掩模及其制造方法与流程

文档序号:31724150发布日期:2022-10-05 00:05阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种有机el显示装置的制造方法,其具备:按照掩模与有机el基板对面的方式配置所述掩模的工序;和使材料通过所述掩模附着于所述基板的蒸镀工序,所述掩模具备:第1掩模,其包含开口部,具有第1面、位于所述第1面的相反侧的第2面、以及从所述第1面扩展至所述第2面并划出所述开口部的侧面;第2掩模,其位于所述第1掩模的所述开口部,包含位于所述第1掩模的所述第1面侧的第3面和位于所述第1掩模的所述第2面侧的第4面,具有有效区域和位于所述有效区域的周边的周边区域,所述有效区域包含贯通所述第2掩模的第1孔;和接合部,其将所述第1掩模与所述第2掩模接合,具有第1部分和第2部分,所述第1部分至少包含与所述第1掩模的所述侧面接触的侧面部分和与所述第1掩模的所述第1面接触的第1面部分,所述第2部分至少包含与所述第2掩模的所述周边区域的所述第4面接触的第4面部分。2.如权利要求1所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述第2掩模的所述第3面与所述接合部的所述第1部分的所述第1面部分的表面位于同一平面上。3.如权利要求1或2所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述接合部的所述第1部分的所述第1面部分的宽度为3μm以上。4.如权利要求1或2所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述接合部的所述第1部分进一步包含与所述第1掩模的所述第2面接触的第2面部分。5.如权利要求4所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述接合部的所述第1部分的所述第2面部分的宽度为3μm以上。6.如权利要求1或2所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述第2掩模的所述周边区域包含从所述第2掩模的所述第4面侧向所述第3面侧凹陷的第2孔,所述接合部的所述第2部分进一步包含孔部分,该孔部分位于所述第2掩模的所述周边区域的所述第2孔的内部。7.如权利要求6所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述第2掩模的所述周边区域的所述第2孔从所述第2掩模的所述第4面侧贯通至所述第3面侧。8.如权利要求6所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述第2掩模的所述周边区域的所述第2孔具有10μm以上200μm以下的尺寸。9.如权利要求6所述的有机el显示装置的制造方法,其中,在沿着所述第2掩模的所述第4面的法线方向观察时,所述第2掩模的所述周边区域的所述第2孔的形状具有圆形或矩形。10.如权利要求1或2所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述第1掩模的所述侧面具有向位于所述开口部的所述第2掩模侧突出的突出部。11.如权利要求1或2所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述第1掩模的所述侧面包含具有0.12μm以上的算术平均粗糙度的粗面。12.如权利要求1或2所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述第1掩模的厚度为250μm以上1000μm以下。13.如权利要求1或2所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述第2掩模的厚度为
20μm以下。14.如权利要求1或2所述的有机el显示装置的制造方法,其中,所述接合部包含镀覆层。15.一种掩模,其具备:第1掩模,其包含开口部,具有第1面、位于所述第1面的相反侧的第2面、以及从所述第1面扩展至所述第2面并划出所述开口部的侧面;和与所述第1掩模组合的第2掩模,其位于所述第1掩模的所述开口部,包含位于所述第1掩模的所述第1面侧的第3面和位于所述第1掩模的所述第2面侧的第4面,具有有效区域和位于所述有效区域的周边的周边区域,所述有效区域包含贯通所述第2掩模的第1孔。

技术总结
本发明涉及掩模及其制造方法,掩模具备:包含开口部的第1掩模、位于第1掩模的开口部的第2掩模、和将第1掩模与第2掩模接合的接合部。第1掩模具有:第1面、位于第1面的相反侧的第2面、以及从第1面扩展至第2面并划出开口部的侧面。第2掩模包含位于第1掩模的第1面侧的第3面和位于第1掩模的第2面侧的第4面。另外,第2掩模具有:包含贯通第2掩模的第1孔的有效区域、和位于有效区域的周边的周边区域。接合部具有:至少包含与第1掩模的侧面接触的侧面部分和与第1掩模的第1面接触的第1面部分的第1部分、以及至少包含与第2掩模的周边区域的第4面接触的第4面部分的第2部分。接触的第4面部分的第2部分。接触的第4面部分的第2部分。


技术研发人员:广户荣仁
受保护的技术使用者:大日本印刷株式会社
技术研发日:2019.07.03
技术公布日:2022/10/4
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