一种雾化器及PECVD镀膜装置的制作方法

本技术涉及雾化器，具体涉及一种雾化器及pecvd镀膜装置。

背景技术：

1、等离子体增强化学气相沉积法(plasma enhanced chemical vapor deposition，pecvd)镀膜装置通过微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，利用等离子体化学活性很强，很容易发生反应的原理，从而在待镀工件上沉积出所需要的薄膜。

2、现有技术中，pecvd镀膜装置在镀膜过程中，需要利用雾化器不断将镀膜材料进行加热雾化，加热雾化后的镀膜材料进入镀膜腔体内，利用雾化的镀膜材料在镀膜腔体内的待镀工件上沉积镀膜，以达到镀膜的最佳条件。但是，由于现有雾化器的雾化路径由一体式的雾化管路组成，通过对整个雾化管路加热，实现雾化管路内的镀膜材料雾化；由于一体式雾化管路的雾化路径通常都是固定的，雾化效果具有很大的局限性，一旦雾化管路加工成型后，雾化路径不可调整，更换不同镀膜材料的雾化路径必须重新制作雾化管路，甚至要更换整套雾化器，不便雾化路径的调整，且雾化路径调整实现成本高。

技术实现思路

1、本实用新型提供一种雾化器，旨在解决现有技术的雾化器存在不便调整雾化路径，且雾化路径调整实现成本高的问题。

2、本实用新型是这样实现的，提供一种雾化器，包括：

3、内设置有腔体的阀体，所述阀体设有与所述腔体连通的进液口；

4、盖设于所述阀体并封装所述腔体的盖板；

5、与所述阀体连接的连接座，所述连接座设有与所述腔体连通的出雾口；

6、可拆卸固定于所述腔体内的多个挡板，相邻两个所述挡板相对间隔形成一连通空间，各所述连通空间依次连通形成相应雾化路径的雾化通道，所述雾化通道连通所述进液口与所述出雾口；

7、填充于所述雾化通道内的导热多孔填充物；以及

8、设置于所述腔体内的加热装置。

9、优选的，还包括用于与进液管路连接的截止阀，所述截止阀的进口与所述进液管路连接，所述截止阀的出口与所述进液口连接。

10、优选的，所述导热多孔填充物为泡沫铜或泡沫铝。

11、优选的，还包括：

12、用于密封所述腔体的硅胶垫，所述硅胶垫设置于所述盖板的朝向所述腔体的一面并覆盖所述腔体。

13、优选的，多个所述挡板依次等间距平行设置于所述腔体内。

14、优选的，多个所述挡板通过螺钉固定于所述腔体内。

15、优选的，还包括：

16、固定于所述阀体一侧面的支撑座，所述截止阀固定于所述支撑座上并通过所述支撑座与所述进液口连通。

17、优选的，还包括第一u形架及第二u形架，所述第二u形架固定于支撑座上，所述第一u形架与所述第二u形架可拆卸连接，所述截止阀固持于所述第一u形架与所述第二u形架之间。

18、优选的，所述第一u形架设置有第一定位凹槽和第一定位凸起，所述第二u形架设置有与所述第一定位凹槽配合的第二定位凸起及与所述第一定位凸起配合的第二定位凹槽，所述第一定位凸起嵌入所述第二定位凹槽内，所述第二定位凸起嵌入所述第一定位凹槽内。

19、本实用新型还提供一种pecvd镀膜装置，包括镀膜腔体、及上述的雾化器，所述雾化器的所述出雾口与所述镀膜腔体相连通。

20、本实用新型提供的一种雾化器通过设置可拆卸固定于腔体内的多个挡板，利用多个挡板形成相应雾化路径的雾化通道，并在雾化通道内填充导热多孔填充物，利用加热装置对腔体内部加热，并利用导热多孔填充物导热并直接对镀膜材料进行加热，使得镀膜材料沿雾化通道快速雾化，相比现有技术的雾化器，大大提升了雾化效果；而且，由于多个挡板中的任意挡板可以灵活拆装，可以根据需要灵活拆卸挡板或增加挡板来改变雾化通道的雾化路径，便于实现不同雾化效果，雾化路径的调整十分方便，且雾化路径的调整实现成本低。

技术特征：

1.一种雾化器，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的雾化器，其特征在于，还包括用于与进液管路连接的截止阀，所述截止阀的进口与所述进液管路连接，所述截止阀的出口与所述进液口连接。

3.根据权利要求1所述的雾化器，其特征在于，所述导热多孔填充物为泡沫铜或泡沫铝。

4.根据权利要求1所述的雾化器，其特征在于，还包括：

5.根据权利要求1所述的雾化器，其特征在于，多个所述挡板依次等间距平行设置于所述腔体内。

6.根据权利要求1所述的雾化器，其特征在于，多个所述挡板通过螺钉固定于所述腔体内。

7.根据权利要求2所述的雾化器，其特征在于，还包括：

8.根据权利要求7所述的雾化器，其特征在于，还包括第一u形架及第二u形架，所述第二u形架固定于支撑座上，所述第一u形架与所述第二u形架可拆卸连接，所述截止阀固持于所述第一u形架与所述第二u形架之间。

9.根据权利要求8所述的雾化器，其特征在于，所述第一u形架设置有第一定位凹槽和第一定位凸起，所述第二u形架设置有与所述第一定位凹槽配合的第二定位凸起及与所述第一定位凸起配合的第二定位凹槽，所述第一定位凸起嵌入所述第二定位凹槽内，所述第二定位凸起嵌入所述第一定位凹槽内。

10.一种pecvd镀膜装置，其特征在于，包括镀膜腔体、及如权利要求1至9任意一项所述的雾化器，所述雾化器的所述出雾口与所述镀膜腔体相连通。

技术总结
本技术适用于雾化器技术领域，提供了一种雾化器及PECVD镀膜装置，雾化器包括：内设置有腔体的阀体，阀体设有与腔体连通的进液口；盖设于阀体并封装腔体的盖板；与阀体连接的连接座，连接座设有与腔体连通的出雾口；可拆卸固定于腔体内的多个挡板，相邻两个挡板相对间隔形成一连通空间，各连通空间依次连通形成相应雾化路径的雾化通道，雾化通道连通进液口与出雾口；填充于雾化通道内的导热多孔填充物；设置于腔体内的加热装置。本技术提供的一种雾化器可以根据需要灵活拆卸挡板或增加挡板来改变雾化通道的雾化路径，方便雾化路径的调整，且雾化路径的调整实现成本低。

技术研发人员：安祥乐,云洋,苏建华,李顺
受保护的技术使用者：深圳奥拦科技有限责任公司
技术研发日：20230207
技术公布日：2024/1/13