈串接于三极管q1的集电极和直流电vcc之间,继电器km1的常开触头串接于电磁铁42的供电回路中,续流二极管d1的阳极耦接于三极管q1的集电极,续流二极管d1的阴极耦接于直流电vcc。

参考图5,防护罩33底部连出有下料管36(见图3),底板2上侧安装有集尘箱22,下料管36下端连接有连接软管23,连接软管23下端连接进集尘箱22的箱顶,集尘箱22可将防护罩33内的粉尘进行有效收集,以利于后期集中清理。而且防护罩33内部的底侧呈倾斜设置(见图3),以将防护罩33内的粉尘导向至下料管36的管口(见图3)。集尘箱22内设有抽屉24,抽屉24可收集集尘箱22内的粉尘,并可方便操作者取出粉尘。

参考图1,防护罩33的上端口设有橡胶圈37,当操作者的手部撞击到防护罩33的上端口时,橡胶圈37可降低操作者手部受伤的概率。

本实施例的实施原理为:操作者可脚踩脚踏板21,则保护电路5可控制电磁铁42得电,并吸引防护罩33下降,以露出砂轮15,之后可进行打磨操作。完成该阶段的打磨操作后,操作者只需撤去对脚踏板21的踩压力,防护罩33就能在弹性件43的作用下上升,并罩住砂轮15,以防止操作者手部直接触碰到砂轮15,起到保护作用。

在打磨过程中,大部份粉尘将汇聚在防护罩33内,并通过下料管36和连接软管23进至抽屉24中,便于后期集中处理。

本具体实施方式的实施例均为本实用新型的较佳实施例,并非依此限制本实用新型的保护范围,故:凡依本实用新型的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本实用新型的保护范围之内。

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