一种新型镀膜挡板装置及镀膜设备的制作方法

1.本公开涉及镀膜设备技术领域，尤其涉及一种新型镀膜挡板装置及镀膜设备。


背景技术：

2.真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。
3.真空镀膜设备中，放置被镀基片的基片架根据需要可采用挡板进行遮挡。挡板的作用是阻挡溅射物。现有镀膜设备中的补偿挡板机构大多数定位在镀膜真空室的侧壁上，在蒸镀过程中，补偿挡板升起，与侧壁成一定角度，使蒸镀到基板上的膜料更均匀。而由于挡板设置在真空室侧壁上，导致两侧补偿挡板的高度、角度调整难度较大，调整不够精准，安装和拆卸复杂，并且镀膜设备在蒸镀膜料过程中，挡板的位置会有小幅度变化，稳定性不够好，进而导致薄膜均匀性降低。


技术实现要素：

4.有鉴于此，本公开实施例提供一种新型镀膜挡板装置及镀膜设备，该装置易于拆卸安装，稳定性好，应用灵活，解决现有镀膜设备的补偿挡板调整难度较大，安装和拆卸复杂，并且稳定性不佳的技术问题。
5.为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
6.一种新型镀膜挡板装置，应用于镀膜设备中，所述镀膜设备中包括蒸发源和设置于蒸发源上方的基片固定架，所述镀膜挡板装置包括设置于所述蒸发源一侧的连接架，所述连接架包括固定底座和双旋转杆，所述双旋转杆与所述固定底座活动连接，使所述双旋转杆能够相对所述固定底座转动，所述双旋转杆上分别水平设置半椭圆形的第一挡板和第二挡板；其中，所述第一挡板和第二挡板在所述双旋转杆上设置的垂直高度不同。
7.在一种优选的实施方式中，所述固定底座上开设两个凹槽，所述双旋转杆的底端分别位于两个凹槽中，并且与凹槽内壁活动连接。
8.在一种优选的实施方式中，所述凹槽内设置滚动轴承，所述滚动轴承的外环与所述凹槽的内壁固定连接，所述滚动轴承的内环与所述双旋转杆的底端固定连接，使所述双旋转杆与所述固定底座活动连接。
9.在一种优选的实施方式中，所述连接架还包括固定杆，所述固定杆的一端开设通孔，所述双旋转杆的顶端穿过所述通孔，使所述固定杆与所述双旋转杆固定连接，所述第一挡板和第二挡板分别固定在所述固定杆上。
10.在一种优选的实施方式中，所述第一挡板和第二挡板上分别固定设置至少一个卡箍，所述固定杆上对应设置至少一个与所述卡箍适配的卡槽，用于将所述卡箍在所述卡槽中紧固，使所述第一挡板和第二挡板分别固定在所述固定杆上。
11.在一种优选的实施方式中，所述固定杆和所述双旋转杆均采用金属材质制成，且
所述固定杆和所述双旋转杆之间焊接固定。
12.本实用新型还提供一种镀膜设备，所述镀膜设备包括蒸发源和设置于蒸发源上方的基片固定架，还包括如上述的新型镀膜挡板装置。
13.本实用新型的一种新型镀膜挡板装置及镀膜设备，其有益效果在于：该新型镀膜挡板装置起到电子枪挡板和补偿挡板双重作用。本装置简单，易于实现，易于拆卸安装，稳定性好，能够有效降低不可控因素。该新型镀膜挡板装置在简化了镀膜设备真空室内结构的基础上，还保证了镀膜机的膜层均匀性，满足镀膜生产需要。
附图说明
14.为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
15.图1为本实用新型实施例的挡板装置结构示意图；
16.图2为本实用新型实施例的挡板闭合状态示意图；
17.图3为本实用新型实施例的挡板交叉状态示意图；
18.图4为本实用新型实施例的挡板打开状态示意图；
19.图5为本实用新型实施例的挡板另一闭合状态示意图；
20.图6为本实用新型实施例的挡板另一打开状态示意图；
21.图7为本实用新型实施例中基片固定架不同位置的基片膜厚测试曲线图。
具体实施方式
22.下面结合附图对本公开实施例进行详细描述。
23.以下通过特定的具体实例说明本公开的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本公开的其他优点与功效。显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。本公开还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本公开的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
24.要说明的是，下文描述在所附权利要求书的范围内的实施例的各种方面。应显而易见，本文中所描述的方面可体现于广泛多种形式中，且本文中所描述的任何特定结构及/或功能仅为说明性的。基于本公开，所属领域的技术人员应了解，本文中所描述的一个方面可与任何其它方面独立地实施，且可以各种方式组合这些方面中的两者或两者以上。举例来说，可使用本文中所阐述的任何数目个方面来实施设备及/或实践方法。另外，可使用除了本文中所阐述的方面中的一或多者之外的其它结构及/或功能性实施此设备及/或实践此方法。
25.还需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本公开的基本构想，图式中仅显示与本公开中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可
能更为复杂。
26.另外，在以下描述中，提供具体细节是为了便于透彻理解实例。然而，所属领域的技术人员将理解，可在没有这些特定细节的情况下实践所述方面。
27.如图1所示，本公开实施例提供一种新型镀膜挡板装置，应用于镀膜设备中，所述镀膜设备中包括蒸发源和设置于蒸发源上方的基片固定架，所述镀膜挡板装置包括设置于所述蒸发源一侧的连接架，所述连接架包括固定底座1和双旋转杆2，所述双旋转杆2与所述固定底座1活动连接，使所述双旋转杆2能够相对所述固定底座1转动，所述双旋转杆2上分别水平设置半椭圆形的第一挡板3
‑
1和第二挡板3
‑
2；其中，所述第一挡板3
‑
1和第二挡板3
‑
2在所述双旋转杆2上设置的垂直高度不同。
28.本实用新型中，在蒸发源的一侧设置连接架，在连接架上设置第一挡板3
‑
1和第二挡板3
‑
2双挡板，在使用时，可转动上述旋转杆2，将第一挡板3
‑
1和第二挡板3
‑
2的位置进行调节，调节双挡板的开合度以满足任意的使用需求。该装置可应用于两种使用场景，分别为遮挡蒸气云来满足膜厚均匀与遮挡其他位置保证蒸发出的蒸汽云的膜厚均匀。并且，第一挡板3
‑
1和第二挡板3
‑
2在所述双旋转杆2上设置的垂直高度不同，这样的结构设置可以将第一挡板3
‑
1和第二挡板3
‑
2设置为交叉重合的状态，起到补偿挡板作用。
29.使用方法一：挡板通过遮挡蒸汽云的方法对不均匀的膜厚分布进行补偿，膜厚分布较厚的位置用补偿挡板遮挡更多，如图2
‑
4所示，该装置有三种开合状态：图2是两个半椭圆形挡板闭合状态，在预熔时起到挡板作用，防止膜料蒸镀到基板上；图3是蒸镀过程中，两个半椭圆形挡板交叉，起到补偿挡板作用；图4是两个半椭圆形挡板向两侧打开，可以添加膜料。
30.使用方法二：挡板通过控制蒸汽云的具体分布对膜厚进行补偿，该装置有两种开关状态，关闭时与常规挡板的作用相同，如图5所示；打开时，蒸气从中间开口逸出，通过调整开口的形状与大小满足其均匀性要求，如图6所示。
31.本实用新型中的两种使用方法均在简化了镀膜机真空室内结构的基础上，还保证了镀膜机的膜层均匀性。去掉传统的补偿挡板，在只使用该挡板装置的情况下进行蒸镀，测试伞架不同位置的成膜基片，曲线结果如图7所示。由曲线结果可知，该挡板装置有很好的修正补偿作用。因此，本实用新型既可以满足电子枪挡板，又可以代替补偿挡板，满足镀膜生产需要。
32.在一种优选的实施方式中，所述固定底座1上开设两个凹槽，所述双旋转杆2的底端分别位于两个凹槽中，并且与凹槽内壁活动连接。进一步的，所述凹槽内设置滚动轴承(图中未示出)，所述滚动轴承的外环与所述凹槽的内壁固定连接，所述滚动轴承的内环与所述双旋转杆2的底端固定连接，使所述双旋转杆2与所述固定底座1活动连接。采用滚动轴承使得所述双旋转杆2与所述固定底座1活动连接，能够有效提高旋转杆的旋转精度，进而保证挡板位置的精确调整，并且稳定性好，保证挡板的位置不会在蒸镀过程中发生改变，降低了镀膜过程中不可控因素的影响。在具体操作过程中，可采用电机对旋转杆进行驱动。
33.在实际应用中，由于挡板的面积较大，在长时间使用后容易出现弯折、倾斜等损坏，影响正常镀膜，为了保证挡板的稳定性，在一种优选的实施方式中，所述连接架还包括固定杆4，所述固定杆4的一端开设通孔，所述双旋转杆2的顶端穿过所述通孔，使所述固定杆4与所述双旋转杆2固定连接，所述第一挡板3
‑
1和第二挡板3
‑
2分别固定在所述固定杆4
上。具体地，所述第一挡板3
‑
1和第二挡板3
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2上分别固定设置至少一个卡箍，所述固定杆4上对应设置至少一个与所述卡箍适配的卡槽，用于将所述卡箍在所述卡槽中紧固，使所述第一挡板3
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1和第二挡板3
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2分别固定在所述固定杆4上。其中，所述固定杆4和所述双旋转杆2均采用金属材质制成，且所述固定杆4和所述双旋转杆2之间焊接固定。将挡板采用卡箍固定在固定杆4上，保证了挡板的牢固性和稳定性，并且易安装和拆卸。
34.以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。