1.一种化学气相沉积设备气体分配器结构，包括壳体（1），其特征在于：所述壳体（1）的顶部外侧设有固定环（2），所述固定环（2）的外壁周向设有四组固定耳板（3），所述固定环（2）的内壁开设有第一密封槽（4），所述壳体（1）的顶部内侧开设有第二密封槽（5），所述壳体（1）的内腔底部均匀开设有分配气孔（6）；
所述壳体（1）的内外壁上还包括依次设置的消音涂层（7）和耐腐蚀涂层（8），且所述消音涂层（7）为消音涂料喷涂制成，所述耐腐蚀涂层（8）为金属陶瓷涂层材质制成。
2.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构，其特征在于：所述固定耳板（3）上还包括对称开设的两组螺纹孔（9）。
3.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构，其特征在于：所述第一密封槽（4）由四组弧形部（41）和四组直线部（42）交错设置，所述第二密封槽（5）呈环形结构设置，且所述第一密封槽（4）和所述第二密封槽（5）内分别安装有相匹配的密封圈。
4.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构，其特征在于：所述分配气孔（6）包括上部设置的锥状孔（61）和下部设置的柱状孔（62），且所述锥状孔（61）的底部孔径和所述柱状孔（62）的孔径相一致。
5.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构，其特征在于：所述消音涂层（7）上喷涂的消音涂料为硅酸铝纤维涂料材质制成。
6.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构，其特征在于：所述壳体（1）的内侧壁与内底壁之间的连接处、所述壳体（1）的外侧壁与外底壁之间的连接处均为圆角过渡结构设置。