技术特征：
1.一种非浸润性双层陶瓷涂层，其特征在于：所述陶瓷涂层为双层结构，包括底部涂层和顶部涂层，所述底部涂层为稀土稳定氧化锆resz陶瓷涂层，顶部涂层为稀土钽酸盐retao4陶瓷涂层。2.根据权利要求1所述的一种非浸润性双层陶瓷涂层，其特征在于：所述陶瓷涂层的总厚度为200-300微米，所述底部涂层的厚度为150-200微米，顶部涂层的厚度为50-100微米。3.根据权利要求1所述的一种非浸润性双层陶瓷涂层，其特征在于：所述稀土元素re为y，la，nb，pr，sm，eu，gd，dy，ho，er，yb，lu，tm中的任意一种。4.根据权利要求1所述的一种非浸润性双层陶瓷涂层，其特征在于：所述稀土稳定氧化锆resz陶瓷与稀土钽酸盐retao4陶瓷中所用的稀土元素为同一种，并且稀土稳定氧化锆resz中稀土元素的质量分数为3-10％。5.根据权利要求2所述的一种非浸润性双层陶瓷涂层，其特征在于：所述顶部涂层的致密度大于95％，气孔率小于5％；并且顶部涂层为层状结构，晶粒尺寸为1-5微米。6.根据权利要求2所述的一种非浸润性双层陶瓷涂层，其特征在于：所述底部涂层的致密度在85-90％之间，气孔率为15-10％；并且底部涂层为柱状晶结构，晶粒尺寸为1-5微米。7.根据权利要求1-6任意一项所述的一种非浸润性双层陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：由以下步骤制备而成：步骤(1)对基体合金进行喷砂处理；步骤(2)在基体合金上喷涂稀土稳定氧化锆resz陶瓷涂层；步骤(3)在底部涂层上喷涂稀土钽酸盐retao4陶瓷涂层。8.根据权利要求7所述的一种非浸润性双层陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)和步骤(3)中所用原料分别为resz粉体和retao4的球形粉体，retao4为球形粉体且粒径为30-100微米之间。9.根据权利要求7所述的一种非浸润性双层陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中稀土稳定氧化锆resz陶瓷涂层的喷涂方法为电子束物理气相沉积，并且电子束物理气相沉积喷涂时的工艺条件如下：真空度低于3
×
10-3
pa，加热基体温度至350-500℃，喷涂距离为300-350mm，入射角度为20-35
°
，电子的加速电压为10-35kv，沉积速率为100-300nm/min。10.根据权利要求7所述的一种非浸润性双层陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中稀土钽酸盐retao4陶瓷涂层的喷涂方法为大气等离子喷涂，并且大气等离子喷涂时的工艺条件如下：喷枪功率为30～45kw，喷涂距离为100～230mm，氩气和氢气的气体流量分别为3～10slpm、3～10slpm，进料速度为30～50g/min，送粉速度为300～700mm/s，喷涂时间为1～3min。
技术总结
本发明公开了一种非浸润性双层陶瓷涂层及其制备方法，涉及高温防护涂层材料技术领域，其技术方案要点在于：所述陶瓷涂层为双层结构，包括底部涂层和顶部涂层，所述底部涂层为稀土稳定氧化锆RESZ陶瓷涂层，顶部涂层为稀土钽酸盐RETaO4陶瓷涂层。具有应变容忍度高、层与层之间结合力强、对低熔点氧化物熔体具有非浸润性的特点，具有强的抗低熔点氧化物熔体渗透的特性。渗透的特性。渗透的特性。
技术研发人员：冯晶 陈琳
受保护的技术使用者：昆明理工大学
技术研发日：2022.04.27
技术公布日：2022/8/5