双柱砂箱定位装置的制作方法

1.本实用新型涉及造型机技术领域，尤其是涉及一种双柱砂箱定位装置。


背景技术：

2.造型机是一种用于制造砂型的铸造设备，双工位造型机是造型机的一个分类，双工位造型机由于旋转台布置的原因，其上下造型机构的导向机构通常分别设置在上机架和下机架上，通常选择在上机架和下机架上分别布置导向杆。
3.本技术人发现现有技术中至少存在以下技术问题：由于行程比较大，上下造型机构的导向机构在合箱的时候会产生轻微的错位现象，导致上下型的产品错位。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种双柱砂箱定位装置，以解决现有技术中存在的上下造型机构的导向机构通常分别设置在上机架和下机架上，导致在合箱时容易产生错位的技术问题。本实用新型提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。
5.为实现上述目的，本实用新型提供了以下技术方案：
6.一种双柱砂箱定位装置，包括导向光轴、旋转承托组件、上辅助造型室、上造型室、下造型室、下辅助造型室和下工作台，所述上辅助造型室、所述下辅助造型室和所述下工作台由上至下依次与所述导向光轴活动连接，所述上辅助造型室与上机架相连接，所述下辅助造型室与所述下工作台相连接并且所述下工作台运动能够带动所述下辅助造型室同步运动，所述上造型室和所述下造型室放置在所述旋转承托组件上，所述旋转承托组件能够限制所述上造型室和所述下造型室向下移动的极限位置并且能够带动所述上造型室和所述下造型室转动。
7.优选地，所述旋转承托组件包括旋转结构和承托结构，所述承托结构连接在所述旋转结构上，所述上造型室和所述下造型室均放置在所述承托结构上，所述旋转结构能够带动所述承托结构转动。
8.优选地，所述承托结构包括上旋转托架和下旋转托架，所述上造型室放置在所述上旋转托架上，所述下造型室放置在所述下旋转托架上。
9.优选地，所述旋转结构包括旋转轴和固定支撑，所述固定支撑连接在所述旋转轴上，所述上旋转托架和下旋转托架均与所述固定支撑相连接。
10.优选地，所述导向光轴的数量为两个，两个所述导向光轴平行设置，所述上辅助造型室的两端、所述下辅助造型室的两端和所述下工作台的两端均分别与两个所述导向光轴活动连接。
11.优选地，所述导向光轴竖直设置。
12.优选地，所述上造型室的数量为两个，两个所述上造型室均放置在所述上旋转托架上并且相对所述旋转轴对称设置。
13.优选地，所述下造型室的数量为两个，两个所述下造型室均放置在所述下旋转托架上并且相对所述旋转轴对称设置。
14.本实用新型的有益效果为：通过设置有导向光轴，上辅助造型室、辅助造型室和下工作台都统一在导向光轴上进行导向定位，实现了高精度定位，避免合箱时上下型的产品错位，提升了产品的成品率。
附图说明
15.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
16.图1为本实用新型隐藏模具及配件的结构图；
17.图2为本实用新型带有模具及配件的结构图；
18.图中1、导向光轴；
19.2、旋转承托组件；21、旋转结构；211、旋转轴；212、固定支撑；22、承托结构；221、上旋转托架；222、下旋转托架；
20.3、上辅助造型室；
21.4、上造型室；
22.5、下造型室；
23.6、下辅助造型室；
24.7、下工作台；
25.81、第一调节油缸；82、第二调节油缸；
26.9、模具。
具体实施方式
27.为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本实用新型的技术方案进行详细的描述。显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式，都属于本实用新型所保护的范围。
28.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“侧向”、“长度”、“宽度”、“高度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“侧”等指示的方位或位置关系为基于附图1所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
29.在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
30.参照图1到图2,本实用新型提到了一种双柱砂箱定位装置，包括导向光轴1、旋转承托组件2、上辅助造型室3、上造型室4、下造型室5、下辅助造型室6和下工作台7，上辅助造型室3、下辅助造型室6和下工作台7由上至下依次与导向光轴1活动连接，此处连接优选为滑动连接，导向光轴1优选具有光滑的外表面，使与其连接的结构物易于滑动，上辅助造型室3优选包括相连接的上辅助造型室本体和滑动支架，下辅助造型室6优选包括相连接的下辅助造型室本体和滑动支架，下工作台7优选包括相连接的下工作台本体和滑动支架，上辅助造型室本体、下辅助造型室本体和下工作台本体均优选通过滑动支架与导向光轴1实现滑动连接，滑动支架可套设在导向光轴1的外部，值得注意的是，导向光轴1只对上述结构物起到导向作用，在上述结构物的移动方向上并不会起到限位作用。
31.上辅助造型室3与上机架相连接，通过上机架实现对上辅助造型室3的限位作用，可优选通过第一调节油缸81连接上辅助造型室3与上机架，第一调节油缸81的油缸座连接在上机架上，第一调节油缸81的活塞杆连接在上辅助造型室3上，由于上机架本身结构保持固定，因此在第一调节油缸81不工作的状态下，能够保持上辅助造型室3的相对静止，同时第一调节油缸81还能够对上辅助造型室3的位置起到微调作用，以适配不同尺寸的模具，使装置具有普适性，上机架本身结构为较为常规现有技术，因此未在附图中展示，第一调节油缸81的数量优选为两个，分别连接在上辅助造型室3的两端。
32.下辅助造型室6与下工作台7相连接并且下工作台7运动能够带动下辅助造型室6同步运动，可优选通过第二调节油缸82连接下辅助造型室6与下工作台7，第二调节油缸82的油缸座连接在下辅助造型室6上，第二调节油缸82的活塞杆连接在下工作台7上，下工作台7的底部与外部液压系统相连接，外部液压结构能够对下工作台7起到承托作用，外部液压系统启动后能够带动下工作台7向上运动，在第二调节油缸82不工作的状态下，下工作台7运动能够带动下辅助造型室6同步运动，同时第二调节油缸82还能够对下辅助造型室6的位置起到微调作用，以适配不同尺寸的模具，使装置具有普适性，此处提到的外部液压系统为较为常规现有技术，因此未在附图中展示，第二调节油缸82的数量优选为两个，分别连接在下辅助造型室6的两端。
33.上造型室4和下造型室5放置在旋转承托组件2上，旋转承托组件2能够限制上造型室4和下造型室5沿竖直方向向下移动的极限位置并且能够带动上造型室4和下造型室5转动。
34.从高度方向上看，上辅助造型室3、上造型室4、下造型室5、下辅助造型室6和下工作台7由上至下依次排布，上辅助造型室3可通过定位销与上造型室4合箱，下辅助造型室6可通过定位销与下造型室5合箱。
35.双柱砂箱定位装置的工作原理为：在外部液压系统的驱动作用下，进行合箱作业，外部液压系统带动下工作台7向上移动，带动下辅助造型室6同步向上移动，下辅助造型室6与下造型室5合箱后带动下造型室5向上移动，下造型室5与模具9和上造型室4合箱后带动模具9和上造型室4向上移动，上造型室4与上辅助造型室3合箱后完成合箱；
36.然后通过造型机的射砂系统给予填充介质，此处造型机的射砂系统为较为常规现有技术，因此不做展开描述；
37.然后再利用外部液压系统进行压实；
38.然后在外部液压系统的驱动下，完成开箱动作，外部液压系统带动下工作台7向下
移动，带动下辅助造型室6同步向下移动，下造型室5与下辅助造型室6分离并且自由下落，被旋转承托组件2承托，上造型室4与下造型室5分离并自由下落，被旋转承托组件2承托，上辅助造型室3与上造型室4分离并且保持相对静止，在在旋转承托组件2的承托与旋转作用下，将上造型室4与下造型室5旋转，将造好的砂型旋转到另外一个工位，造型工位继续执行下一个循环。
39.通过设置有导向光轴1，上辅助造型室3、下辅助造型室6和下工作台7都统一在导向光轴1上进行导向定位，实现了高精度定位，避免合箱时上下型的产品错位，提升了产品的成品率。
40.作为可选地实施方式，旋转承托组件2包括旋转结构21和承托结构22，承托结构22连接在旋转结构21上，上造型室4和下造型室5均放置在承托结构22上，在开箱阶段，上造型室4和下造型室5能够被承托结构22承托，旋转结构21能够带动承托结构22转动，由于双柱砂箱定位装置采用双工位的设计，旋转结构21能够将造好的砂型从造型工位旋转到另外一个工位，将另一个工位旋转到造型工位，使造型工位继续执行下一个循环。
41.作为可选地实施方式，承托结构22包括上旋转托架221和下旋转托架222，上旋转托架221和下旋转托架222均连接在旋转结构21上并且能够在旋转结构21的带动下旋转，上造型室4放置在上旋转托架221上，下造型室5放置在下旋转托架222上。
42.作为可选地实施方式，旋转结构21包括旋转轴211和固定支撑212，固定支撑212连接在旋转轴211上，上旋转托架221和下旋转托架222均与固定支撑212相连接，旋转轴211转动能够带动固定支撑212、上旋转托架221和下旋转托架222转动，旋转轴211可优选与外部旋转机构相连接，外部旋转机构能够带动旋转轴211旋转，外部旋转机构的本身结构为较为常规现有技术，因此不做展开描述。
43.作为可选地实施方式，导向光轴1的数量为两个，两个导向光轴1平行设置，上辅助造型室3的两端、下辅助造型室6的两端和下工作台7的两端均分别与两个导向光轴1活动连接，两个导向光轴1能够使整体结构更加稳定，提升导向效果。
44.作为可选地实施方式，导向光轴1竖直设置，竖直设置的导向光轴1，能够使双柱砂箱定位装置整体也处于竖直设置的状态，使各个造型室和工作台在移动时，获得最短的移动路径，缩短移动时间，提升工作效率。
45.作为可选地实施方式，上造型室4的数量为两个，两个上造型室4均放置在上旋转托架221上并且相对旋转轴211对称设置，下造型室5的数量为两个，两个下造型室5均放置在下旋转托架222上并且相对旋转轴211对称设置，位于旋转轴211一侧的下造型室5能够与同一侧的上造型室4相互配合，并且与上辅助造型室3、下辅助造型室6和下工作台7配合，在此侧工位进行造型作业，而位于旋转轴211另一侧的下造型室5能够与同一侧的上造型室4相互配合，工作人员可以在此侧工位放置砂芯，通过旋转轴211的旋转，使分别位于两侧的两组下造型室5与上造型室4能够变换位置，在其中一侧进行造型作业的同时另外一侧放置砂芯，采用双工位的工作方式，以节约时间，提升工作效率。
46.以上，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。