一种用于磁控溅射系统中靶材遮蔽的穹形档板装置的制作方法

本技术涉及磁控溅射系统，具体涉及一种磁控溅射系统中用于遮蔽靶材的穹形档板装置。

背景技术：

1、磁控溅射是一种应用领域极广泛的真空镀膜技术，比如光学薄膜、微电子、新能源等。在磁控溅射系统中，多数使用多靶头(磁控)溅射系统，即在一个系统中同时安装多个靶材，这样可以实现一个腔体多种材料的制备或者共溅射，同时减少了更换靶材的时间成本，提高效率。但是，多靶材同时存在的设备腔体中，会存在相互干扰，会造成靶材相互污染，影响膜层质量。即便是单靶材系统中，(设备)腔体气氛控制不好，也会造成靶材中毒。为有效缓解此类情况，磁控溅射靶材前端一般都会安装可以开关的挡板，将靶材保护起来。但是现有的(平面)挡板由于结构问题档板和靶之间存在间隙，无法很好的遮蔽靶材。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种磁控溅射系统中用于遮蔽靶材的穹形档板装置，解决背景技术中的问题，为了更高质量的膜层生长，采用本实用新型的结构可以更好的遮蔽靶材，实现在溅射系统中更全面的靶材保护。

2、为了实现以上目的，本实用新型采用的技术方案为：一种磁控溅射系统中用于遮蔽靶材的穹形档板装置，包括：位于真空内部的靶座，靶座的内侧设置靶材，靶材的前端设置挡板；位于真空外部设置的驱动结构，真空内部设置有与挡板连接的传动结构；真空外部设置有与驱动结构连接的旋转结构，旋转结构的前端延伸至真空内部与传动结构相接；

3、所述的旋转结构包括前端平置的旋转导入器，所述的旋转导入器由驱动结构驱动转动；所述的传动结构包括位于旋转导入器前方的主动锥齿轮，以及位于靶座上的固定座，固定座上垂直旋转导入器前端设置有旋转轴，旋转轴上设置从动锥齿轮，主动锥齿轮、从动锥齿轮啮合构成锥齿轮组，旋转轴上设置连接杆，所述的挡板位于连接杆的前端，从动锥齿轮的转动带动连接杆前端的挡板的开合。

4、进一步的，所述的挡板为穹形挡板；所述的连接杆上沿靶座的长度方向设置水平槽口，所述的旋转轴沿水平槽口的槽长方向可移，所述的旋转轴紧锁于所述的水平槽口中。

5、再进一步的，固定座上位于连接杆一侧设置硬限位块。

6、进一步的，所述的传动结构与旋转结构之间设置可伸缩传动结构，所述的可伸缩传动结构包括与旋转导入器前端铰接的水平不动杆，水平不动杆中同轴插置有可伸缩传动杆，所述的可伸缩传动杆沿水平不动杆的杆长方向来回可移，所述的可伸缩传动杆上设置限位其转动的转动限制块，所述的主动锥齿轮设置于可伸缩传动结构的可伸缩传动杆的最前端。

7、再进一步的，所述的驱动结构的步进电机的转动带动旋转结构的旋转导入器转动。

8、再进一步的，步进电机上设置位置限位器，所述的位置限位器包括步进电机的转动轴上设置的触发块，触发块的两侧设置限位开关，触发块距离两侧的限位开关的行程与穹形挡板开合的行程对应。

9、本实用新型的技术效果在于：采用本实用新型的结构可以更好的遮蔽靶材，实现在溅射系统中更全面的靶材保护。

技术特征：

1.一种用于磁控溅射系统中靶材遮蔽的穹形档板装置，包括：位于真空内部的靶座(b)，靶座(b)的内侧设置靶材(a)，靶材(a)的前端设置挡板；位于真空外部设置的驱动结构(2)，其特征在于：真空内部设置有与挡板连接的传动结构(5)；真空外部设置有与驱动结构(2)连接的旋转结构(3)，旋转结构(3)的前端延伸至真空内部与传动结构(5)相接；

2.根据权利要求1所述的一种用于磁控溅射系统中靶材遮蔽的穹形档板装置，其特征在于：所述的挡板为穹形挡板(1)；所述的连接杆(55)上沿靶座(b)的长度方向设置水平槽口(55a)，所述的旋转轴(54)沿水平槽口(55a)的槽长方向可移，所述的旋转轴(54)紧锁于所述的水平槽口(55a)中。

3.根据权利要求2所述的一种用于磁控溅射系统中靶材遮蔽的穹形档板装置，其特征在于：固定座(53)上位于连接杆(55)一侧设置硬限位块(56)。

4.根据权利要求1所述的一种用于磁控溅射系统中靶材遮蔽的穹形档板装置，其特征在于：所述的传动结构(5)与旋转结构(3)之间设置可伸缩传动结构(4)，所述的可伸缩传动结构(4)包括与旋转导入器(31)前端铰接的水平不动杆(42)，水平不动杆(42)中同轴插置有可伸缩传动杆(41)，所述的可伸缩传动杆(41)沿水平不动杆(42)的杆长方向来回可移，所述的可伸缩传动杆(41)上设置限位其转动的转动限制块(43)，所述的主动锥齿轮(51)设置于可伸缩传动结构(4)的可伸缩传动杆(41)的最前端。

5.根据权利要求3所述的一种用于磁控溅射系统中靶材遮蔽的穹形档板装置，其特征在于：所述的驱动结构(2)的步进电机(21)的转动带动旋转结构(3)的旋转导入器(31)转动。

6.根据权利要求5所述的一种用于磁控溅射系统中靶材遮蔽的穹形档板装置，其特征在于：步进电机(21)上设置位置限位器(22)，所述的位置限位器(22)包括步进电机(21)的转动轴上设置的触发块，触发块的两侧设置限位开关，触发块距离两侧的限位开关的行程与穹形挡板(1)开合的行程对应。

技术总结
本技术涉及一种磁控溅射系统中用于遮蔽靶材的穹形档板装置，位于真空内部的靶座，靶座的内侧设置靶材，靶材的前端设置挡板；位于真空外部设置的驱动结构，真空内部设置有与挡板连接的传动结构；真空外部设置有与驱动结构连接的旋转结构，旋转结构的前端延伸至真空内部与传动结构相接；旋转结构包括前端平置的旋转导入器，旋转导入器由驱动结构驱动转动；所述的传动结构包括位于旋转导入器前方的主动锥齿轮，以及位于靶座上的固定座，固定座上垂直旋转导入器前端设置有旋转轴，旋转轴上设置从动锥齿轮，主动锥齿轮、从动锥齿轮啮合构成锥齿轮组，旋转轴上设置连接杆，挡板位于连接杆的前端，从动锥齿轮的转动带动连接杆前端的挡板的开合。

技术研发人员：杨文超,韦尚潮,廖昭胜
受保护的技术使用者：安徽外延科技有限公司
技术研发日：20221219
技术公布日：2024/1/12