一种铜钼金属蚀刻液及其制备方法和应用与流程

技术总结
本发明提供了一种铜钼金属蚀刻液及其制备方法和应用，所述铜钼金属蚀刻液以重量份数计包括过氧化氢8


技术研发人员：刘伟 杜冰 刘文永 张茂 邱柱 方磊 赵建龙 张兵 向文胜 朱坤 陆兰
受保护的技术使用者：江苏艾森半导体材料股份有限公司
技术研发日：2020.12.16
技术公布日：2021/4/17