一种蒸镀系统和蒸镀方法与流程

本申请涉及半导体制造，尤其涉及一种蒸镀系统和蒸镀方法。

背景技术：

1、发光二极管(led)被广泛认可为第四代照明光源或者绿色光源。因具有节能、环保、寿命长、体积小等各种特点，在各种背光源、普通照明、装饰、显示已经指示等领域倍大量应用，尤其近年来led在普通照明领域被大众人群广泛接受下，整个led行业得到了飞速的发展。

2、在led的制作过程中，通过真空蒸镀进行有机材料和金属材料的成膜。真空蒸镀是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。在蒸镀初期，蒸发源刚开始加热镀膜材料时，因蒸发速率不稳定导致镀膜异常。

3、因此，如何提升蒸镀效果是亟需解决的问题。

技术实现思路

1、鉴于上述相关技术的不足，本申请的目的在于提供一种蒸镀系统和蒸镀方法，旨在解决由于蒸发源在预热阶段蒸发速率不稳定导致镀膜异常的问题。

2、本申请提供一种蒸镀系统，包括：

3、蒸镀腔体；

4、蒸发源，设置在所述蒸镀腔体内的一侧，所述蒸发源被配置为加热材料以产生蒸汽流；

5、承载装置，设置在所述蒸镀腔体内与所述蒸发源相对的一侧，且位于所述蒸汽流的流动路径上，所述承载装置被配置为承载晶圆；

6、监控装置，设置在所述蒸镀腔体内且位于所述蒸汽流的流动路径上，所述监控装置被配置为监测所述蒸发源的蒸发速率；以及

7、遮挡装置，设置在所述蒸镀腔体内，所述遮挡装置包括设有开口的蒸发源挡板和传动机构；

8、所述蒸发源挡板具有关闭状态和打开状态，在所述关闭状态下，所述蒸发源挡板靠近所述蒸发源以阻挡所述蒸汽流到达被承载于所述承载装置的所述晶圆，且所述蒸发源挡板的所述开口供所述蒸汽流通过以到达所述监控装置，在所述打开状态下，所述蒸发源挡板远离所述蒸发源使得所述蒸汽流到达所述晶圆和所述监控装置；

9、所述传动机构与所述蒸发源挡板连接，所述传动机构被配置为在确定出所述蒸发速率处于稳定时，控制所述蒸发源挡板从所述关闭状态切换为所述打开状态。

10、上述蒸镀系统，其设有蒸镀腔体和设置在蒸镀腔体内的蒸发源、承载装置、监控装置以及遮挡装置，其中，遮挡装置包括设有开口的蒸发源挡板和传动机构，通过传动机构控制蒸发源挡板在关闭状态与打开状态之间切换，蒸发源挡板在关闭状态下，蒸汽流仅能够通过开口到达监控装置，蒸发源挡板在打开状态下，蒸汽流能够到达监控装置和被承载于承载装置的晶圆。蒸发源在预热阶段，通过传动机构控制蒸发源挡板处于关闭状态，并通过监控装置监测蒸发速率，根据监测到的蒸发速率和预设蒸发速率确定出蒸发速率处于稳定时，控制蒸发源挡板处于打开状态，使得蒸汽流到达晶圆以在晶圆上沉积薄膜，则本申请提供的蒸镀系统实现了待蒸发速率处于稳定时打开蒸发源挡板进行蒸镀，使得沉积在晶圆上的薄膜的均匀性更好，进而提升了蒸镀效果。

11、基于同样的发明构思，本申请还提供一种蒸镀方法，所述蒸镀方法应用于如前文所述的蒸镀系统，包括：

12、设置所述蒸发源对应的所述预设蒸发速率；

13、控制所述蒸发源挡板处于所述关闭状态，并控制所述蒸发源加热材料以产生所述蒸汽流；

14、根据所述蒸发源的所述蒸发速率和所述预设蒸发速率确定出所述蒸发速率处于稳定时，控制所述蒸发源挡板处于所述打开状态。

15、上述蒸镀方法，由于采用了设有遮挡装置的蒸镀系统，并设置确定出蒸发速率处于稳定时打开蒸发源挡板进行蒸镀，使得沉积在晶圆上的薄膜的均匀性更好，进而提升了蒸镀效果。

技术特征：

1.一种蒸镀系统，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的蒸镀系统，其特征在于，包括：多个所述蒸发源和多个所述监控装置，多个所述监控装置与多个所述蒸发源一一对应，多个所述监控装置设置在所述蒸镀腔体的侧壁的同一高度位置。

3.如权利要求2所述的蒸镀系统，其特征在于，包括：所述监控装置包括晶振探头和隔离罩，所述隔离罩设置在目标蒸发源与所述晶振探头之间且靠近所述晶振探头的位置，所述隔离罩被配置为阻挡来自于其余蒸发源的所述蒸汽流到达所述晶振探头，其中，所述目标蒸发源为与所述监控装置对应的所述蒸发源，所述其余蒸发源为多个所述蒸发源中除所述目标蒸发源之外的所述蒸发源。

4.如权利要求1-3任一项所述的蒸镀系统，其特征在于，所述传动机构为转动机构，所述转动机构带动所述蒸发源挡板旋转，使得所述蒸发源挡板在所述关闭状态与所述打开状态之间切换。

5.如权利要求4所述的蒸镀系统，其特征在于，所述转动机构包括旋转轴，所述旋转轴带动所述蒸发源挡板在第一平面内旋转，所述第一平面为与所述蒸发源挡板在所述蒸镀腔体的底壁上的投影面平行的平面。

6.如权利要求4所述的蒸镀系统，其特征在于，所述转动机构包括铰链组件，所述铰链组件带动所述蒸发源挡板在第二平面内旋转，所述第二平面为与所述蒸发源挡板在所述蒸镀腔体的底壁上的投影面垂直的平面。

7.如权利要求1-3任一项所述的蒸镀系统，其特征在于，所述开口为位于所述蒸发源挡板的边沿处的缺口。

8.一种蒸镀方法，其特征在于，所述蒸镀方法应用于如权利要求1-7任一项所述的蒸镀系统，包括：

9.如权利要求8所述的蒸镀方法，其特征在于，所述蒸镀系统包括两个所述蒸发源，其中一个所述蒸发源设有主体材料，另一个所述蒸发源设有掺杂材料，所述主体材料与所述掺杂材料为不同的金属单质；

10.如权利要求9所述的蒸镀方法，其特征在于，在所述根据所述蒸发源的所述蒸发速率和所述预设蒸发速率确定出所述蒸发速率处于稳定时，控制所述蒸发源挡板处于所述打开状态之后，还包括：

技术总结
本申请涉及一种蒸镀系统和蒸镀方法，其中蒸镀系统设有蒸镀腔体、蒸发源、承载装置、监控装置以及遮挡装置，遮挡装置包括设有开口的蒸发源挡板和传动机构，通过传动机构控制蒸发源挡板在关闭状态与打开状态之间切换，蒸发源挡板在关闭状态下，蒸汽流仅能够通过开口到达监控装置，蒸发源挡板在打开状态下，蒸汽流能够到达监控装置和被承载于承载装置的晶圆。蒸发源在预热阶段，控制蒸发源挡板处于关闭状态，根据监测到的蒸发速率和预设蒸发速率确定出蒸发速率处于稳定时，控制蒸发源挡板处于打开状态，实现了待蒸发速率处于稳定时打开蒸发源挡板进行蒸镀，使得沉积在晶圆上的薄膜的均匀性更好，进而提升了蒸镀效果。

技术研发人员：罗顺松,王怀超,岳晓
受保护的技术使用者：重庆康佳光电技术研究院有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/21