一种坩埚和蒸镀装置的制作方法

1.本发明涉及了蒸镀技术领域，具体涉及了一种坩埚和蒸镀装置。


背景技术：

2.随着显示行业的发展，有机发光显示oled(organic light-emitting diode)技术是目前最有前景的屏幕显示技术之一，而且oled器件的大部分核心功能膜层是采用坩埚进行膜层蒸镀形成的。
3.但是，现有技术中的坩埚存在容易出现破损，坩埚内材料粘附在坩埚底部、难以取出的问题。


技术实现要素：

4.有鉴于此，本发明实施例提供了一种坩埚和蒸镀装置，以改善现有技术中存在的问题。
5.本发明第一方面提供了一种坩埚，包括：
6.本体，所述本体包括相互连接的底部和侧部，所述本体还包括内壁和外壁；
7.涂层，所述涂层至少位于所述底部的内壁上，用于降低所述本体与所述坩埚内材料的粘附性；
8.其中，所述本体的材料为钽。
9.在一个实施例中，所述涂层的材料包括热解氮化硼、氮化硅或氧化硅。通过设置涂层，可使得蒸镀材料容易从坩埚中取出、利于回收，避免材料的浪费。
10.在一个实施例中，所述涂层的厚度小于5微米。在保证顺利取出坩埚内蒸镀材料的基础上有效简化制备工艺，节约制备原料。
11.在一个实施例中，所述涂层的面积占所述本体的所述内壁面积的30％-90％；
12.优选地，所述涂层的面积占所述本体的所述内壁面积的50％-90％。可以合理设置涂层的面积，使得其更容易取出坩埚内的蒸镀材料，避免蒸镀材料的浪费。
13.在一个实施例中，所述坩埚还包括开口，在沿所述开口到所述底部的方向上，所述侧部的所述内壁和所述外壁之间的距离逐渐增大。可有效增大坩埚底部强度，避免坩埚损坏，同时还可避免坩埚受力产生形变。
14.在一个实施例中，所述侧部包括第一部分和第二部分，所述第二部分与所述底部连接，所述第二部分的所述内壁和所述外壁之间的距离大于所述底部的所述内壁和所述外壁之间的距离。通过在坩埚易损坏的位置设置更厚的结构，能进一步增大坩埚底部附近的强度，避免坩埚损坏，增大坩埚使用寿命。
15.在一个实施例中，所述第一部分的所述内壁和所述外壁之间的距离小于或等于所述底部的所述内壁和所述外壁之间的距离。通过合理设置本体的厚度，能在保证坩埚具有有益效果的基础上更大程度的节约原料。
16.在一个实施例中，所述第一部分设置有凸起；
17.优选地，所述涂层位于所述凸起的下方。涂层制备时沿该凸起向下制作，增加涂层的粘附性，避免涂层脱落，有效保护涂层。
18.在一个实施例中，所述凸起的高度为0.1mm-1.5mm；优选地，所述凸起的高度为0.1mm-1mm。通过限定凸起的高度可以限定涂层的起始涂覆位置。
19.本发明另一方面提供了一种蒸镀装置，包括上述任一实施例所述的坩埚。
20.本发明提供了一种坩埚和蒸镀装置，其中，该坩埚包括本体和涂层，其中，所述本体包括内壁；所述涂层至少位于所述底部的内壁上；所述本体的材料为钽。通过本发明提供的坩埚，由于其底部包括双层结构即本体和涂层，且本体的材料为钽，能有效避免现有技术中的坩埚存在的容易出现破损的问题，且由于涂层的存在，可有效降低蒸镀材料与坩埚的内壁的附着性，坩埚内材料不易粘附在坩埚底部、容易取出、利于回收，避免材料的浪费，同时还可避免坩埚受力产生的形变，延长坩埚使用寿命。
附图说明
21.图1所示为本发明一实施例提供的一种坩埚的结构示意图；
22.图2所示为图1的分解的结构示意图；
23.图3所示为本发明另一实施例提供的一种坩埚的结构示意图；
24.图4所示为本发明另一实施例提供的一种外围结构的结构示意图。
25.附图标记：
26.1-坩埚；10-本体；110-底部；120-侧部；122-第一部分；124-第二部分；126-内壁；128-外壁；20-涂层；30-开口；40-凸起；50-外围结构；x-第一方向；h-高度；d-距离。
具体实施方式
27.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他的实施例，都属于本发明保护的范围。
28.在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，需要说明的是，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
29.所应说明的是，以上现有技术中的方案所存在的缺陷，均是发明人在经过实践并仔细研究后得出的结果，因此，上述技术问题的发现过程以及下文中本技术实施例针对上述问题所提出的解决方案，都应该是发明人在发明创造过程中对本技术做出的贡献，而不应当理解为本领域技术人员所公知的技术内容。
30.本技术的发明人经过长期研究发现，在用蒸镀工艺蒸镀oled的各个膜层时，若具体的蒸镀工艺为点源蒸镀时，现有技术的坩埚通常会使用的两种材料为：热解氮化硼和钽，当使用的坩埚的材料是热解氮化硼(pbn)时，其缺点是易浸润泄漏，且其本身硬度较小，碰
撞中容易破裂出现裂纹，因此在实际生产时，容易出现坩埚破损异常，造成生产延迟；如果该坩埚的材料是钽(ta)时，蒸镀完后坩埚内剩余材料会粘附在坩埚底部，难以取出，并且温度降低后，坩埚底部会受力收缩，产生形变。
31.基于上述一系列的问题，本发明提供了一种坩埚，能够有效改善现有技术中的坩埚存在的容易出现破损，坩埚内材料粘附在坩埚底部、难以取出的问题，具体方案如下所示。
32.本发明一实施例中提供了一种坩埚，具体可参见图1和图2，图1所示为本发明一实施例提供的一种坩埚的结构示意图。图2所示为图1的分解的结构示意图。具体的，该坩埚1包括本体10和涂层20，其中，本体10包括相互连接的底部110和侧部120，本体10还包括内壁126和外壁128，且本体10的材料为钽(ta)；涂层20至少位于底部110的内壁126上，用于降低本体10与坩埚1内材料的粘附性。可以理解的是，钽材料有非常出色的化学性质，具有极高的抗腐蚀性、富有延展性，其热膨胀系数很小。本体10的材料为钽，使得该坩埚1具有优异的性能。可以理解的是，坩埚1内材料具体为坩埚1内的蒸镀材料。
33.涂层20至少位于底部110的内壁126上，可以理解的是，涂层20还可以位于侧部120的内壁126上，即涂层20位于本体10的内壁126的所有部分，具体可根据实际情况进行设置。通过设置涂层20至少位于底部110的内壁126上，能够保证坩埚1内的材料尽量与内壁126上涂覆的涂层20接触，尽量不与无涂层20的内壁126接触，可有效降低蒸镀材料与坩埚1的内壁126的附着性，以便于后续材料可以快速取出涂层。
34.可以理解的是，在本实施例中，涂层20在内壁126各处膜层厚度相同，可有效简化制备工艺，在其他实施例中，也可以设置涂层20的膜层厚度不同，且靠近底部110处内壁126的涂层20膜层厚度大于远离底部110处的涂层20的膜层厚度，有利于加强坩埚1底部的强度。在另一实施例中，在沿x的方向，涂层20的膜层厚度逐渐增大，通过此种设置方式，可进一步增强坩埚1底部的强度。
35.可以理解的是，本技术提供的坩埚1为蒸镀工艺中用到的点源坩埚。
36.本发明提供了一种坩埚，该坩埚包括本体和涂层，其中，本体包括内壁，且本体的材料为钽；涂层至少位于底部的内壁上。通过本发明提供的坩埚，由于其中底部包括双层结构即本体和涂层，且本体的材料为钽，能有效避免现有技术中的坩埚存在的容易出现破损的问题，且由于涂层的存在，可有效降低蒸镀材料与坩埚的内壁的附着性，坩埚内材料不易粘附在坩埚底部、容易取出、利于回收，避免材料的浪费，同时还可避免坩埚受力产生的形变，延长坩埚使用寿命。
37.具体的，侧部120还可以包括第一部分122和第二部分124，第二部分124与底部110连接。
38.可以理解的是，本实施例中的涂层20是按照沿x方向的反方向依次设置的，即，涂层20先位于底部110的内壁126(即内壁126的底部)上，再位于第二部分124的内壁126上，最后是第一部分122的内壁126上。可以理解的是，该涂层20是环绕该内壁126整圈设置的。
39.可以理解的是，涂层20沿x方向上的高度位于同一水平面，即涂层20在坩埚1四周的内壁126上的最高点位于同一水平面，通过此种设置方式，可以便于简化制备工艺、有利于蒸镀完成后蒸镀材料从坩埚1中取出。
40.在其他实施例中，涂层20不止位于底部110的内壁126上，还可以位于至少部分第
二部分124的内壁126上，或者是位于第二部分124的内壁126上和至少部分第一部分122的内壁126上，具体可根据实际情况进行设置。
41.在一实施方式中，本体10设置为圆柱体形状，在其他实施例中本体10还可以设置成其他形状；且本体10的顶端设置外围结构50。具体的，外围结构50可方便移动该坩埚1，该外围结构50的具体形状可参见图4，图4所示为本发明另一实施例提供的一种外围结构的结构示意图。图4中外围结构50为圆环形，在其他实施方式中，外围结构50还可以设置成其他形状如方形、三角形等，在此不作具体的限定。
42.在一实施方式中，涂层20的材料可以包括热解氮化硼(pbn)、氮化硅或氧化硅。通过设置涂层20，可使得蒸镀材料容易从坩埚1中取出，避免材料的浪费。优选地，涂层20的材料包括热解氮化硼，热解氮化硼是特种陶瓷材料，具有耐高温，耐酸、碱、盐及有机试剂的性质，抗热震性好，热导性好，热膨胀系数低。热解氮化硼材料可有效使得坩埚1内蒸镀材料不易粘附在坩埚1底部、容易取出、利于回收，避免材料的浪费。
43.在一实施方式中，涂层20的厚度小于5微米。相对于本体10的厚度，涂层20只是相对较薄的一涂层，通过将涂层20的厚度设置在此范围内，在保证顺利取出坩埚1内蒸镀材料的基础上，有效简化制备工艺，节约制备原料。
44.在一实施方式中，涂层20的面积占本体10的内壁126面积的30％-100％。进一步的，涂层20的面积占本体10的内壁126面积的30％-90％。通过将涂层20的面积设置在此范围内，可以合理设置涂层20的面积，使得更容易取出坩埚1内的蒸镀材料。优选地，涂层20的面积占本体10的内壁126面积的50％-90％，通过将涂层20的面积设置在此范围内，可以保证蒸镀时，坩埚内的蒸镀材料完全与涂层20接触，尽量不与无涂层20的内壁126接触，可有效降低蒸镀材料与坩埚1的内壁126的附着性，进一步使得蒸镀完后坩埚1内材料不易粘附在坩埚1底部、材料便于取出、利于回收，避免材料的浪费。
45.在一实施方式中，坩埚1还包括开口30，在沿开口30到底部110的方向上，侧部120的内壁126和外壁128之间的距离逐渐增大。具体的，侧部120的内壁126和外壁128之间的距离可参见图2中的d标记，即d为内壁126和外壁128之间的距离，外围结构50围设形成开口30，该开口30与底部110相对设置；在沿开口30到底部110的方向即为图1中的x方向，侧部120的内壁126和外壁128之间的距离逐渐增大可有效增大坩埚1底部强度，避免坩埚1损坏，同时还可避免坩埚1受力产生的形变，延长坩埚1使用寿命。
46.可以理解的是，侧部120的内壁126和外壁128之间的距离逐渐增大是往侧部120内侧增大，在外表面，该坩埚1沿x方向上下分布是垂直的形状。
47.在一实施方式中，第二部分124的内壁126和外壁128之间的距离d大于底部110的内壁126和外壁128之间的距离。经过发明人长期研究发现，由于现有技术中坩埚1容易出现破损的地方为侧部120的底部附近，因此本实施例通过设置第二部分124的内壁126和外壁128之间的距离d大于底部110的内壁126和外壁128之间的距离，能进一步增大坩埚1底部附件的强度，避免坩埚1损坏，同时还可避免坩埚1受力产生的形变，延长了坩埚1的使用寿命。
48.在一实施方式中，第一部分122的内壁126和外壁128之间的距离d小于或等于底部110的内壁126和外壁128之间的距离。可以理解的是，在第一部分122中，可以有部分区域处的内壁126和外壁128之间的距离d是不变的，但总体上沿x的方向，内壁126和外壁128之间的距离d逐渐变大。通过此种设置方式可以在保证坩埚1效果的基础上有利于节约材料。
49.在一实施方式中，与第二部分124的内壁126和外壁128之间的距离d为0.5mm至2mm，通过第二部分124的内壁126和外壁128之间的距离d设置在此范围内，能有效保证坩埚1的强度，延长该坩埚1的使用寿命。优选地，第二部分124的内壁126和外壁128之间的距离d为1mm至2mm，通过将第二部分124的内壁126和外壁128之间的距离d设置在此范围内，能进一步增强该坩埚1的强度，有效避免坩埚1损坏，同时还可避免坩埚1受力产生的形变，极大的延长了坩埚1使用寿命。
50.在一实施方式中，第一部分122与第二部分124在沿x方向上的长度的比值范围为0.2-5，优选地，第一部分122与第二部分124在沿x方向上的长度的比值范围为0.5-3，能更合理的设置第一部分122和第二部分124的长度。具体可根据实际情况进行设置，在此不作严格的限定。
51.在一实施方式中，第一部分122设置有凸起，具体的，第一部分122的内壁126的上部分设置有凸起40；优选地，涂层20位于凸起40的下方。具体的，可参见图3，图3所示为本发明另一实施例提供的一种坩埚的结构示意图。第一部分122的内壁126的上部分靠近顶端的位置设置有凸起40后，涂层20制备时可以沿该凸起40向下制作，增加涂层20的粘附性，避免涂层20脱落，即该坩埚1的具体的制备工艺是首先制备本体10，然后是凸起40，最后形成涂层20。可以理解的是，该凸起40环绕内壁100是整圈设置的。
52.可以理解的是，在本实施例中，凸起40与涂层20相邻且连接设置，且凸起40的厚度和与凸起40相邻的涂层20的厚度相同，从而在往坩埚1中加蒸镀材料时，蒸镀材料能够沿凸起40和涂层20的内壁进入坩埚1中，此种设置方式可有效避免因凸起40的厚度小于涂层20的厚度时或不设置凸起40时，蒸镀材料进入坩埚1中时会落在涂层20上，从而到达不了坩埚1的内部，而避免蒸镀材料的浪费的问题。
53.在一实施方式中，凸起40的高度为0.1mm-1.5mm。凸起40的高度可参见图3中的h标记，即h为0.1mm-1.5mm，优选地，凸起40的高度为0.1mm-1mm。由于凸起40的起始位置是该内壁126的顶端，通过设置凸起40的高度，可以限定凸起的结束位置，即可以限定涂层20的起始位置，有利于简化制备工艺。
54.可以理解的是，在其他实施例中，该凸起40的起始位置可以不是该内壁126的顶端，可以是内壁126的上部的任意位置，只要凸起40位于涂层20的上方，能够起到保护涂层20，避免其脱落的作用即可，在此不作具体的限定，具体可根据实际情况进行设置。
55.在一实施方式中，在制备该坩埚1时，可以先制备该坩埚1的本体10，然后在本体10的内壁126处涂覆涂层20。还可以采用其他的生产步骤工序，具体可根据实际情况进行设置，在此不作具体的限定。
56.本发明另一实施例中提供了一种蒸镀装置，包括上述任一实施例中的坩埚。可以理解的是，该蒸镀装置用于蒸镀oled器件的部分功能膜层。该蒸镀装置除了坩埚外，还可以包括加热源、固定结构等，其中，加热源用于加热坩埚，固定结构用于固定待蒸镀基板，具体可根据实际情况进行设置，在此不作具体的限定。
57.本实施例中的蒸镀装置的有益效果可见上述坩埚的描述，在此不赘述。
58.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
59.以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。